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纳米氧化物(Ga2O3,ZnO)和硫化物(ZnS)的气相合成、结构表征及发光性能的研究

合肥工业大学

硕士学位论文

纳米氧化物(Ga<,2>O<,3>,ZnO)和硫化物(ZnS)的气相合成

、结构表征及发光性能的研究

姓名:梁雪美

申请学位级别:硕士

专业:材料加工工程

指导教师:苏勇

20071101

表明:低温蒸发合成的Sn02纳米线的生长是通过“自催化气.液一[](Self-catalyticVLS)”生长机制来控制的。

图1—1纳米线自催化生长过程示意图Ds]

Fig.1.1thegrowthingprocessofnanowiresbasedOIltheSelf-catalyticVLSgrowth.1.5.1.2气一固(vs,Vapor-Solid)方法

实验证明,许多一维纳米材料不使用催化剂也可以生长出来,即直接通过气态分子的沉积,以微观缺陷(位错、孪晶等)作为形核核心生长出一维材料。“气?固”生长机制特点是原材料中没有引入金属催化剂,最早是由Sears等人在研究金属氧化物晶须生长时提出来【39】,他们认为蒸汽相的过饱和度(supersaturation)和晶核中的轴向螺旋位错(axialscrewdislocation)决定着晶须的一维生长。此观点虽然有一些实验支持,但人们至今对螺旋位错在一维生长中的作用仍持怀疑态度,因为在纳米线产物中人们一直没有看到这种螺旋位错,因此存在不少争议。但不管如何,经验表明,对于纳米线的VS过程的生长,过饱和度的控制是至关重要的。从上面的CVD产物结构的变化规律分析,表明低的过饱和度可以导致1D材料的生长,1D材料的尺寸可以通过调节过饱和度、成核直径以及生长时间等反应条件来控制。因此从理论上讲,如果能控制1D材料成核以及随后的生长过程的话,就可能通过VS机制来可控地合成1D纳米材料。VS过程不需要催化剂的参与,这点是VS过程与VLS过程最主要的区别。通过VLS过程生长出的纳米线在其端部可以观察到催化颗粒的存在,而通过VS过程生长出的纳米线的直径前后均匀,在其端部无催化颗粒,因此产物的纯度较高。另外,通过这种生长方式获得的微观结构尺寸的可控制性差,一般都是随机的,受气相压力、流速的影响很大。

1.5.2液相法

近来,YSun等【45]利用聚乙烯毗咯烷酮(PVP)作为包敷剂制备出晶态Ag纳米线。这种方法合成的Ag纳米线的生长机制如图1,3所示,其中包含两个主要步骤:

1.乙二醇还原PtCl2形成Pt籽晶核。

2HOCH2一CH20H一2CH3CHO+2H20

2CH3CHO+PtCl2一CH3CO-COCH3+Pt+2HCl

2.在含Pt晶核的溶液中加入AgN03溶液和PVP溶液,导致了Ag纳米晶核的形成和一维生长。

当AgN03被乙二醇还原以后,Ag原子通过均质生核和在Pt晶核上的异质生核,形成具有一定尺寸分布的纳米Ag颗粒。其中,尺寸较大的纳米Ag颗粒通过“Ostwald熟化机制”逐渐长大【4…,而尺寸较小的纳米Ag则逐渐消失。PVP是一种聚合物表面活性剂,即包敷剂,它可以通过O—Ag键化学吸附在Ag纳米晶的表面【4“,通过和Ag晶面问的吸附和解附作用控制着不同晶面的生长速度,从而使纳米Ag颗粒的生长以一维方式进行。

1.5.2.3溶剂热法图1-3金属Ag通过Pt晶粒形核生长成Ag纳米线示意图【44】Fig.1。3GrowthscenariooftheAgnanowiIe¥,

溶剂热合成方法通过加热、加压增大固体在溶剂中的溶解度和固体之间的反应速度,它也是制备一维纳米结构很常用的一种方法。其基本过程如下:首先把前驱物和可以控制晶体生长的试剂(如胺)以合适的比例加入到溶剂中,然后把这种混合物放到高压釜中,在其中,化学反应和纳米线的生长在较高的压力和温度下进行。这种方法的主要优点是可以通过加热、加压使很大一部分材料溶解在合适的溶剂中,也就是说这种方法的普适性较好。Heath和他的合作

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