当前位置:文档之家› 保护基团方法大全

保护基团方法大全

Protecting Groups in Organic Synthesis

选择保护基的原则:
(1) 保护基的供应来源,包括经济程度。 (2) 保护基团必须能容易进行保护,且保护效率高。 (3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性, 如保护中忌讳产生新的手性中心。 (4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过 程。 (5) 保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。 (6) 保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。 (7) 去保护过程的副产物和产物能容易被分离。 呼之即来,挥之即去。 呼之即来,挥之即去。 切莫请神容易,送神难。 切莫请神容易,送神难。

羟基的保护基
1). 酯类保护基 t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.
OH HO OH OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2 0-25 oC
HO
O
O
90% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453

酯类保护基的除去(cleavage) 碱性条件下水解, 水解能力: t-BuCO(Piv) < PhCO < MeCO < ClCH2CO 常用的碱:K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系,如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3
OTBDMS TBDMSO O O OTBDMS
DIBAL(2.5eq) CH2Cl2, -78 oC
TBDMSO
OH
95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453

ClCH2CO的去除可以用硫脲,氨/甲醇,苯,吡啶水溶液, NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。
O O O O O OBn
Cl
OBn
OBn HO
OBn
OBn
AcO
OBn
OBn
NH2NH2 (15eq) HOAc-HOMe rt, 12 h
AcO O
O
OBn
OBn
AcHN
AcHN
O OBn
74% Cook, A. F.; Maichuk, D. T. J. Org. Chem., 1970, 35, 1940.

OR AcO O RO O O O OR Ph O O O O H2NHN S SH HO AcO
OH O O O O O OH Ph O O O
Dioxane, i-Pr2NEt
AcO
AcO
R = ClCH2CO
40%
Smith, A.B.; Hale, K. J.; Vaccaro, H. A.; Rivero, R. A. J. Am. Chem. Soc, 1991, 113, 2112.

2). 硅醚保护基 硅醚保护基主要有: Me3Si (trimethylsilyl, TMS); (triethylsilyl, TES); Et3Si t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS) i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS) t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS) 酸水解相对稳定性: TMS(1) < TES(64) < TBDMS(20,000) < TIPS(700,000) < TBDPS (5,000,000) 碱水解相对稳定性: TMS(1) < TES(50) < TBDMS = TBDPS (20,000) < TIPS(100,000) 硅醚保护基的除去: (F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol) 通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN

TMS ether: TMSCl or TMSOTf in pyridine, NEt3, I-Pr2NEt, imidazole, DBU
O
OH
CO2Me COOBu-t
O OTMS CO2Me
Me3SiCl-Im 100 C, 90 min.
o
O O O
H OTBS
COOBu-t O O O H OTBS
100% Kerwin, S. M.; Paul, A. G.; Heathcock, C. H. J. Org. Chem., 1987, 52, 1686

TES ether:
TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6-dimethylpyridine
OH O OTES O
TESOTf (1.1eq)
H
Py, MeCN, o -50 C, 10 min. 79%
H
Heathcook, C. H.; Young, S. D.; Hagen, J. P.; Pilli, R.; Badertscher, U. J. Org. Chem., 1985, 50, 2095

TBDMS ether: TBDMSCl / imid. / DMF; TBDMSOTf / 2,6-dimethylpyridine
OH OBz OBMP O O
TBDMSOTf 2,6-di-tert-buylepyridine CH2Cl2, rt, 24 h
OTBS OBz OBMP O O
Hikota, M.; Tone, H., Horita, K.; Yonemitsu, O. J. Org. Chem., 1990, 55, 7.

TBDPS ether: BDPSCl / imid. / DMF, catalyst: DMAP, solvent: CH2Cl2
BnO OH BnO
TBDPSCl(1.2eq)
OH OH
OTBDPS
imidazole(1.2eq) DMF, rt,
OH OH
80% Nicolaou, K. C.; Pavia, M. R.; Seitz, S. P. J. Am. Chem. Soc., 1981, 103, 1224.

TIPS ether: TIPSCl / DMF / imidazole.
OH CO2Me
OTIPS
TIPSCl(1 eq) imidazole(2.5 eq) DMF, rt, 48 h 87%
CO2Me
Bennett, F.; Knight, D. W.; Fenton, G. J. Chem. Soc. Perkin. Trans. I , 1991, 1543.

Cleavage
OTBDPS OH OTBS OH OMe OMe
HOAc-THF-H2O 3:1:1
OTBDPS
OH
OH OH
87% Marshell, J. A.; Sedrani, R. J. Org. Chem., 1991, 56, 5496.

Cleavage
TBSO O O H OPiv OTBS O O O TBSO O O H
HF-CH3CN -25 C
O
o
OPiv OH
85% Danishefsky, S. J.; Armistead, D. M.; Wincott, F. E.; Selnick, H. G; Hungate, R. J. Am. Chem. Soc., 1989, 111, 2967.

cleavage
TBDMSO O O N3 O CO2Me O OTBDMS
TBAF THF, rt
HO
O O
N3
O
CO2Me O OTBDMS
90% Nakata, T.; Fukui, M.; Oishi, T. Tetrahedron Lett., 1988, 29, 2219.

Cleavage
HO TBSO TBSO
HF (2 eq) MeCN, 50 oC
OTBS OTBS
TBAF (1 eq) THF, 0 oC
OH
92%
83% Collington, E. W.; Finch, H. Smith, I. J. Tetrahedron Lett., 1985, 26, 681.

O O O O O OTBS N O O O H
cleavage
OTIPS O H O
HF / MeCN
OTIPS O O O H O O OH N O O O OH H O H O
OH
FK-506, 73% Nakatsuka, M.; Ragan, J. A.; Sammakia, T.; Smith, D. B.; Uehling, D. E.; Schreiber, S. L. J. Am. Chem. Soc., 1990, 112, 5583.

烷基醚类:
Me (甲基醚) reagent: MeI; (MeO)2SO2; MeOTf cleavage: TMSI/CH3Cl(CH2Cl or MeCN) or BBr3 / CH2Cl2 Bn (苄基醚) reagent: PhCH2Br or PhCH2Cl cleavage: H2 / 10% Pd/C, Raney-Ni, Rh-Al2O3; Li(Na)/NH3 PMB (对甲氧基苄基醚); DMB or DMPB (3,4-二甲氧基苄基醚) reagent: PMBCl; p-MeOC6H4CH2O-C(=NH)CCl3 cleavage: DDQ, CAN Tr (三苯甲基醚) reagent: TrCl/Py/DMAP; TrOTf/2,6-dimethylpyridine claevage: HCO2H-H2O; HCO2H-tert-BuOH; HCl/MeCN; Na/NH3 tert-butyl (叔丁基醚) reagent: isopropene/CH2Cl2; t-BuO-C(=NH)CCl3 cleavage: HCO2H; CF3CO2H; HBr-HOAc, FeCl3; TiCl4; TMSI allyl (烯丙基醚) reagent: Allyl bromide cleavage: t-BuOK/DMSO/NaOH

烷氧基烷基醚
MOM(甲氧基甲基醚) methoxymethyl ether MTM(甲硫基甲基醚) methylthiomethyl ether MEM(甲氧基乙氧基甲基醚) methoxyethoxymethyl ether BOM(苄氧基甲基醚) benzyloxymethyl ether SEM(三甲硅基乙氧基甲基醚) trimethylsilylethoxymethyl ether reagents: RCl or RBr/NaH/THF cleavage: MOM HCl/THF/H2O(1:2:1); Lewis acid: Me3SiBr/CH2Cl2; Me2BBr/CH2Cl2 MTM AgNO3/2,6-dimethylpyridine; HgCl2/CaCO3 MEM ZnBr2/CH2Cl2;HBr/THF;TiCl4/CH2Cl2; MeBBr/CH2Cl2 BOM Na/NH3/EtOH, H2/Pd(OH)2/C;Raney-Ni/EtOH;BF3/PhSH/CH2Cl2 SEM HCl/MeOH; Lewis acid; THP(四氢吡喃) tetrahydropyrane ether reagents: DHP(3,4-dihydro-2H-pyran) cleavage: HOAc/THF/H2O (4:2:1)

O,O-Acetals(缩醛和缩酮)
Reagents: Acetone; benzaldehyde,cyclo-ketone Cleavage: Acid; Lewis acid
Silylene derivatives(硅烯衍生物 硅烯衍生物) 硅烯衍生物
DTBS (di-tert-butylsilylene) reagent: t-Bu2SiCl2/Et3N/HOBT/MeCN; (HOBT 1-hydroxybenzotriazole) t-Bu2Si(OTf)2/2,6-dimethylpyridine/CH2Cl2 Cleavage: HF-Py/THF-Pyridine, rt

特殊符号大全

特殊符号大全,各式符号图案、表情符号今日刚好要用到特殊符号大全,每次要找都要花一些時間,想說不如自己來好好整理一下,整理成一個特殊符號大全完整版,方便自己也方便網民,這篇的屬性較難歸類,所以就放在我的宅日記中囉! 在网络上常常看到许多很特别的特殊符号,像是符号图案、爱心符号、星星符号,但不知道爱心符号怎么打出来,星星符号怎么打?其实这些特殊符号怎么打是有方法的,像是使用特别的输入法,例如呒虾米输入法、内码输入法,或是使用V键加上数字键这种特殊符号输入法或搜狗拼音输入法去打出这些特殊符号,不过这样做实在太累了,因为当你要查表来用特殊符号输入法打出这些特殊符号,还不如使用最简单的方法,就是直接“复制”、“贴上”啰!这样最快、最省力。 所以阿宅星这边整理了各种符号图案、表情符号可爱图、常被使用的QQ符号,常见的标点符号及英文符号、日文符号、韩文符号都有!比较少见的特别符号像是非主流符号、火星文符号、音符符号、箭头符号、键盘符号、数字符号、星星符号、爱心符号。和钱有关的欧元符号、人民币符号、日元符号、英镑符号,应有尽有,可以说是最完整的特殊符号大全!如果你喜欢,可以把此页加入书签,要用的时候直接叫出本网页,这样最方便啰! 注:如果有的符号显示为正方形空格,表示您的浏览器不支援这符号(例如旧的IE 6.0浏览器),请升级为新版的IE 8以上或使用Firefox浏览器。符号大全

选择想找的符号类型,可以快速找到已整理好的表格喔!如果您只是想单纯找已经整理好的个性符号组合,请见个性符号大全一文。 爱心星星箭头符号图案 框线填色方块数字英文 货币标点符号括号表情 音乐圆圈中文字数学希腊字母 日文韩文特殊字母注音符号 爱心符号大全 爱心符号怎么打?不用打直接复制最快,目前共收集五种爱心符号。 ????? 星星符号大全 星星符号怎么打?不用打直接复制最快,目前共收集九种星星符号。 ★?☆?????? 箭头符号大全 ↑↓←→↖↗↙↘?? ?????????? ?????????? ??????????

HTML特殊字符集

注:本文档来自W3school,要了解详细请点这里 HTML ASCII 参考手册 HTML 和XHTML 用标准的7 比特ASCII 代码在网络上传输数据。 7 比特ASCII 代码可提供128 个不同的字符值。 7 比特可显示的ASCII 代码 结果描述实体编号 space ! exclamation mark ! " quotation mark " # number sign # $ dollar sign $ % percent sign % & ampersand & ' apostrophe ' ( left parenthesis ( ) right parenthesis ) * asterisk * + plus sign + , comma , - hyphen - . period . / slash /

0 digit 0 0 1 digit 1 1 2 digit 2 2 3 digit 3 3 4 digit 4 4 5 digit 5 5 6 digit 6 6 7 digit 7 7 8 digit 8 8 9 digit 9 9 : colon : ; semicolon ; < less-than < = equals-to = > greater-than > ? question mark ? @ at sign @ A uppercase A A B uppercase B B C uppercase C C D uppercase D D E uppercase E E F uppercase F F G uppercase G G H uppercase H H I uppercase I I

常见有机化合物官能团

常见有机化合物官能团 1. 苯基 苯(benzene, C6H6)有机化合物,是组成结构最简单的芳 香烃,在常温下为一种无色、有甜味的透明液体,并具有强烈的芳香气味。可燃,有毒,为IARC 第一类致癌物。苯具有的环系叫苯环,是最简单的芳环。苯分子去掉一个氢以后的结构叫苯基,用Ph 表示。因此苯也可表示为PhH 2. 羟基羟基,又称氢氧基。是由一个氧原子和一个氢原子相连组成的一价原子团,化学式-OH。 在无机物中在无机物中,通常含有羟基的为含氧酸或其的酸式盐。含羟基的物质溶解于水会电离出氢离子,因此含羟基的物质水溶液多成偏酸性。 在有机物中在有机化学的系统命名中,在简单烃基后跟着羟基的称作醇,而糖类多为多羟基醛或酮。 羟基直接连在苯环上的称作酚。 具体命名见OH 原子团的命名注:乙醇为非电解质,不显酸 性。 羟基的性质 1. 还原性,可被氧化成醛或酮或羧酸

2. 弱酸性,醇羟基与钠反应生成醇钠,酚羟基与氢氧化钠反应生成酚钠 3. 可发生消去反应,如乙醇脱水生成乙烯 OH 原子团的命名此原子团在有机化合物中称为羟基,是醇( ROH )、酚(ArOH )等分子中的官能团;在无机化合物水溶液中以带负电荷的离子形式存在(OH-1 ),称为氢氧根。当羟基与苯环相连形成苯酚时,可使苯环致活,显弱酸性。再进基主要进入其邻位、对位。 羟基与氢氧根的区别在很多情况下,由于在示性式中,羟基和氢氧根的写法相同,因此羟基很容易和氢氧根混淆。 虽然氢氧根和羟基均为原子团,但羟基为官能团,而氢氧根为离子。而且含氢氧根的物质在水溶液中呈碱性,而含羟基的物质的水溶液则多呈偏酸性。氢氧根和羟基在有机化学上的共性是亲核性。 有机合成中羟基的保护羟基是有机化学中最常见的官能团之一,无论是醇羟基还是酚羟基均容易被多种氧化剂所氧化。因此在多官能团化合物 的合成过程中,羟基或者部分羟基需要先被保护,阻止它参与反应,在适当的步骤中再被转化。 3. 烃基

常见的羟基的保护与脱保护方法

目录 1.简介 (2) 2.硅醚 (2) 2.1三甲基硅醚(T M S-O R) (3) 2.2叔丁基二甲基硅醚(T B D M S-O R) (4) 2.3叔丁基二苯基硅醚(T B D P S-O R) (4) 3.苄醚 (6) 4.取代苄醚 (7) 5.取代甲基醚 (8) 6.四氢吡喃醚 (9) 7.烯丙基醚 (10)

1.前言 羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中,如核苷,碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。。另外,羟基也是有机合成中一个很重要的官能基,其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中,我们常常需要将羟基保护起来。在含有多官能团复杂分子的合成中,如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在,如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯,以醚更为常见。一般用于羟基保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多,但在糖及核糖化学中较为多见。 2.羟基硅醚保护及脱除 硅醚是最常见的保护羟基的方法之一。随着硅原子上的取代基的不同,保护和去保护的反应活性均有较大的变化。当分子中有多官能团时,空间效应及电子效应是影响反应的主要因素。在进行选择性去保护反应时,硅原子周围的空间效应,以及被保护分子的结构环境均需考虑。例如,一般情况下,在TBDMS基团存在时,断裂DEIPS( 二乙基异丙基硅基) 基团是较容易的,但实际得出的一些结果是相反的。在这些例子中,分子结构中空间阻碍是产生相反选择性的原因。电子效应的不同也会影响反应的选择性。对于两种空间结构相似的醇来说,电子云密度不同造成酸催化去保护速率不同,因此可以选择性去保护。这一点对酚基和烷基硅醚特别有效:烷基硅醚在酸中容易去保护,而酚基醚在碱性条件下更容易去保护。降低硅的碱性还可以用于改变Lewis酸催化反应的结果,并且有助于选择性去保护。在硅原子上引入吸电子取代基可以提高碱性条下水解反应的灵敏性,而对酸的敏感性降低。对大多数醚来说,在酸中的稳定性为TMS (1)

网页中的特殊符号

网页中的特殊符号 使用前: 1,快速创建出各种符号在页面显示 2,确保页面使用utf-8编码 3,不适用与移动端 4,因浏览器不同会造成一定差异 ?箭头类 符号 UNICODE 符号 UNICODE HTML JS CSS HTML JS CSS ?? \u21E0 \21E0 ?? \u21E2 \21E2 ?? \u21E1 \21E1 ?? \u21E3 \21E3 ?? \u219E \219E ?? \u21A0 \21A0 ?? \u219F \219F ?? \u21A1 \21A1 ←← \u2190 \2190 →→ \u2192 \21 92 ↑↑ \u2191 \2191 ↓↓ \u2193 \21 93 ?? \u2194 \2194 ?? \u2195 \219 5 ?? \u21C4 \21C4 ?? \u21C5 \21C5 ?? \u21A2 \21A2 ?? \u21A3 \21A3 ?? \u21DE \21DE ?? \u21DF \21DF ?? \u21AB \21AB ?? \u21AC \21AC ?? \u21DC \21DC ?? \u21DD \21D D ?? \u219A \219A ?? \u219B \219B ?? \u21AE \21AE ?? \u21AD \21AD ?? \u21E6 \21E6 ?? \u21E8 \21E8 ?? \u21E7 \21E7 ?? \u21E9 \21E9 ▲▲ \u25B2 \25B2 ?? \u25BA \25B A ▼▼ \u25BC \25BC ?? \u25C4 \25C 4 ?? \u2794 \2794 ?? \u2799 \27 99 ?? \u27A8 \27A8 ?? \u27B2 \2 7B2 ?? \u279C \279C ?? \u279E \2 79E ?? \u279F \279F ?? \u27A0 \27 A0 ?? \u27A4 \27A4 ?? \u27A5 \2

高中化学二轮复习试题有机化学推断中的官能团保护

2020届届届届届届届届届届届届届 ——届届届届届届届届届届届届届 1.化合物Q是一种药物的中间体,某研究小组设计如下合成路线制备化合物Q。 已知:; ; Ⅲ.RCOOH RCOCl RCONHR' 回答下列问题: (1)反应②的试剂为;反应⑨和⑩的反应类型分别是、。 (2)化合物B的结构简式;C中官能团的名称。 (3)反应⑦的化学方程式为。 (4)下列说法不正确的是。 A.设计反应①和⑤是为了保护酚羟基 B.化合物Q的分子式为C10H10NO C.化合物E能发生水解反应、加成反应、取代反应、加聚反应 D.RCOOH与SOCl2反应的产物有SO2和HCl

(5)符合下列条件D的同分异构体有种:a.能发生银镜反应;b.能发生水解反应,且水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应。 其中核磁共振氢谱显示为5组峰,且峰面积比为2∶2∶2∶2∶1的是 (写结构简式)。 (6)设计以丁酸为原料制备的合成路线(用流程图表示,无机试剂任 选) 。 2.福酚美克是一种影响机体免疫力功能的药物,可通过如图所示方法合成: (1)写出物质A中所含官能团的名称:________,A与足量氢氧化钠溶液充分反应,最多消耗________molNaOH? (2)C→D的转化属于________反应(填反应类型)? (3)上述流程中设计A→B步骤的目的是________? (4)福酚美克与过量碳酸氢钠溶液反应的方程式为? (5)福酚美克的同分异构体X满足下列条件: Ⅰ.苯环上有三个取代基; Ⅱ.与福酚美克具有相同官能团; Ⅲ.能与FeCl3溶液发生显色反应? 符合上述条件的同分异构体有________种? (6)参照上述合成路线和信息,以乙醛为原料(无机试剂任选),设计制备 的合成路线:________?

有关官能团的保护

有机合成中的基团保护、导向基(高考必备) (一)基团保护 在有机合成中,些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取对这些基团进行保护,完成合成后再除去保护基,使其复原。 对保护措施一定要符合下列要求:①只对要保护的基团发生反应,而对其他基团不反应;②反应较容易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其他基团。 下面只简略介绍要保护的基团的方法。 1、羟基的保护 在进行氧化反应或某些在碱性条件进行的反应,往往要对羟基进行保护。如防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。 防止羟基氧化可用酯化反应。 2、对氨基的保护 氨基是个很活泼的基团,在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反应时往往要对氨基进行保护。 (1)乙酰化 (2)对NR 2可以加H + 质子化形成季铵盐,– NH 2也可加H + 成 – NH 3而 保护。 3、对羰基的保护 羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。对羰基的保护一般采用缩醛或缩酮反应。 4、对羧基的保护 羧基在高温或遇碱性试剂时,有时也需要保护,对羧基的保护最常用的是酯 – OH –OR – NH 2 CH 3 COCl 或酸酐 –NH 2-C -CH 3 O –COOH + R –OH – COOR H + –CHO + 2ROH – CH(OR)2 H + -O -C -R O – OH

化反应。 5、对不饱和碳碳键的保护 碳碳重键易被氧化,对它们的保护主要要加成使之达到饱和。 (二)导向基 在有机合成中,往往要“借”某个基团的作用使其达到预定的目的,预定目的达到后,再把借来的基团去掉,恢复本来面貌,这个“借”用基团 我们叫“导向基”。当然这样的基团,要符合易“借”和易去掉的原则,如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯的亲电取代反应中,溴是邻、对位取代基,而1,3,5 – 三溴苯互居间位,显然不是由溴的定位效应能引起的。但如苯上有一个强的邻、对位定位基存在,它的定位效应比溴的定位效应强,使溴进入它的邻、对位,这样溴就会呈间位,而苯环上原来并无此类基团,显然要在合成时首先引入,完成任务后,再把它去掉,恰好氨基能完成这样的任务,因为它是一个强的邻、对位定位基,它可如下引入: – H → – NO 2 → – NH 2 ,同时氨基也容易去掉:– NH 2 → – N 2 → – H 因此,它的合成路线是: 根据导向基团的目的不同,可分为下列几种情况: 1、致活导向 假如要合成 可以用 但这种方法产率低,因为丙酮两个甲基活性一样,会有副反应发生: 但在丙酮的一个甲基上导入一个致活基团,使两个甲基上的氢的活性有显著 O C 6H 5 O + C 6H 5 Br O C 6H 5 C 6H 5 Br O C 2H 5ONa O O COOC 2H 5 1)H 3O O O C 6H 5 C 6H 5 Br 碱 C 6H 5 Br 碱 O C 6H 5 C 6H 5 O

网页特殊符号大全

网页特殊符号大全(在这里您将看到几乎所有的特殊符号). ?特殊符号:?????Θ???¤?㈱@の???????? ???????? ? ? ? ? ? ? ? ? ??????? ? 回? 』? ′?″?↘↙????‖$ @ * & # ? 卍卐?Φ §? ? ? * ????????????? ? ?? ? ??? ?????????????????????? ?标点符号:.。,、;:?!íì¨`~ ?~‖?"'`|?… —~ - 〃 ‘’“”??【】々〆〇〈〉《》「〒〓」『()[]{}︻︼﹄﹃ ?数学符号:+-??﹢﹣a/=?※ ? ? ? ? ?﹤﹥? ? ? =? ? <>? ? ? ? ? ? ? ? ?  ̄ ? ? ? ? ‵ ? ? ? ? ※ ? ? ??? ??%? ?单位符号:???????????℡ %? ? ℉ ???$?¥?? ?℅ ?数字序号:? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ㄜㄝㄞㄟㄠㄡㄢㄣㄤㄥ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ⒗ ⒘ ⒙ ⒚ ⒛ ‥ … ? ? ? ? ? ? ‰ ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ ?希腊字母:ΑΒΓΓΔΕΖΘΗΚΛΜΝΞΟΠΡ?ΣΤΦΥΦΧ αβγδεδλμνπξζεζηθικηυθχψω ?俄语字符:АБВГДЕЁЖЗИЙКЛМНОПРСТУФХЦЧШЩЪЫЬЭЮЯ абвгде?жзийклмнопрстуфхцчшщъыьэюя ?汉语拼音:o ? ? - à μ ? ′ ? ° ? ˉ ? 3 ? 2 á ? ? · ? ? è é 1 ± ê ? ? ? ?????ーヽヾ??????ㄅㄆㄇㄈㄉㄊㄋㄌㄍㄎㄏㄐㄑㄒㄓㄔㄕㄖㄗㄘㄙㄚㄛ ?中文字符: 偏旁部首:横起:夬丅乛竖起:丄丩乚撇起:夊亅亇厃?捺起:丂 零壹贰叁肆伍陆柒捌玖拾佰仟万亿吉太拍艾分厘毫微 卍卐卄巜弍弎弐朤氺曱甴囍兀?〆の〔????????? ?日语:〔〕〖〗?????〝〞??〡〢〣〤〥〦〧〨〩????????????????????にぬねのはばぱひびぴふぶぷへべぺほぼぽまみむめもゃやゅゆょよらりる れろゎわゐゑをん

高中化学有机合成中的官能团保护

高中化学有机合成中的官能团保护在有机合成中,某些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取措施保护某些官能团,待完成反应后再除去保护基,使其复原。 1、保护措施必须符合如下要求 ①只对要保护的基团发生反应,而对其它基团不反应; ②反应较易进行,精制容易; ③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其它基团。 2、常见的基团保护措施 ①羟基的保护 在进行氧化或某些在碱性条件下进行的反应,往往要对羟基进行保护。 a.防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。 b.防止羟基氧化可用酯化反应。 ②对羧基的保护 羧基在高温或碱性条件下,有时也需要保护。对羧基的保护最常用的是酯化反应。 ③对不饱和碳碳键的保护 碳碳双键易被氧化,对它们的保护主要用加成反应使之达到饱和。 ; ④对羰基的保护(以信息题出现) 羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。对羰基的保护一般采用生成缩醛或缩酮的反应。

(缩醛或缩酮) (缩酮) 生成的缩醛或缩酮水解又变成原来的醛或酮。 3、题例解析 例1、已知下列信息:①烯键在一定条件下氧化可生成二元醇: ②醛能发生如下反应生成缩醛: 缩醛比较稳定,与稀碱和氧化剂均难起反应,但在稀酸中温热,会水解为原来的醛。 现有如下合成路线: 试回答下列问题: (1)写出A、B的结构简式:________、________。 (2)写出反应Ⅲ的化学方程式:________。 解析:由题给信息知,欲使CH2=CH—CHO变为CH2OH—CHOH—CHO,需将C=C双键氧化,而—CHO对氧化剂敏感,故应先进行保护,待C=C双键氧化完毕,再将醛基还原出来,故合成路线为:

有机化学基团简称(修正版)

Ac Acetyl 乙酰基 DMAP 4-dimethylaminopyridine 4-二甲氨基吡啶 acac Acetylacetonate 乙酰丙酮基 DME dimethoxyethane 二甲醚 AIBN Azo-bis-isobutryonitrile 2,2'-二偶氮异丁腈 DMF N,N'-dimethylformamide 二甲基甲酰胺 aq. Aqueous 水溶液 dppf bis (diphenylphosphino)ferrocene 双(二苯基膦基)二茂铁 9-BBN 9-borabicyclo[3.3.1]nonane 9-硼二环[3.3.1]壬烷 dppp 1,3-bis (diphenylphosphino)propane 1,3-双(二苯基膦基)丙烷 BINAP (2R,3S)-2,2’-bis (diphenylphosphino)-1,1’-binaphthyl (2R,3S)-2.2'-二苯膦-1.1'-联萘亦简称为联二萘磷 BINAP是日本名古屋大学的Noyori(2001年诺贝尔奖)发展的一类不对称合成催化剂dvb Divinylbenzene 二乙烯苯 Bn Benzyl 苄基 e- Electrolysis 电解 BOC t-butoxycarbonyl 叔丁氧羰基(常用于氨基酸氨基的保护) %ee % enantiomeric excess 对映体过量百分比(不对称合成术语) %de % diasteromeric excess 非对映体过量百分比(不对称合成术语) Bpy (Bipy) 2,2’-bipyridyl 2,2'-联吡啶 EDA (en) ethylenediamine 乙二胺 Bu n-butyl 正丁基 EDTA Ethylenediaminetetraacetic acid 乙二胺四乙酸二钠 Bz Benzoyl 苯甲酰基 EE 1-ethoxyethyl 乙氧基乙基 c- Cyclo 环- Et Ethyl 乙基 FMN Flavin mononucleotide 黄素单核苷酸 CAN Ceric ammonium nitrate 硝酸铈铵 Cat. Catalytic 催化 Fp flash point 闪点 CBz Carbobenzyloxy 苄氧羰基 FVP Flash vacuum pyrolysis 闪式真实热解法 h hours 小时 Min Minute 分钟 hv Irradiation with light 光照 COT 1,3,5-cyclooctatrienyl 1,3,5-环辛四烯 1,5-HD 1,5-hexadienyl 1,5-己二烯 Cp Cyclopentadienyl 环戊二烯基 HMPA Hexamethylphosphoramide 六甲基磷酸三胺 CSA 10-camphorsulfonic acid 樟脑磺酸 HMPT Hexamethylphosphorus triamide 六甲基磷酰胺 CTAB Cetyltrimethylammonium bromide 十六烷基三甲基溴化铵(相转移催化剂 )

常用的特殊符号大全(非常实用)

常用的特殊符号大全(非常实用) ?特殊符号:?????Θ???¤?㈱@の???????? ???????? ? ? ? ? ? ? ? ? ??????? ? 回? 』? ′?″?↘↙????‖$ @ * & # ? 卍卐?Φ §? ? ? * ????????????? ? ?? ? ??? ?????????????????????? ?标点符号:.。,、;:?!íì¨`~ ?~‖?"'`|?… —~ - 〃 ‘’“”??【】々〆〇〈〉《》「〒〓」『()[]{}︻︼﹄﹃ ?数学符号:+-??﹢﹣a/=?※ ? ? ? ? ?﹤﹥? ? ? =? ? <>? ? ? ? ? ? ? ? ?  ̄ ? ? ? ? ‵ ? ? ? ? ※ ? ? ??? ??%??单位符号:???????????℡ %? ? ℉ ???$?¥?? ?℅ ?数字序号:? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ㄜㄝㄞㄟㄠㄡㄢㄣㄤㄥ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ⒗ ⒘ ⒙ ⒚ ⒛ ‥ … ? ? ? ? ? ? ‰ ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ ?希腊字母:ΑΒΓΓΔΕΖΘΗΚΛΜΝΞΟΠΡ?ΣΤΦΥΦΧ

αβγδεδλμνπξζεζηθικηυθχψω ?俄语字符:АБВГДЕЁЖЗИЙКЛМНОПРСТУФХЦЧШЩЪЫЬЭЮЯ абвгде?жзийклмнопрстуфхцчшщъыьэюя ?汉语拼音:o ? ? - à μ ? ′ ? ° ? ˉ ? 3 ? 2 á ? ? · ? ? è é 1 ± ê ?? ??????ーヽヾ??????ㄅㄆㄇㄈㄉㄊㄋㄌㄍㄎㄏㄐㄑㄒㄓㄔㄕㄖㄗㄘㄙㄚㄛ?中文字符: 偏旁部首:横起:夬丅乛竖起:丄丩乚撇起:夊亅亇厃?捺起:丂 零壹贰叁肆伍陆柒捌玖拾佰仟万亿吉太拍艾分厘毫微 卍卐卄巜弍弎弐朤氺曱甴囍兀?〆の〔????????? ?日语:〔〕〖〗?????〝〞??〡〢〣〤〥〦〧〨〩????????????????????にぬねのはばぱひびぴふぶぷへべぺほぼぽまみむめもゃやゅゆょよらりるれろゎわゐゑをん ?注音码:???????゛゜ゝゞ??ァアィイゥウェエォオカガキギクグケゲコゴサザシジスズセゼソゾタダチヂッツヅテデトドナニヌネノボポマミムメモャヤュユョヨラリルレロヮワヰヱヲンヴヵヶ

HTML特殊符号大全

特殊符号: ↑↓ → ←↘↙?◎〇● ★☆ ■ □「」『』◇◆◣◥△ ▲ Φ ※◤◥ № ? ∑ ⌒@μ δσ ∮〒※·|┆┇┊┋∵∴∷ぷ∏ 卐【】〖〗ㄨ╭╯╰╮Θ ??Ж ヽ卐Ж 囬の々?¤∮ ∩ 々♀ ♂ ⊿╰☆╮﹡@ # ▂▃ ▄ ▅▆▇ █ ▉▊▋▌▍▎▏■▓ 回□ 〒≡ |°¨ˇˉˊˋ˙‖‥… :·?①?◎Θ?●○¤?㈱@の■□★☆◆◇◣◢◤◥▲△▼▽⊿◢ 数学符号: @ ∞ ≡ ¥$± √ × ’ ‰ C° ≮≯≤≥ ∥∑ $¥%≠ Χ ≈ ≌??℉ 数字序号: ①②③④⑤⑥⑦⑧⑨⑩ № ?????????? ??????????⑴⑵⑶⑷⑸⑹⑺⑻⑼⑽ ⑾⑿⒀⒁⒂⒃⒄⒅⒆⒇⒈⒉⒊⒋⒌⒍⒎⒏⒐⒑ ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱⅲⅳⅴⅵⅶⅷⅸⅹ 重量单位: ????????? 注册标志:(注意:这两个符号不能直接粘贴复制,请复制代码然后插在网页内) ?网页代码® ?网页代码© 半角符号: ─━│┃┄┅┆┇┈┉┊┋┌┍ ┎┏┐┑┒┓└┕┖┗┘┙┚┛├┝┞┟┠┡┢┣┤┥┦┧┨┩┪┫┬┭┮┯┰┱┲ ┳┴┵┶┷┸┹┺┻┼┽┾┿╀╁╂╃╄╅╆╇╈╉╊╋═║╒╓╔╕╖╗╘╙╚╛ ╜╝╞╟╠╡╢╣╤╥╦╧╨╩╪╫╬ 拼音: ā á ǎ à ō ó ǒ ò ē é ě è ī í ǐ ì ū ú ǔ ù ǖ ǘ ǚ ǜ ü ê ɑ ń ň ɡ ?????ーヽヾ??????ㄓㄔㄕㄖㄗㄘㄙㄚㄛㄜㄝㄞㄟㄠㄡㄢㄣㄤㄥㄦㄧㄨㄩ 中文字符: 偏旁部首:横起:夬丅乛竖起:丄丩乚撇起:夊亅亇厃々捺起:丂 零壹贰叁肆伍陆柒捌玖拾佰仟万亿 卍卐卄巜弍弎弐朤氺曱甴囍兀々〆の?〡〢〣〤〥〦〧〨〩

保护基团方法大全

Protecting Groups in Organic Synthesis

选择保护基的原则:
(1) 保护基的供应来源,包括经济程度。 (2) 保护基团必须能容易进行保护,且保护效率高。 (3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性, 如保护中忌讳产生新的手性中心。 (4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过 程。 (5) 保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。 (6) 保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。 (7) 去保护过程的副产物和产物能容易被分离。 呼之即来, 呼之即来,挥之即去。 挥之即去。 切莫请神容易, 切莫请神容易,送神难。 送神难。

羟基的保护基
1). 酯类保护基 t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.
OH HO OH OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2 0-25 oC
HO
O
O
90% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453

酯类保护基的除去(cleavage) 碱性条件下水解, 水解能力: t-BuCO(Piv) < PhCO < MeCO < ClCH2CO 常用的碱:K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系,如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3
OTBDMS TBDMSO O O OTBDMS
DIBAL(2.5eq) CH2Cl2, -78 oC
TBDMSO
OH
95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453

最新常见的有机化学基团名称翻译说课材料

有机化学基团名称翻译 A 伸乙烷合萘基;伸二氢苊基acenaphtheneylene 亚乙烷合萘基;亚二氢苊基acenaphthenylidene 醋酰胺基;乙酰胺基acetamido; acetamino 乙炔基acetenyl;ethynyl 乙酰乙酰基acetoacetyl 丙酮基acetonyl 亚丙酮基acetonylidene 乙酰氧基acetoxy 乙酰基acetyl 乙酰亚胺基acetylimino 酸硝基aci-nitro 吖啶基acridinyl 丙烯酰基acrylyl; acryloyl 己二酰基adipoyl; adipyl 脲[基]羰基;脲甲酰基allophanyl; allophanoyl 烯丙基allyl 甲脒基amidino; guanyl 酰胺基amido 酰胺草酰基;草酰胺酰基amidoxalyl; oxamoyl 胺基amino 戊基amyl; pentyl 伸戊基amylene 亚戊基amylidene 亚戊基amylidene; pentylidene 苯胺基anilino 大茴香亚甲基;对甲氧苯亚甲基;对甲氧亚苄 基anisal; anisylidene 甲氧苯胺基anisidino 大茴香酰基;对甲氧苯甲酰基;对甲氧苄酰 基anisoyl 大茴香亚甲基;对甲氧亚苄基;对甲氧苯亚甲 基anisylidene; p-methoxybenzylidene; anisal 邻胺苯甲酰基;邻胺苄酰基anthraniloyl; anthranoyl 蒽基anthranyl; anthryl 蒽醌基anthraquinonyl 伸蒽基;次蒽基anthrylene 精胺酰基arginyl 亚胂酸基arsinico 胂基arsino 胂酸基arsono 亚胂基arsylene 细辛基;2,4,5-三甲氧苯基asaryl; 2,4,5-trimethoxyphenyl 天[门]冬酰胺酰基asparaginyl; asparagyl 天[门]冬胺酰基aspartyl 阿托酰基;颠茄酰基;2-苯丙烯酰基atropoyl 壬二酰基azelaxyl 迭氮基;三氮基azido; triazo 偶氮亚胺基azimino; azimido 次偶氮基azino 偶氮基azo 氧偶氮基azoxy B 苯亚甲基;亚苄基benzal 苯甲酰胺基;苄酰胺基benzamido 苯亚磺酰基benzene sulfinyl; phenylsulfinyl 苯磺酰胺基benzenesulfonamido 苯磺酰基benzenesulfonyl 次苄基benzenyl; benzylidyne 二苯甲基benzhydryl; diphenylmethyl 二苯亚甲基benzhydrylidene; diphenylmethylene 联苯胺基benzidino 亚苄基;苯亚甲基benzilidene 二苯羟乙酰基benziloyl 苯并咪唑基benzimidazolyl 苯甲酰亚胺基benzimido; benzoylimino 亚胺苄基benzimidoyl; benzimidoyle 苯并呋喃基;熏草基benzofuryl 苯并哌喃基benzopyranyl 苯并【口+咢】【口+井】基benzoxazinyl 苯并【口+咢】唑基benzoxazolyl 苯甲酰氧基;苄酰氧基benzoxy; benzoyloxy 苯甲酰基;苄酰基benzoyl 伸苯甲酰基benzoylene 苯甲酰亚胺基benzoylimino; benzimido 苯甲酰氧基benzoyloxy; benzoxy 苄基;苯甲基benzyl 亚苄基;苯亚甲基benzylidene; benzylene; benzal 次苄基;苯次甲基benzylidyne; benzenyl 联苯基biphenylyl 【草(之上)+伯】基;龙脑基;冰片基;莰基bornyl; camphenyl 丁二烯基butadienyl 次丁烯基butenylidyne 丁氧基butoxy 丁基butyl 伸丁基butylene 精品文档

HTML特殊字符编码大全

往网页中输入特殊字符,需在html代码中加入以&开头的字母组合或以&#开头的数字。下面就是以字母或数字表示的特殊符号大全。 -------------------------------------------------------------------------------- ′´ ?© > > μµ ?® & & °° ?¡   ?» |¦ ÷÷ ?¿ ?¬ §§ ?• ?½ ? « ? ¶ ¨ ¨ ?¸ ? ¼ < < ± ± × × ¢ ¢ ? ¾ ˉ ¯ “ " ? ™ -------------------------------------------------------------------------------- €€ £ £ ¥ ¥ --------------------------------------------------------------------- …„ … … · · ? › a ª

?ˆ “ “ — — ’ ’ o º ?† ? ‹ – – ? ‚ ” ” ?‡ ‘‘ ‰ ‰ - ­ ? ˜ -------------------------------------------------------------------------------- ≈≈ ? ⁄ ←← ? ∂ ? ♠ ∩∩ ≥≥ ≤≤ ″″ ∑∑ ? ♣ ? ↔ ? ◊ ′′ ↑↑ ↓↓ ? ♥ ? − ∏∏ ‍ ? ♦ ∞∞ ≠≠ √√ ‌ ≡≡ ∫∫  ̄ ‾ →→ ----------------------------------------------------------------------------

特殊符号怎么打出来_特殊符号大全

特殊符号怎么打出来特殊符号大全 钢筋符号:BCDEA℃ 了解这些后,下面我们就一起来看看使用alt+不同数字组合打出各种特殊符号吧: 由于特殊符号还有很多,打出的方法也不尽相同,由于篇幅原因,我们不能一一与大家介绍,最后我们为大家汇总上各种特殊符号大全,大家只需要复制粘贴到需要的地方就可以使用了,无需自己打。 囧?●○⊕◎Θ?¤㈱㊣★☆♀◆◇◣◢◥▲▼△▽⊿◤◥▂▃▄ ▅▆▇█ █ ■ ▓ 回□ 』≡ ╝╚╔ ╗╬ ═ ╓ ╩ ┠┨┯┷┏┓┗┛┳?》「┌ ┐└ ┘∟〉《↑↓→←↘↙♀♂┇┅﹉﹊﹍﹎╭╮╰╯*^_^* ^*^ ^-^ ^_^ ^(^ ∵∴‖||︴﹏﹋﹌()【】」『〒〓@:!/\ " _ < > `,·。≈{}~ ~() _ -》「√ $ @ * & # ※卐?∞Χ ∪∩∈∏ の℡〔§∮”〃ミ灬μ№∑?μδω*ㄚ≮≯+-×÷+-±/=∫∮∝∞ ∧∨∑ ∏ ‖∠≌?≤ ≥ ≈<>じ☆veve↑↓?●★☆ ■♀》「Χ ※→№←㊣∑?〒〓@μδω□∮』※∴ぷ∏卐」『△√ ∩¤?♀♂∞?ㄚ≡↘↙┗┛╰☆╮?????????????????? ????????????丨丩丬丶丷丿乀乙乂乄乆乛亅亠亻冂冫冖凵刂讠辶釒钅阝飠牜饣卩卪厸厶厽孓宀川巜彳廴三彐彳忄扌攵氵灬爫犭病癶礻糹纟罒冈耂艹虍言西兦亼亽亖亗 盲凸凹卝卍卐匸皕旡玊尐开木囘囙囚四囜囝回囟因女 团団囤亢囦囧囨云囱囫囬园化囯困囱囲図围抡囶囷正囹固囻囼国图囿圀圁圂圃吾圅圆囵圈幸青国圌围园圏圐圑员圆圔圕图圗团圙圚圛圈圝圞 一般常用特殊符号 ,、。.?!~$%@&#*? ;∶… ¨ ,· ˙ ? … ? “ ” ” 〃… ′ 〃↑ ↓ ← → ↖↗↙↘㊣◎○ ● ⊕?○ ● △▲ ☆★◇◆□ ■ ▽▼ §?〒??※♀ ♂ 贴图符号大全 A、希腊字母大写ΑΒΓΓΔΕΖΘΗΚ∧ΜΝΞΟ∏Ρ∑ΤΥΦΦΧΨ B、希腊字母小写α β γ δ ε δ ε ζ η θ ι κ λ μ ν π ξ ζ η υ θ χ ψ ω C、俄文字母大写АБВГДЕЁЖЗИЙКЛМНОПРСТУФХЦЧШЩЪЫЬЭЮЯ D、俄文字母小写а б в г д е ? ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ ъ ы ь э ю я

有机合成中基团的保护

基团的保护 方式一:使基团先参与反应又释放出 方式二:反应的先后顺序问题 (1)基团保护 ①醛基的保护如: ②双键的保护如: ③羟基的保护如: R--OH R--OCH3 R--OCH3R--OH ④羧基的保护如: ⑤氨基的保护如: 练习 1、(氨基的保护)苄佐卡因是一种医用麻醉药品,学名对氨基苯甲酸乙酯,它以对硝基甲苯为主要起始原料经下列反应制得: 请回答下列问题: (1)写出A、B、C的结构简式:A____________,B______________, C______________。 (2)用1H核磁共振谱可以证明化合物C中有____种氢处于不同的化学环境。 (3)①与②能否颠倒位置,为什么? 2、(酚羟基的保护)工业上用甲苯生产对- 羟基苯甲酸乙酯HO——COOC2H5(一种常用 的化妆品防霉剂),其生产过程如下(反应条件未全部注明)所示:

按上图填空: (1)有机物A 的结构简式为 (2)写出反应⑤的化学方程式(有机物写结构简式,注明反应条件) (3)反应②和反应④的反应类型分别是(选填编号) 、 a .取代反应,b .加成反应,c .消去反应,d .酯化反应,e .氧化反应 (4)写出反应③的化学方程式(有机物写结构简式,不用写反应条件,但要配平) (5)在合成线路中设计③和⑥两步反应的目的是 。 3、(醛基的保护)化合物A 是石油化工的一种重要原料,用A 和水煤气为原料经下列途径合成化合物D (分子式为C 3H 6O 3). 已知: 请回答下列问题: (1).写出下列物质的结构简式: A :__________; B :____________; C :_____________; D :___________. (2).指出反应②的反应类型______________________.(3).写出反应③的化学方程式_______________. (4).反应④的目的是___________________________________________________. (5).化合物D ’是D 的一种同分异构体,它最早发现于酸牛奶中,是人体内糖类代谢的中间产物.D ’在浓硫酸存在的条件下加热,既可以生成能使溴水褪色的化合物E (C 3H 4O 2),又可以生成六原子环状化合物F (C 6H 8O 4).请分别写出D ’生成E 和F 的化学方程式: A B COOH OCH 3 ③ 一定条件 ② Cl 2 ①催化剂 CH 3I CH 3 CH 3 OH C 2H 5OH ⑤ CH 3 OCH 3 ④ COOC 2H 5 OCH 3 HI ⑥ H CH 3

如何输入特殊符号

如何输入特殊符号(上标、下标、数学符号、单位等
教你如何在 word、excel 中输入特殊符号,包括上标、下标、数学符号、单位符号、分数等。 方法 1:用公式编辑器的方法输入分数。该方法是从 word 或者菜单栏里选择插入对象,然 后选择 Microsoft 公式 3.0 就可以编辑任何你想要的公式了。(使用本方法的前提是您的电 脑中装了 Microsoft 公式 3.0)另一个方法是用 EQ 域(如果您的电脑没有安装公式编辑器 的话可用此法)。例:输入分数的具体方法如下:按 C
教你如何在 word、excel 中输入特殊符号,包括上标、下标、数学符号、单位符号、分数等。 方法 1:用公式编辑器的方法输入分数。 该方法是从 word 或者菜单栏里选择“插入”>“对象”,然后选择“Microsoft 公式 3.0”就可以编 辑任何你想要的公式了。 (使用本方法的前提是您的电脑中装了“Microsoft 公式 3.0”)
另一个方法是用 EQ 域(如果您的电脑没有安装公式编辑器的话可用此法)。例:输入分数 的具体方法如下: 按“Ctrl+F9”组合键,出现灰底的大括号,里面有光标在闪动,在这个大括号里面输入“eq \f (X,Y)”(不含双引号),其中 X、Y 分别是分子和分母的式子(中文也行);最后按一下“S hift+F9”组合键,这个分式就打出来了。 比如要输入分数 3(X+Y)+Z/2X 的话,在这个大括号里面输入“eq \f(3(X+Y)+Z,2X)”(不含 双引号),最后按一下“Shift+F9”组合键,这个 3(X+Y)+Z/2X 分数就打出来了。 注:输入域代码“eq \f(3(X+Y)+Z,2X)”时需在英文输入法状态下输入,eq 后面有一个空格。 其实,经本人实践,EQ 域其实本身就是“Microsoft 公式 3.0”。 方法 2:使用 ASCII 码(按下 ALT 键的同时输入一组十进制的 ASCII 码序列) 例如:在 EXCEL 表格中输入平方数的 2(方法:按下 alt 键同时连续输入 178,然后释放 a lt 键即可)-----该输入方法除了适用于 word、excel,同时也适用于网页,记事本等快速输 入。 立方数的 3 的 ASCII 序列号为:179
在 word 中输入下标的办法:同时按下 ctrl 和= ,这时光标自动缩小到下半部分,随便输入 一个数字看看,呵呵。 输入上标(平方、立方等)的办法:同时按下 ctrl 、shift 和=,这 时光标自动缩小到上半部分,输入 2 或者 3 试试,呵呵。 附部分 ASCII 码表:

相关主题
相关文档 最新文档