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半导体激光器设计

半导体激光器设计
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半导体激光器设计

摘要:半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围宽,相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。

关键词:受激辐射;光场;同质结;异质结;大功率半导体激光器

、八—

0刖言

半导体激光器是指以半导体材料为工作物质的激光器,又称半导体激光二极管(LD), 是20世纪60年代发展起来的一种激光器。半导体激光器的工作物质有几十种,例如砷化傢(GaAs),硫化镉(CdS)等,激励方式主要有电注入式,光泵式和高能电子束激励式三种。半导体激光器从最初的低温(77K)下运转发展到室温下连续工作;从同质结发展成单异质结双异质结,量子阱(单,多量子阱)等多种形式。半导体激光器因其波长的扩展,高功率激光阵列的出现以及可兼容的光纤导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展.半导体激

光器的体积小,重量轻,成本低,波长可选择,其应用遍布临床,加工制造,军事,其中尤以大功率半导体激光器方面取得的进展最为突出。

1半导体激光器的工作原理

1.1激光产生原理

半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件:(1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激

发射作用。

(2) 要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内得到多次反馈而形成

激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜?对F —p腔(法布里一珀罗腔)半导体激光器可以很方便地利用晶体的与P—n结平面相垂直的自然解理面一[110]面构成F—P 腔。

(3) 为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔面的激光输出等引起的损耗,不断增加腔内的光场?这就必须要有足够强的电流注入,即有足够的粒子数反转,粒子数反转程度越高,得到的增益就越大,即要求必须满足一定的电流阀值条件?当激光器达到阀值时,具有特定波长的光就能在腔内谐振并被放大, 最后形成激光而连续地输出?可见在半导体激光器中,电子和空穴的偶极子跃迁是基本的

光发射和光放大过程。

1.2双异质结基本结构

将有源层夹在同时具有宽带隙和低折射率的两种半导体材料之间,以便在垂直于结平

面的方向(横向)上有效地限制载流子和光子。用此结构于1970年实现了GaAIAs/GaAs 激射波长为0.89卩曲勺半导体激光器在室温下能连续工作。

图表示出双异质结激光器的结构示意图和相应的能带图在正向偏压下

电子和空穴分别从宽带隙的N区和P区注进有源区。它们在该区的扩散又分别受到P -p 异质结和N-p异质结的限制,从而可以在有源区内积累起产生粒子数反转所需的非平衡载流子浓度。同时,窄带隙有源区高的折射率与两边低折射率的宽带隙层构成了一个限制光子在有源区内的介质光波导。

2半导体激光器的工作特性

2.1阈值电流

当注入p-n结的电流较低时,只有自发辐射产生,随电流值的增大增益也增大,达阈值电流时,p-n结产生激光。影响阈值的几个因素:

(1)晶体的掺杂浓度越大,阈值越小。

(2)谐振腔的损耗小,如增大反射率,阈值就低。

(3)与半导体材料结型有关,异质结阈值电流比同质结低得多。目前,室温下同质结的阈值电流大于30000A/cm2单异质结约为8000A/cm2;双异质结约为1600A/Cm2现在已用双异质结制成在室温下能连续输出几十毫瓦的半导体激光器。

(4)温度愈高,阈值越高。100K以上,阈值随T的三次方增加。因此,半导体激光器最好在低温和室温下工作。

2.2方向性

由于半导体激光器的谐振腔短小,激光方向性较差,在结的垂直平面内,发散角最大,可达20° -30°;在结的水平面内约为10°左右。

2.3量子效率

n =每秒发射的光子数/每秒到达结区的电子空穴对数77K时,GaAs激光器量子效率达70% —80%; 300K时,降到30%左右。功率效率n 1 =辐射的光功率/加在激光器上的电功率。由于各种损耗,目前的双异质结器件,室温时的n 1最高10%,只有在低温下才能达到30% —40%。

2.4光谱特性

由于半导体材料的特殊电子结构,受激复合辐射发生在能带(导带与价带)之间,所以激光线宽较宽,GaAs?光器,室温下谱线宽度约为几纳米,可见其单色性较差。输出激光的峰值波长:77K时为840nm 300K时为902nm

2.2温度特性

I th = 10 exp T T0

Ith —温度为T时的阈值电流

I0 —一个常数

T—结区的绝对温度

T0—LD的特征温度,与器件的材料、结构等有关。对于GaAs/GaALAs-LD T0=100~150K In GaAsP/l nP-LD T0=40~70K

图5.22 1.3/miBH激光器的输出功率一电流(阳拧陀間线

2.3半导体激光器的调制特性

半导体激光器的注入电流半导体激光器是指以半导体材料为工作物质的一类激光器,亦称半导体激光二级管。利用半导体激光器作干涉测量的光源,就是利用其在低频调制时注入电流与输出光频的线性关系。但不同的半导体激光器的这个线性关系又略有不同,因此,利用半导体激光器作为干涉测量系统的光源,就必须清楚地了解所用半导体激光器的注入电流的调制特性。当半导体激光器的注入电流发生改变时,其输出特性随

之变化:(1)当注入电流大于半导体激光器的阈值后,输出光为激光。且随着电流值

的增加,会有模跳变现象发生。任意两个相邻跳模间的线性区域不同,调制系数不同;(2)根据注入调制电流频率的大小,可将半导体激光器的输出光频特性分为线性区和非线性区。干涉测量系统的测量精度在一定程度上取决于注入电流与输出光频的线性关系及线性区的大小。理想的线性关系,较大的线性区是所期望的。但半导体激光器的线性区大多都比较小,在阀值以上有多个跳模存在。因此,恰当地选择线性段,避免跳模

的影响是关键;(3)注入电流增加,输出光功率增大,谱线宽度变窄,相干长度上升

[1 ]。注入电流的增加是有一定限制的,最高工作电流不应超过阀值电流的四倍,否则

器件会迅速老化。2 实验为了研究半导体激光器输出光频与注入电流的关系,人们作了许多工作。使用的仪器大多为光栅单色仪和法卜理------------- 帕罗干涉仪[2 ]

3半导体激光器实用组件

激光器组件是指在一个紧密结构中(如管壳中),除激光二极管(LD )芯片外,还配置其他元件和和实现LD工作必要的少量电路块的集成器件。主要包括:

(1) 光隔离器:其作用是防止LD输出的激光反射,实现光的单向传输。位于LD的输出光路上;

(2) 监视光电二极管(PD):其作用是监视LD的输出功率变化,通常用于自动功率控制。位于LD背出光面;

(3) 尾纤和连接器;

⑷LD的驱动电路(包括电源和LD芯片之间的阻抗匹配电路);

(5) 热敏电阻:其作用是测量组件内的温度;

⑹热电制冷器(TEC):一种半导体热电元件,通过改变外部工作电流的极性达到加热和冷却目的;

(7)其他准直激光器输出场的透镜、光纤耦合器及固定光纤的支架等。

参考文献

[1] 刘增基?半导体激光源?西安电子科技大学【期刊】光纤通信技术005,9( 10):81~93.

[2] 袁士彬?数字光接收机噪声分析及灵敏度计算.南京通信工程学院【期刊】光通信技术,1989 ,4( 2): 121~124.

[3] 李之驯,郭汝嵩?低噪声数字光接收机的设计.北京大学【期刊】通信学报,1983,3(2):66~69.

[4] 原荣?光纤通信技术讲座一一(七):光探测和光接收机?中国电子科技集团公司第三十四研究所桂林【期刊】光通信技术.2003,7(15):223~226.

脉冲激光测距仪的设计-课程设计

目录 第一章绪论 (1) 1.1设计背景 (1) 第二章脉冲激光测距仪的工作原理 (2) 2.1测距仪的简要工作原理 (2) 第三章脉冲激光器的结构及工作过程 (3) 3.1激光脉冲测距仪光学原理结构 (3) 3.1.1测距仪的大致结构组成 (3) 3.2主要的工作过程 (4) 3.3主要部件分析: (4) 3.3.1激光器(一般采用激光二极管) (4) 3.3.2激光二极管的特性 (5) 3.3.3光电器件(采用雪崩光电二极管APD) (6) 第四章影响测距仪的各项因素 (7) 4.1光脉冲对测距仪的影响 (7) 4.2发散角对测距仪的影响 (8) 第五章测距仪的光电读数显示 (9) 5.1距离显示原理及过程 (9) 5.2测量精度分析 (10) 5.3总述 (11) 参考文献 (11)

第一章绪论 1.1设计背景 在当今这个科技发达的社会,激光测距的应用越来越普遍。在很多领域,如电力,水利,通讯,环境,建筑,地质,警务,消防,爆破,航海,铁路,军事,农业,林业,房地产,休闲、户外运动等都可以用到激光测距仪。 激光测距仪一般具有精确度和分辨率高、抗干扰能力强、体积小、重量轻等优点,因而应用领域广、行业需求众多,市场需求空间大。 当前激光测距仪的发展趋势是向测量更安全、测量精度高、系统能耗小、体积小型化方向发展。激光测距仪一般采用两种方法来测量距离:脉冲法和相位法。而其中脉冲激光测距的应用领域也是越来越宽广,比如,地形测量、战术前沿测距、导弹运行轨道跟踪以及人造卫星、地球到月亮距离的测量等。脉冲激光测距法是利用激光脉冲持续时间非常短,能量相对集中,瞬时功率很大(可达几兆瓦)的特点,在有合作目标的情况下,脉冲激光测距可以达到极远的测程;如果只是利用被测目标对脉冲激光的漫反射所取得的微弱反射信号,也是可以测距的。因而脉冲激光测距法应用较多。

44瓦超高功率808nm半导体激光器设计和制作

44瓦超高功率808 nm半导体激光器设计与制作 仇伯仓,胡海,何晋国 深圳清华大学研究院 深圳瑞波光电子有限公司 1. 引言 半导体激光器采用III-V化合物为其有源介质,通常通过电注入,在有源区通过电子与空穴复合将注入的电能量转换为光子能量。与固态或气体激光相比,半导体激光具有十分显著的特点:1)能量转换效率高,比如典型的808 nm高功率激光的最高电光转换效率可以高达65%以上 [1],与之成为鲜明对照的是,CO2气体激光的能量转换效率仅有10%,而采用传统灯光泵浦的固态激光的能量转换效率更低, 只有1%左右;2)体积小。一个出射功率超过10 W 的半导体激光芯片尺寸大约为0.3 mm3, 而一台固态激光更有可能占据实验室的整整一张工作台;3)可靠性高,平均寿命估计可以长达数十万小时[2];4)价格低廉。半导体激光也同样遵从集成电路工业中的摩尔定律,即性能指标随时间以指数上升的趋势改善,而价格则随时间以指数形式下降。正是因为半导体激光的上述优点,使其愈来愈广泛地应用到国计民生的各个方面,诸如工业应用、信息技术、激光显示、激光医疗以及科学研究与国防应用。随着激光芯片性能的不断提高与其价格的持续下降,以808 nm 以及9xx nm为代表的高功率激光器件已经成为激光加工系统的最核心的关键部件。高功率激光芯片有若干重要技术指标,包括能量转换效率以及器件运行可靠性等。器件的能量转换效率主要取决于芯片的外延结构与器件结构设计,而运行可靠性主要与芯片的腔面处理工艺有关。本文首先简要综述高功率激光的设计思想以及腔面处理方法,随后展示深圳清华大学研究院和深圳瑞波光电子有限公司在研发808nm高功率单管激光芯片方面所取得的主要进展。 2.高功率激光结构设计 图1. 半导体激光外延结构示意图

半导体激光器的研究进展

半导体激光器的研究进展 摘要:本文主要述写了半导体激光器的发展历史和发展现状。以及对单晶光纤激光器进行了重点描述,因其在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,近年来成为新型固体激光源研究的热点。 一、引言。 激光是20 世纪以来继原子能、电子计算机、半导体之后人类的又一重大发明。半导体激光科学与技术以半导体激光器件为核心,涵盖研究光的受激辐射放大的规律、产生方法、器件技术、调控手段和应用技术,所需知识综合了几何光学、物理光学、半导体电子学、热力学等学科。 半导体激光历经五十余年发展,作为一个世界前沿的研究方向,伴随着国际科技进步突飞猛进的发展,也受益于各类关联技术、材料与工艺等的突破性进步。半导体激光的进步在国际范围内受到了高度的关注和重视,不仅在基础科学领域不断研究深化,科学技术水平不断提升,而且在应用领域上不断拓展和创新,应用技术和装备层出不穷,应用水平同样取得较大幅度的提升,在世界各国的国民经济发展中,特别是信息、工业、医疗和国防等领域得到了重要应用。 本文对半导体激光器的发展历史和现状进行了综述,同时因单晶光纤激光器在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,本文也将对其做重点描述。 二、大功率半导体激光器的发展历程。 1962 年,美国科学家宣布成功研制出了第一代半导体激光器———GaAs同质结构注入型半导体激光器。由于该结构的激光器受激发射的阈值电流密度非常高,需要5 × 104~1 ×105 A /cm2,因此它只能在液氮制冷下才能以低频脉冲状态工作。从此开始,半导体激光器的研制与开发利用成为人们关注的焦点。1963 年,美国的Kroemer和前苏联科学院的Alferov 提出把一个窄带隙的半导体材料夹在两个宽带隙半导体之间,构成异质结构,以期在窄带隙半导体中产生高效率的辐射复合。随着异质结材料的生长工艺,如气相外延( VPE) 、液相外延( LPE) 等的发展,1967年,IMB 公司的Woodall 成功地利用LPE 在GaAs上生长了AlGaAs。在1968—1970 年期间,美国贝尔实验室的Panish,Hayashi 和Sμmski成功研究了AlGaAs /GaAs单异质结激光器,室温阈值电流密度为8.6 × 103 A /cm2,比同质结激光器降低了一个数量级。

《光纤通信》课程设计

《光纤通信》课程设计报告 设计名称:光纤中光孤子传输特性 专业:08光信息科学与技术 成员姓名:张XX、胡X、 成员学号: 指导老师:李X

光纤中光孤子传输特性 光孤子理论的出现,对于现代通信技术的发展起到了里程碑的作用。因为现代通信技术的发展一直朝着两个方向的努力:一是大容量的传输,二是延长中继距离。光孤子传输不变形的特点决定了他在通信领域的应用前景。普通的光纤通信必须每隔几十千米设立一个中继站,经对信号的脉冲整形放大误码检查后再发射出去,而用光孤子通信则可不设中继站,只要对光纤损耗进行增益补偿,即可把光信号无畸变的传输到很远的地方。 光孤子形成的机理 光孤子是光纤中两种最基本的物理现象,即群速度色散和SPM 共同的作用形成的。光纤中的强度引起的折射率非线性SPM效应(光学柯尔效应),在反常区导致的光脉冲压缩可以抵消GVD效应形成的光脉冲展宽,从而保持光脉冲传输过程中的形状不变。光孤子的形成机理是光纤中群速度色散和自相位调制效应在反常区的精确平衡。二而光纤耗损造成的脉冲能量的损失,则用每一段传输距离后的光放大器来补偿,保持其非线性效应作用的存在。 光孤子传输 1.系统的构成 将光孤子作为信息的载波可实现光孤子通信,其传输系统如下图: 图 光纤孤子传输系统的基本构成 该系统由5个基本功能组成: 1.光孤子发送终端(TX ) 2.光孤子接受终端(RX ) 3.光孤子传输光纤(STF ) 4.光孤子能量补偿放大器(OA,OA1-OAn) 5.光孤子传输控制装置(TCS) 图中SS为光孤子源,MOD为光调制器,TS为测试设备。 系统中的TX由超短脉冲半导体或掺饵光纤激光器,光调制器,信息源和光纤功率放大器构成,用于产生光孤子脉冲信号;RX由宽带光接收机或频谱分析仪,误码仪与条纹相机构成,用于测试系统的传输特性或通信能力;STF由普通单模光纤或色散位移光纤DSF构成,OA1--OAn由EDFA或SOA组成,TCS由导频滤波器,强度或相位调制器,非线性元件和色散补偿光纤等组成,设置在沿传输系统不同的区域,用于克服或降低由放大器放大带来的放大自 ss mod OA OA1 STF OA2 STF STF TCS OAn STF TS TX RX

半导体激光器的恒流源

半导体激光器的恒流源 摘要本文主要介绍恒流源,并分析一种半导体激光器较高稳定度恒流源驱动系统的电路。恒流源驱动器的电路主要是由电压基准电路,电压电流转换电路和调整电路组成的。它的整体设计思路是利用高性能斩波稳零运算放大器,运用负反馈原理,使整个闭环反馈系统处于动态的平衡中,从而达到稳定输出电流的目的。 关键字半导体激光器;恒流源;高稳定度;闭环负反馈 Abstract: This paper focuses on the analysis of a semiconductor laser to a higher stability constant current source driver circuit. The constant current source drive circuit is mainly composed of the voltage reference circuit, the voltage-current converter circuit and adjust the circuit. It's overall design concept of high-performance chopper-stabilized op amps, the use of the principle of negative feedback, so that the whole closed-loop feedback system is in dynamic equilibrium, so as to achieve stable output current. Keywords:semiconductor laser;constant current source;with high stability;closed-loopnegative feedback 1、引言 半导体激光器是以直接带隙半导体材料构成的 PN 结为工作物质的一种小型化激光器,是依靠载流子注入而工作的,注入的电流的稳定性对半导体激光器的输出有直接且明显的影响。在正常条件下使用的半导体激光器有很长的工作寿命。但是,不适当的工作条件会造成半导体激光器性能的急剧恶化乃至失效(就是PN 结被击穿或用作谐振腔面的解理面遭到破坏,视其击穿或破坏程度而表现为输出光功率减小或无光功率输出)。它是有极高量子效率的器件,但是对电冲击的承受能力很弱,微小的电流变化都可能会导致器件的参数的变化,这些变化又将会危及半导体激光器的安全使用。因此要求半导体激光器的电源是个恒流源,

半导体激光器

半导体激光器 半导体激光器又称激光二极管[1](LD)。进入八十年代,人们吸收了半导体物理发展的最新成果,采用了量子阱(QW)和应变量子阱(SL-QW)等新颖性结构,引进了折射率调制Bragg发射器以及增强调制Bragg发射器最新技术,同时还发展了MBE、MOCVD及CBE等晶体生长技术新工艺,使得新的外延生长工艺能够精确地控制晶体生长,达到原子层厚度的精度,生长出优质量子阱以及应变量子阱材料。于是,制作出的LD,其阈值电流显著下降,转换效率大幅度提高,输出功率成倍增长,使用寿命也明显加长。 A 小功率LD 用于信息技术领域的小功率LD发展极快。例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈(DFB)和动态单模LD、窄线宽可调谐DFB-LD、用于光盘等信息处理技术领域的可见光波长(如波长为670nm、650nm、630nm的红光到蓝绿光)LD、量子阱面发射激光器以及超短脉冲LD等都得到实质性发展。这些器件的发展特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐以及短波长化和光电单片集成化等。 B 高功率LD 1983年,波长800nm的单个LD输出功率已超过100mW,到了1989年,0.1 mm条宽的LD则达到3.7W的连续输出,而1cm线阵LD已达到76W输出,转换效率达39%。1992年,美国人又把指标提高到一个新水平:1cm线阵LD连续波输出功率达121W,转换效率为45%。现在,输出功率为120W、1500W、3kW等诸多高功率LD均已面世。高效率、高功率LD及其列阵的迅速发展也为全固化激光器,亦即半导体激光泵浦(LDP)的固体激光器的迅猛发展提供了强有力的条件。 近年来,为适应EDFA和EDFL等需要,波长980nm的大功率LD也有很大发展。最近配合光纤Bragg光栅作选频滤波,大幅度改善其输出稳定性,泵浦效率也得到有效提高。 【特点及应用范围】半导体二极管激光器是实用中最重要的一类激光器。它体积小、寿命长,并可采用简单的注入电流的方式来泵浦其工作电压和电流与集成电路兼容,因而可与之单片集成。并且还可以用高达GHz的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,半导体二极管激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、测距以及雷达等方面以及获得了广泛的应用。 【半导体激光器的发展及应用】半导体物理学的迅速发展及随之而来的晶体管的发明,使科学家们早在50年代就设想发明半导体激光器,60年代早期,很多小组竞相进行这方面的研究。在理论分析方面,以莫斯科列别捷夫物理研究所的尼古拉·巴索夫的工作最为杰出。 在1962年7月召开的固体器件研究国际会议上,美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(Keyes)和奎斯特(Quist)报告了砷化镓材料的光发射现象,这引起通用电气研究实验室工程师哈尔(Hall)的极大兴趣,在会后回家的火车上他写

光电综合课程设计报告

光电综合课程设计报告 姓名: 李方圆 学号: 1150730006 专业: 应用物理学

目录 1引言 (1) 1.1含义 (1) 1.2结构 (1) 1.3优点 (1) 1.4发展趋势 (2) 2理论分析 (3) 3 MATLAB数值模拟 (3) 3.1 程序主要源代码 (3) 3.2 数值模拟结果 (5) 3.3 结果分析 (5) 4心得体会 (6)

1引言 1.1含义 单包层光纤激光器的输出一般只有几十毫瓦的量级, 因此光纤激光器通常被认为是小功率光电子器件。然而, 对于大多数的激光应用领域, 我们需要更高功率的激光输出。双包层泵浦技术的出现是光纤领域的一大突破, 它使得光纤激光器和光纤放大器真正成为高功率器件。双包层光纤激光器是新型光纤激光器发展的代表,它的优点在于不需要将泵浦能量直接藕合到模场直径相对较小的光纤中去,它可以采用低成本的,大模场(多模)高功率的半导体激光器作为泵浦源。因为这个优势,近几年来,双包层光纤激光器研究受到了极大的关注。 1.2结构 图1 是双包层光纤示意图。光纤由纤芯、内包层、外包层和保护层组成, 折射率从纤心到外包层依次减小。为保证光纤输出单模激光, 纤芯直径为一般为几个微米, 内包层起着使激光约束在单模纤芯内和成为泵浦光的多模导管作用, 外包层起将泵浦光限制在内包层中的作用。内包层的直径一般为几百微米, 这种设计大大减小了对泵浦源模式的质量要求, 可用价格相对便宜的高功率多模二极管阵列做泵浦源, 通过特定的光学装置或直接人射到光纤,一部分泵浦光藕合到纤芯中, 而大部分泵浦光祸合到内包层中, 内包层中的光受外包层限制, 在内包层之间来回反射, 而不被吸收, 在不断的穿过纤芯的过程中, 被其中的激光介质一稀土元素离子吸收, 所以泵浦光在光纤的一端藕合进人光纤, 在光纤的整个长

半导体激光器的设计

半导体激光器设计 半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒 子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和 其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广 泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈 发明显,光谱范围宽, 相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用 发展的新纪元。 1半导体激光器的工作原理 激光产生原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具 备三个基本条件: (1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在 半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处 在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠 给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子 数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。 (2)要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内 得到多次反馈而形成激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自

然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜.对F—p腔 (法布里一珀罗腔)半导体激 光器可以很方便地利用晶体的与P—n结平面相垂直的自然解理面 一[110]面构成F—P腔。 (3)为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔面的激光输出等引起的损耗,不断增加腔内的光场.这就必须要有足够强的电流注入,即有足够的粒子数反转,粒子数反转程度越高,得到的增益就越大,即要求必须满足一定的电流阀值条件.当激光器达到阀值时,具有特定波长的光就能在腔内谐振并被放大,最后形成激光而连续地输出. 可见在半导体激光器中,电子和空穴的偶极子跃迁是基本的光发射和光放大过程。 1.2 双异质结基本结构 将有源层夹在同时具有宽带隙和低折射率的两种半导体材料之间,以便在垂直于结平面的方向(横向)上有效地限制载流子和光子。用此结构于1970年实现了GaAlAs/GaAs激射波长为0.89 μm 的半导体激光器在室温下能连续工作。 图表示出双异质结激光器的结构示意图和相应的能带图在正向 偏压下

半导体激光器工作原理

半导体激光器工作原理 半导体激光器工作原理是:通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种:电注入式、电子束激励式和光泵浦激励式。电注入式半导体激光器一般是由GaAS(砷化镓)、InAS(砷化铟)、Insb (锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。电子束激励式半导体激光器一般用N型或者P型半导体单晶(PbS、CdS、ZhO等)作为工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励。光泵浦激励式半导体激光器一般用N型或P型半导体单晶(GaAS、InAs、InSb等)作为工作物质,以其它激光器发出的激光作光泵激励。

目前在半导体激光器件中,性能较好、应用较广的是:具有双异质结构的电注入式GaAs二极管半导体激光器。 半导体光电器件的工作波长与半导体材料的种类有关。半导体材料中存在着导带和价带,导带上面可以让电子自由运动,而价带下面可以让空穴自由运动,导带和价带之间隔着一条禁带,当电子吸收了光的能量从价带跳跃到导带中去时就把光的能量变成了电,而带有电能的电子从导带跳回价带,又可以把电的能量变成光,这时材料禁带的宽度就决定了光电器件的工作波长。 小功率半导体激光器(信息型激光器),主要用于信息技术领域,例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈和动态单模激光器(DFB-LD)、窄线宽可调谐激光器、用于光盘等信息处理领域的可见光波长激光器(405nm、532nm、635nm、650nm、670nm)。这些器件的特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐、短波长、光电单片集成化等。大功率半导体激光器(功率型激光器),主要用于泵浦源、激光加工系统、印刷行业、生物医疗等领域。 半导体激光器主要参数: 1.波长nm:激光器工作波长,例如405nm、532nm、635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm。 2.阈值电流Ith:激光二极管开始产生激光振荡的电流,对小功率激光器而言其值约在数十毫安。 3.工作电流Iop:激光二极管达到额定输出功率时的驱动电流,此

光电课程设计_光学仿真

概述:一、光源 在光纤通信系统中,光源器件可实现从电信号到光信号的转换,是光发射机以及光纤通信系统的核心器件,它的性能直接关系到光纤通信系统的性能和质量指标。光纤通信系统要求光源具有合适的发射波长,处在光纤的低损耗窗口之中;有足够大的输出功率,从而有较长的传输距离;有较窄的发光谱线,可以减少光纤的色散对信号传输质量的影响;易于与光纤耦合,确保更多的光功率进入光纤;易于调制,响应速度要快,调制失真小,带宽大;在室温下能连续工作,可靠性高,寿命至少在10万小时以上。下面简单介绍已广泛应用的两类半导体光源:半导体发光二极管(LED )和半导体激光二极管(LD )。 1 发光二极管(LED ) 发光二极管(LED )是低速、短距离光波通信系统中常用的光源。其寿命很长,受温度影响较小,输出光功率与注入电流的线性关系较好,价格也比较便宜。驱动电路简单,不存在模式噪声等问 题。 发光二极管结构简单,是一个正向偏置的PN 同质结,电子-空穴对在耗尽区辐射复合发光,称为电致发光。发出的部分光耦合进入光纤供传输使用。LED 所发出的光是非相干光,具有较宽的谱宽(30~60nm )和较大的发射角(≈100°)。 自发辐射产生的功率是由正向偏置电压产生的注入电流提供的,当注入电流为I ,在稳态时,电子-空穴对通过辐射和非辐射复合,其复合率等于载流子注入率I/q ,其中发射电子的复合率决定于内量子效率ηint ,光子产生率为(I ηint/q),因此LED 内产生的光功率为 ()int int /P w q η= (2. 1) 式中,ω 为光量子能量。假定所有发射的光子能量近似相等,并设从LED 逸出的功率占内部产生功率的份额为ηext ,则LED 的 发射功率为 ()int int /e ext ext P P w q I ηηη== (2. 2) ηext 亦称为外量子效率。由上式可知,LED 发射功率P 和注入电流I 成正比。 发光二极管LED 是光纤通信中的常用光源,它的发光仅仅是自发辐射,属于非相干光源,其输出光发射角较大,但LED 线性度好,调制时动态范围大,信号失真小,也就是P-I 曲线线性好,其P-I 特性曲线如图2.1所示。 图2.1 发光二极管的P —I 特性曲线 15 10 5 0 0 200 400 电流(mA) 发射功率(m W ) 边发光 面发光

半导体激光器

半导体激光器 摘要:由于三五族化合物工艺的发展与半导体激光器的多种优点,近几十年来,半导体激光器发展十分迅速,而且在各个领域发挥着越来越重要的作用。本文将介绍半导体激光器的基本理论原理、相关发展历程、研究现状以及其广泛的应用。 1.引言 自1962 年世界上第一台半导体激光器发明问世以来, 半导体激光器发生了巨大的变化, 极大地推动了其他科学技术的发展, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一[1], 近十几年来, 半导体激光器的发展更为迅速, 已成为世界上发展最快的一门激光技术[2]。激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子阱(单、多量子阱)等多种形式,制作方法从扩散法发展到液相外延(LPE)、气相外延(VPE)、分子束外延(MBE)、金属有机化合物气相淀积(MOCVD)、化学束外延(CBE) 以及它们的各种结合型等多种工艺[3]。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制及价格低廉等优点, 使得它目前在各个领域中应用非常广泛。 2.半导体激光器的基本理论原理 半导体激光器又称激光二极管(LD)。它的实现并不是只是一个研究工作者的或小组的功劳,事实上,半导体激光器的基本理论也是一大批科研人员共同智慧的结晶。 早在1953年,美国的冯·纽曼(John Von Neumann)在一篇未发表的手稿中第一个论述了在半导体中产生受激发射的可能性;认为可以通过向PN结中注入少数载流子来实现受激发射;计算了在两个布里渊区之间的跃迁速率。巴丁在总结了这个理论后认为,通过各种方法扰动导带电子和价带空穴的平衡浓度,致使非平衡少数载流子复合而产生光子,其辐射复合的速率可以像放大器那样,以同样频率的电磁辐射作用来提高。这应该说是激光器的最早概念。 苏联的巴索夫等对半导体激光器做出了杰出贡献,他在1958年提出了在半导体中实现粒子数反转的理论研究,并在1961年提出将载流子注入半导体PN结中实现“注入激光器”,并论证了在高度简并的PN结中实现粒子数反转的可能性,而且认为有源区周围高密度的多数载流子造成有源区边界两边的折射率有一差值,因而产生光波导效应。1961年,伯纳德和杜拉福格利用准费米能级的概念推导出了半导体有源介质中实现粒子数反转的条件,这一条件为次年半导体激光器的研制成功提供了重要理论指导。 1960年,贝尔实验室的布莱和汤姆逊提出了用半导体的平行解理面作为产生光反馈的谐振腔,为激发光提供反馈。 回顾这些理论发展历程,可以总结半导体激光器的基本理论原理:在直接带隙半导体PN结中,用注入载流子的方法实现伯纳德—杜拉福格条件所控制的粒子数反转;由高度简并的电子和空位复合所产生的受激光辐射在光学谐振腔内震荡并得到放大,最后产生相干激光输出[4]。 3.半导体激光器发展历程 在上述理论的影响下,以及1960年产生的红宝石激光器的刺激下,美国和苏

半导体激光器的研究

半导体激光器的研究 半导体激光器是近年来应用非常广泛的一种激光器。在本实验中我们将对半导体激光器的主要发光器件——激光二极管(LD)进行全面的实验研究。 【实验内容】 1.激光二极管(LD)的伏安特性测量。 2.LD的发光强度与电流的关系曲线测量。 3*.LD发光光谱分布测量。 4*.LD发光偏振特性分析。 【实验仪器】 激光二极管,电压表,电流表,激光功率计,分光计,格兰—泰勒棱镜等

阅读材料 半导体激光器件 按照半导体器件功能的基本结构可分为:注入复合发光,即电—光转换;光引起电动势效应,即光—电变换。这里主要讨论前者。 半导体激光光源是半导体激光器发射的激光。它是以半导体材料作为激光工作物质的一类激光器,亦称激光二极管,英文缩写为LD。与其相对应的非相干发光二极管,英文缩写为LED。它具有工作电压低、体积小、效率高、寿命长、结构简单、价格便宜以及可以高速工作等一系列优点。可采用简单的电流注入方式来泵浦,其工作电压和电流与集成电路兼容,因而有可能与之单片集成;并且还可用高达吉赫(109 Hz)的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,LD在激光通信、光纤通信、光存储、光陀螺、激光打印、光盘录放、测距、制导、引信以及光雷达等方面已经获得了广泛应用,大功率LD 可用于医疗、加工和作为固体激光器的泵浦源等。 半导体激光器自1962年问世以来,发展极为迅速。特别是进入20世纪80年代,借用微电子学制作技术(称为外延技术),现已大量生产半导体激光器。以半导体LD条和LD堆为代表的高功率半导体激光器品种繁多,应有尽有。 1 概述 1)半导体激光器的分类 从半导体激光器的发射的激光看,可分为半导体结型二极管注入式激光器和垂直腔表面发射半导体激光器两种类型;而从结型看,又可分为同质结和异质结两类;从制造工艺看,又可为一般半导体激光器、分布反馈式半导体激光器和量子阱半导体激光器激光器;另外,为了提高半导体激光器的输出功率,增大有源区,将其做成列阵式,又可分为单元列阵、一维线列阵、二维面阵等。 2)半导体激光器的工作原理 半导体激光器与其它激光器没有原则区别,只是因工作物质不同,而有其自身的特点。图示给出了GaAs激光器的外形及其管芯结构,在激光器的外壳上有一个输出激光的小窗口,激光器的电极供外接电源用,外壳内是激光器管芯,管芯形状有长方形、台面形、电极条形等多种。它的核心部分是PN结。半导体激光器PN结的两个端面是按晶体的天然晶面剖切开的,称为解理面,这两个表面极为光滑,可以直接用作平行反射镜面,构成激光谐振腔。激光可以从某一侧解理面输出,也可由两侧输出。 半导体材料是一种单晶体,各原子最外层的轨道互相重叠,导致半导体能级不再是分

半导体激光器设计

半导体激光器设计 摘要:半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围宽,相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。 关键词:受激辐射;光场;同质结;异质结;大功率半导体激光器 、八— 0刖言 半导体激光器是指以半导体材料为工作物质的激光器,又称半导体激光二极管(LD), 是20世纪60年代发展起来的一种激光器。半导体激光器的工作物质有几十种,例如砷化傢(GaAs),硫化镉(CdS)等,激励方式主要有电注入式,光泵式和高能电子束激励式三种。半导体激光器从最初的低温(77K)下运转发展到室温下连续工作;从同质结发展成单异质结双异质结,量子阱(单,多量子阱)等多种形式。半导体激光器因其波长的扩展,高功率激光阵列的出现以及可兼容的光纤导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展.半导体激 光器的体积小,重量轻,成本低,波长可选择,其应用遍布临床,加工制造,军事,其中尤以大功率半导体激光器方面取得的进展最为突出。 1半导体激光器的工作原理 1.1激光产生原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件:(1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激

半导体激光器工作原理及主要参数

半导体激光器工作原理及主要参数 OFweek激光网讯:半导体激光器又称为激光二极管(LD,Laser Diode),是采用半导体材料作为工作物质而产生受激发射的一类激光器。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦激励三种形式。半导体激光器件,一般可分为同质结、单异质结、双异质结。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。半导体激光器的优点在于体积小、重量轻、运转可靠、能耗低、效率高、寿命长、高速调制,因此半导体激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、激光医疗、激光测距、激光雷达、自动控制、检测仪器等领域得到了广泛的应用。 半导体激光器工作原理是:通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种:电注入式、电子束激励式和光泵浦激励式。电注入式半导体激光器一般是由GaAS(砷化镓)、InAS(砷化铟)、Insb(锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。电子束激励式半导体激光器一般用N型或者P型半导体单晶(PbS、CdS、ZhO等)作为工作物质,通过由外 部注入高能电子束进行激励。光泵浦激励式半导体激光器一般用N型或P型半导体单晶(GaAS、InAs、InSb等)作为工作物质,以其它激光器发出的激光作光泵激励。 目前在半导体激光器件中,性能较好、应用较广的是:具有双异质结构的电注入式GaAs 二极管半导体激光器。 半导体光电器件的工作波长与半导体材料的种类有关。半导体材料中存在着导带和价带,导带上面可以让电子自由运动,而价带下面可以让空穴自由运动,导带和价带之间隔着一条禁带,当电子吸收了光的能量从价带跳跃到导带中去时就把光的能量变成了电,而带有电能的电子从导带跳回价带,又可以把电的能量变成光,这时材料禁带的宽度就决定了光电器件的工作波长。 小功率半导体激光器(信息型激光器),主要用于信息技术领域,例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈和动态单模激光器(DFB-LD)、窄线宽可调谐激光器、用于光盘等信息处理领域的可见光波长激光器(405nm、532nm、635nm、650nm、670nm)。这些 器件的特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐、短波长、光电单片集成化等。 大功率半导体激光器(功率型激光器),主要用于泵浦源、激光加工系统、印刷行业、生物医疗等领域。 半导体激光器主要参数: 波长nm:激光器工作波长,例如405nm、532nm、635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm。 阈值电流Ith:激光二极管开始产生激光振荡的电流,对小功率激光器而言其值约在数 十毫安。

信息光学课程设计

光纤耦合与特性测试 一、实验目的 1、了解常用的光源与光纤的耦合方法。 2、熟悉光路调整的基本过程,学习不可见光调整光路的办法。 3、通过耦合过程熟悉Glens的特性。 4、了解1dB容差的基本含义。 5、通过实验的比较,体会目前光纤耦合技术的可操作性。 二、实验原理 在光纤线路耦合的实施过程中,存在着两个主要的系统问题:即如何从各种类型的发光光源将光功率发射到一根特定的光纤中(相对于目前的光源而言),以及如何将光功率从一根光纤耦合到另外一根光纤中去(相对于目前绝大多数光纤器件而言)。对于任一光纤系统而言,主要的目的是为了在最低损耗下,引入更多能量进入系统。这样可以使用较低功率的光源,减少成本和增加可靠度,因为光源是不能工作在接近其最大功率状态的。 光学耦合系统的1dB失调容差定义为当耦合系统与半导体激光器之间出现轴向、横向、侧向和角向偏移,从而使得耦合效率从最大值下降了1dB时的位置偏移量。1dB失调容差对于实用化的光学耦合系统来说是一个重要的衡量指标.因为任何半导体激光器组件中都存在如何将耦合系统与半导体激光器芯片相对固定(封装)的问题,不论采用何种固定方式,都不可避免地存在由于封装技术不完善及环境因素变化而造成的位置失调现象。一个光学耦合系统具有效大的失调容差就意味着该系统在封装时允许出现较大的位置失调.因而可以来用结构简单、定位精度不太高的低成本封装技术。 光纤系统中,必须考虑光源的辐射空间分布(角分布)、发光面积,光纤的数值孔径、纤芯尺寸和光纤的折射率剖面等等,使尽可能多的光能量进入光纤当中。对于耦合系统,通常要求具有以下几个特点: 1. 大的1dB容差。大的容差是工业生产的一个基本条件,容差越大,才可能产量越大,成本越低。 2. 弱的光反馈。目前低成本光源一般不配置隔离器,所以对于耦合系统来说,弱的光反馈意味着光源的稳定性的提高。 3. 简单易操作、耦合效率高、稳定。

直接半导体激光器DirectDiodeLaserSystem

直接半导体激光器 Direct Diode Laser System 锐科公司研制的RFL-DDL系列直接半导体激光器,具有电光转换效率高、调制频率宽、可靠性高、寿命长、运行免维护、结构紧凑等优点,可广泛应用于钎焊、塑料焊接、熔覆、表面热处理等领域。在熔覆应用中,锐科直接半导体激光器相对传统激光器的加工效率明显提高。此系列直接半导体激光器产品基于单管半导体芯片封装及大功率合束器技术,完全由锐科公司自主研制生产,电光转换效率接近50%,具有良好的兼容性,性价比高。 Raycus' RFL-DDL direct diode laser series feature high electrical-optical conversion efficiency, wide modulation frequency range, compact design, excellent long-term reliability and maintenance free stable operation. They can be used in brazing, plastic welding, cladding and surface heat treatment. RFL-DDL laser series have been proved with significant high efficiency in cladding applications compared with traditional lasers. Based on in-house single-emitter diode packaging and high power combiner technologies, Raycus can provide customized products for some specific requirements. 特点:Features 极高的电光转换效率Near 50% efficiency QBH输出光纤QBH beam delivery cable 免维护稳定运行maintenance free stable operation 连续/调制模式CW/Modulated mode 应用:Applications 塑料焊接Plastic welding 熔覆Cladding 热处理Heat treatment 钎焊Brazing

半导体激光器

半导体激光器 半导体激光器 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体激光器的分类 (1)异质结构激光器(2)条形结构激光器(3)AIGaAs/GaAs激光器(4)InGaAsP/InP激光器(5)可见光激光器(6)远红外激光器(7)动态单模激光器(8)分布反馈激光器(9)量子阱激光器(10)表面发射激光器(11)微腔激光器 半导体激光器 半导体激光(Semiconductor laser)在1962年被成功激发,在1970年实现室温下连续输出。后来经过改良,开发出双异质接合型激光及条纹型构造的激光二极管(Laser diode)等,广泛使用于光纤通信、光盘、激光打印机、激光扫描器、激光指示器(激光笔),是目前生产量最大的激光器。激光二极体的优点是效率高、体积小、重量轻且价格低。尤其是多重量子井型的效率有20~40%,P-N型也达到数%~25%,总而言之能量效率高是其最大特色。另外,它的连续输出波长涵盖了红外线到可见光范围,而光脉冲输出达50W(带宽100ns)等级的产品也已商业化,作为激光雷达或激发光源可说是非常容易使用的激光的例子。 仪器简介

Q-Line纤绿半导体激光器 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是由GaAS(砷化镓),InAS(砷化铟),Insb(锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器. 工作原理及特点 半导体激光器工作原理是激励方式,利用半导体物质(即利用电子)在能带间跃迁发光,用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔,使光振荡、反馈、产生光的辐射放大,输出激光。半导体激光器优点是体积小,重量轻,运转可靠,耗电少,效率高等。 封装技术 技术介绍 半导体激光器封装技术大都是在分立器件封装技术基础上发展与演变而来的,但却有很大的特殊性。一般情况下,分立器件的管芯被密封在封装体内,封装的作用主要是保护管芯和完成电气互连。而半导体激光器封装则是完成输出电信号,保护管芯正常工作,输出:可见光的功能,既有电参数,又有光参数的设计及技术要求,无法简单地将分立器件的封装用于半导体激光器。 发光部分 半导体激光器的核心发光部分是由p型和n型半导体构成的pn结管芯,当注入pn结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光,紫外光或近红外光。但pn结区发出的光子是非定向的,即向各个方向发射有相同的几率,因此,并不是管芯产生的所有光都可以释放出来,这主要取决于半导体材料质量、管芯结构及几何形状、封装内部结构与包封材料,应用要求提高半导体激光器的内、外部量子效率。常规Φ5mm型半导体激光器封装是将边长0.25mm的正方形管芯粘结或烧结在引线架上,管芯的正极通过球形接触点与金丝,键合

课程设计半导体激光器

郑州轻工业学院 课程设计任务书 题目半导体激光器原理及应用 专业、班级学号姓名 主要内容、基本要求、主要参考资料等: 完成期限: 指导教师签名: 课程负责人签名: 年月日

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 郑州轻工业学院 课程设计说明书题目:半导体激光器原理及应用 姓名:王森 院(系):技术物理系 专业班级:电子科学与技术09-1 学号:540911010132 指导教师:运高谦 成绩: 时间:年月日至年月日 I

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 摘要 本文主要讲的是半导体激光器的发展历史、工作原理及应用。半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有合适的光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,首先产生激光的具体过程有许多特殊之处,其次所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围变宽,相干性增强,可以说是半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。 关键词激光技术;半导体激光器;受激辐射;光场 II

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 Abstract This article is mainly about the history of the development of semiconductor lasers, working principle and applications. Semiconductor lasers produce laser mechanism, which must be established between the specific laser energy state population inversion, and a suitable optical resonator. As the physical structure of the semiconductor material in which electron motion specificity and particularity, while the specific process of producing laser has many special features, the other produced by the laser beam has a unique advantage to make it widely used in all sectors of society . From homo-junction to the heterojunction, the power from the information type to type, is also becoming increasingly apparent superiority of the laser, spectral range, coherence enhanced semiconductor lasers opened a new era in the development of laser applications. Keywords: Laser technique;Semiconductor lasers;Stimulated emission;Optical field III

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