目录
（一）PVD真空镀膜技术 (1)
（二）真空镀膜技术具体应用领域 (2)
（三）行业现状分析 (4)
（四）行业市场表现分析 (5)
（五）行业竞争格局分析 (6)
（六）行业与上下游的关系 (6)
（七）行业周期性、区域性、季节性特征 (9)
（八）进入本行业的主要障碍 (9)
（九）影响行业发展的有利因素和不利因素 (10)
（十）行业发展方向 (11)
（十一）总结 (12)
PVD真空镀膜机设备行业分析
（一）PVD真空镀膜技术
PVD真空镀膜技术，PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，意思是“物理气相沉积”，指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进的表面处理方法之一。
PVD镀膜技术种类表
类型介绍
蒸发镀膜加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
溅射镀膜利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
离子镀膜离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离
子体中进行。
其他如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。溅射类镀膜，可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕
镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。
相对于PVD技术的三个分类，真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命，已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
（二）真空镀膜技术具体应用领域
1、在装饰品方面
随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。
2、在刀具、模具等金属切削加工工具方面
在生活中，我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。
3、在建筑玻璃和汽车玻璃方面
建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量，这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。
随着经济的发展，普通玻璃已越来越不能满足人们的要求，而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和最大限度阻止室内热量外流的要求。在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃，这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。
4、在平板显示器方面
所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且，几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说，没有薄膜技术，就没有平板显示器件。
5、在太阳能利用方面
当需要有效地利用太阳热能时，就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异，因此，为了有效地利用太阳热能，就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。理想的选择吸收面，是太阳辐射光谱的波段（可见光波段）吸收率（α）为1，在热辐射波段（红外波段）辐射率（ε）为0。
6、在防伪技术方面
防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。
7、在飞机防护涂层方面
飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞行过程中，受到大气、海水的腐蚀，镀层上容易产生“镉脆”，甚至引起“空难”。1964年，采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝，解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中，由于给工件施加负偏压，可以形成“伪扩散层”、细化膜层组织，因此，可以显著提高膜层的耐腐蚀性能。
8、在光学仪器方面
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
9、在信息存储领域方面
薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄，可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；与膜面平行的双稳态状态容易保持等。为了更精密地记录与存储信息，必然要采用镀膜技术。
10、在传感器方面
在传感器中，多采用电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中，大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、低价格制作，因此，采用薄膜的情况很多。
11、在集成电路制造方面
晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等，多采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。
目录 （一）PVD真空镀膜技术 (1) （二）真空镀膜技术具体应用领域 (2) （三）行业现状分析 (4) （四）行业市场表现分析 (5) （五）行业竞争格局分析 (6) （六）行业与上下游的关系 (6) （七）行业周期性、区域性、季节性特征 (9) （八）进入本行业的主要障碍 (9) （九）影响行业发展的有利因素和不利因素 (10) （十）行业发展方向 (11) （十一）总结 (12)
PVD真空镀膜机设备行业分析
（一）PVD真空镀膜技术 PVD真空镀膜技术，PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，意思是“物理气相沉积”，指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进的表面处理方法之一。 PVD镀膜技术种类表 类型介绍 蒸发镀膜加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 溅射镀膜利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 离子镀膜离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离 子体中进行。 其他如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。 需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。溅射类镀膜，可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕
钢筋机械连接对型式检验的要求？ 相关标签： ?机械连接接头 ?钢筋机械连接 ?滚轧直螺纹连接 1 接头型式检验报告超过4年时必须重新取样做型式检验。接头型式检验主要作用是对各类接头按性能分级。 2 经型式检验确定其等级后，工地现场只需进行现场检验；当接头质量有严重问题，其原因不明，对定型检验结论有重大怀疑时，上级主管部门或质检部门可以提出重新进行型式检验要求。 3 考虑到国产钢筋的延性较好，在达到强度要求后，接头试件通常已有较大延性；为简化检验验收规则，取消了原规程中接头试件强度与钢筋实际强度进行对比的要求。 4 对每种型式、级别、规格、材料、工艺的钢筋机械连接接头，型式检验试件不应少于9个：单向拉伸试件不应少于3个，高应力反复拉压试件不应少于3个，大变形反复拉压试件不应少于3个。同时应另取3根钢筋试件作抗拉强度试验，全部试件均应在同一根钢筋上截取。由于型式检验比较复杂和昂贵，对各类钢筋接头只要求对标准型接头进行型式检验； 5 此外，相同类型的直螺纹接头或锥螺纹接头用于连接不同强度级别（HRB500、HRB400、HRB335）的钢筋时，可以选择其中较高强度级别(如HRB500)的钢筋进行接头试件的型式检验；在连接套筒的尺寸、材料，内螺纹以及现场丝头加工工艺均不变的情况下，HRB500级钢筋接头的型式检验报告可以兼作HRB400、HRB335级钢筋的同类型、同等级接头的型式检验报告使用，反之则不允许。钢筋母材强度试验用来判别接头试件用钢筋的母材性能和钢筋牌号。
6 用于型式检验的直螺纹或锥螺纹接头试件应散件送达检验单位，由型式检验单位或在其监督下由接头技术提供单位按本规程表6.2 l或表6.2.2规定的拧紧扭矩进行装配，拧紧扭矩值应记录在检验报告中，型式检验试件必须采用未经过预拉的试件。 7 型式检验应由国家、省部级主管部门认可的检测机构进行，并应按本规程附录B的格式出具检验报告和评定结论。
2020年有机硅专用设备分析报告 2020年1月
目录 一、行业主管部门、监管体制和行业政策 (5) 1、行业主管部门和监管体制 (5) 2、主要法律法规、产业政策和行业标准 (5) 3、行业相关标准 (8) 二、有机硅行业发展概况 (9) 1、有机硅的用途和分类 (9) （1）室温胶 (9) （2）高温胶 (10) （3）液体胶 (10) 2、有机硅产业链 (10) 3、有机硅行业发展概况 (11) 4、有机硅市场前景可观 (13) （1）有机硅产品将替代天然橡胶和石油基材料 (13) （2）下游应用领域保持快速增长 (14) ①房地产投资和基建投资增速催化新的发展契机 (14) ②有机硅材料在汽车领域空间广阔 (15) ③新能源用胶有望迎来高增长 (15) ④电子及LED密封用胶平稳增长 (16) 三、有机硅专用设备行业发展概况 (17) 1、国外有机硅专用设备行业发展概况 (17) 2、国内有机硅专用设备行业发展概况 (18) 3、国内有机硅专用设备行业发展趋势 (20) （1）连续法生产装置将成为主流 (20)
①设备升级的动力之一：下游产业集中化，促进装备升级 (20) ②设备升级的动力之二：人力资源成本上升、环境保护压力增大 (21) ③设备升级的动力之三：有机硅消费结构升级，市场竞争加剧 (22) （2）装备的智能化和系统化 (22) （3）前后端一体化，发展全自动成套装备 (22) 四、行业发展趋势 (23) 1、有机硅消费量的增加和下游投资需求的推动 (23) 2、有机硅产业上下游一体化的需求 (23) 3、设备的更新换代创造可观的市场 (24) 五、进入行业的主要壁垒 (25) 1、技术壁垒 (25) 2、品牌壁垒 (25) 六、行业总体竞争格局及主要企业情况 (26) 1、行业总体竞争格局及市场化情况 (26) 2、行业主要企业 (26) （1）成都硅宝科技股份有限公司 (26) （2）广州红运混合设备有限公司 (27) （3）如皋市井上捏和机械厂 (27) （4）河北晓进机械制造股份有限公司 (27) （5）德国施沃德（Schwerdtel）公司 (27) （6）意大利德诺（Turello）公司 (27) （7）美国罗斯（Ross）公司 (28) 七、影响行业发展的因素 (28) 1、有利因素 (28) （1）国家产业政策的支持 (28) （2）下游锂电池和有机硅产业投资需求持续增长 (28)
真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理： 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下： 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然，真空度也不需要绝对地高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式 （d是分子的直径，n是分子数密度） 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质，将直接影响膜的均匀性和牢固度；如果混有可融的化学成分，将影响膜的物理性质，如亮度、表面张力、电导率等等。所以，膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术
中铁物资平顶山铁路机械有限公司 设备验收报告 编码：pdsb6.3-03 编号：2013008 保存部门：生产技术部保存期限：长期年篇二： 设备验收报告模板 设备验收报告 业主方 epc 国电电力云南新能源开发有限公司 项目名称：国电电力云南大理清水郎山风电 一、设备内容： 用户单位盖章供货单位盖章北京奥一新源科技有限公司 验收人签字：工程师签字： 日期：日期： 三、意见反馈： 1、客户建议及意见采集： 2、工程师建议及意见： 篇三：设备验收报告格式新 设备验收报告 编码：编号： 保存部门：保存期限： 年篇四：设备验收报告样本 设备 验收报告 分类编号： 合同编号： 设备编号： 设备名称： 使用单位： 验收日期： 设备验收步骤和报告样本 一、外观检验 1.对设备及外包装进行拍照记录,检查设备的外包装是否完好,有无破损,浸湿,受潮,变 形等情况,对外包装箱的表面及封装状态进行检查; 2.检查设备和附件表面有无残损,锈蚀,碰伤等情况,重点检查主机,主要配件和主要工作 面;3.若发现包装有破损,设备和附件有损伤,锈蚀,使用过的迹象等问题,应作详细记录,并重 点拍照留据,及时向供应商办理退换,索赔手续. 二、资料验收 1. 认真检查随机资料是否齐全,如说明书,产品检验合格证书,保修单等,计算机的相关 技术资料应包括驱动程序等软件在内;2.特种设备的，要求有特种设备的设计图纸、制造厂家 检验合格证，制造厂商当地质检部门的检验证明、相关材料的村质证明、使用单位当地质检 部门的检验报告等。三、数量检验 1.数量检查时应以供货合同和装箱单为依据,检查主机,附件等设备规格,型号,配置及数 量,并逐件清查核对; 2.要注意检查设备的序列号和出厂编号,必要时可以进行网上核对; 3.认真作好开箱清点记录,写明地点,时间,参加人员,箱号,品名,应到和实到数量,如发 现短缺,错发等问题,要及时作好记录并保留相关材料.四、设备安装：
真空镀膜设备项目规划方案 规划设计/投资分析/产业运营
摘要说明— 真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺（PVD）。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。 该真空镀膜设备项目计划总投资12622.67万元，其中：固定资产投资10101.82万元，占项目总投资的80.03%；流动资金2520.85万元，占项目总投资的19.97%。 达产年营业收入20048.00万元，总成本费用15985.14万元，税金及附加203.63万元，利润总额4062.86万元，利税总额4826.88万元，税后净利润3047.14万元，达产年纳税总额1779.74万元；达产年投资利润率32.19%，投资利税率38.24%，投资回报率24.14%，全部投资回收期5.64年，提供就业职位294个。 报告内容：项目总论、建设背景、产业分析、产品规划方案、项目选址、土建工程、工艺先进性、环境影响分析、生产安全、风险性分析、节能评估、项目进度方案、投资估算与资金筹措、项目经营效益分析、项目评价等。 规划设计/投资分析/产业运营
真空镀膜设备项目规划方案目录 第一章项目总论 第二章建设背景 第三章产品规划方案 第四章项目选址 第五章土建工程 第六章工艺先进性 第七章环境影响分析 第八章生产安全 第九章风险性分析 第十章节能评估 第十一章项目进度方案 第十二章投资估算与资金筹措第十三章项目经营效益分析 第十四章招标方案 第十五章项目评价
真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
中国专用设备制造业经营现状分析 专用设备制造是指专门针对某一种或一类对象，实现一项或几项功能的设备制造。2016-2019年中国专用设备制造业企业数量逐年增加，2018年中国共有专用设备制造业企业18057个，较2017年增加了297个；2019年中国共有专用设备制造业企业19108个，较2018年增加了1051个。 数据显示：总体来看中国专用设备制造业资产呈上升趋势，2019年中国专用设备制造业资产为41350亿元，同比增长4.0%。 中国专用设备制造业流动资产持续增长，2018年中国专用设备制造业流动资产为25543亿元，同比增长4.9%；2019年中国专用设备制造业流动资产为27181亿元，同比增长6.4%。 2019年中国专用设备制造业应收账款为8650亿元，较2018年增加了749.5亿元；存货为6548.8亿元，较2018年增加了317.2亿元；产成品为2403.2亿元，较2018年增加了211.2亿元。 中国专用设备制造业在资产增长的同时，负债也在增长，2019年中国专用设备制造业负债达22673亿元，同比增长2.2%。 2019年中国专用设备制造业营业收入为30206亿元，较2018年增加了285.97亿元；2019年中国专用设备制造业营业成本为23726亿元，较2018年减少了526.64亿元。
2019年中国专用设备制造业销售费用为1344.3亿元，较2018年增加了110.7亿元；管理费用为2548亿元，较2018年增加了469.1亿元；财务费用为310.7亿元，较2018年减少了27.9亿元。 2015-2017年中国专用设备制造业利润总额逐年增加，2018年短暂下滑后2019年恢复增长，2019年中国专用设备制造业利润总额为2324亿元，同比增长14.2%。
真空镀膜工艺流程-标准化文件发布号：（9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII
真空镀膜工艺流程 一、真空镀膜的工艺流程大致可用以下的方框图表示： 二、具体说明如下： 1、表面处理：通常,镀膜之前,应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE（聚乙烯）料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。 2、底涂：底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油；采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。 3、底涂烘干：SZ-97镀膜油系列均为自干型漆，烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度为60-70oC,时间约2小时。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。 4、镀膜：镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时,应掌握好镀膜用金属（如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。 5、面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色,视客户要求,可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。 6、面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握，最终应保证面涂层彻底干燥。如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。 7、水染着色：如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。染色时要注意控制水的温度,通常在 60~80oC左右,同时应控制好水染的时间。水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。
离子镀膜(PVD ) 技术和设备常见问题解答 Q1: 请问什么是PVD？ A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 Q2: 请问什么是PVD镀膜？什么是PVD镀膜机？ A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。 近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。 Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么？ A3: 离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。 Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？ A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。 两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。 Q5: 请问PVD镀膜能否代替化学电镀？ A5: 在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。 Q6: 请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点？ A6: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上？ A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。 Q8: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些？ A8: PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够
物理气相沉积真空镀膜设备介绍 （上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系，上海200444） 摘要：本文主要介绍了五类物理气相沉积的真空镀膜设备。五种设备分别为：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置以及空心阴极蒸发装置。介绍了相关设备的原理，优缺点等。其中，着重列出了有关电子束蒸发装置的其中一个应用，是厚度为200μm左右的独立式的铁铬-Y2O3非晶态/晶态复合涂层的已经从基板温度500oC左右的铁铬和氧化钇材料的电子束物理气相沉积产生。 Abstract:It describes the five physical vapor deposition vacuum coating equipment in this article.Five kinds of equipment are: resistive evaporation apparatus, an electron beam evaporation apparatus, arc evaporation apparatus, laser evaporation apparatus and a hollow cathode evaporation apparatus.It introduces the principle of related equipment, advantages and disadvantages. Emphatically identifies the electron beam evaporation apparatus in which an application.It is that Freestanding FeCrAl-Y2O3 amorphous/crystalline composite coating with a thickness of about 200nm has been produced from electron-beam physical vapor deposition of FeCrAl and yttria materials with a substrate temperature of 500 ℃ around. 关键词：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置、空心阴极蒸发装置 Keyword :Resistive evaporation apparatus, an electron beam evaporation apparatus, arc evaporation apparatus, a laser evaporation apparatus, a hollow cathode evaporation device
电工专用设备行业分析报告 一、所属行业概述 电工专用设备行业是为电器工业提供特种工艺设备的行业，是电工企业技术创新、产品开发、提高质量、提高效率、节能降耗的物质基础，产业地位非常重要。电器工业35个专业几乎都需要用电工专用设备，特别是变压器、电机行业，60%以上的工艺装备都是专用设备。电工专用设备按用途分类可分为10类，主要包括：发电机专用设备、变压器专用设备、电瓷专用设备、电机专用设备、绝缘材料专用设备、工业蓄电池专用设备、电线电缆专用设备。 电工专用设备制造业经过近30年的发展，总产值从1980年的800余万元发展到2008年的43.5亿元，呈现出持续增长的良好态势，并逐渐向科技含量高、资源消耗低、质量不断提高的方向发展。目前国产设备占据市场主导地位，市场占有率超过80%。电工专用装备必须进一步提高技术水平、产品质量和制造工艺才能满足电工企业节能降耗、提高效率、装备更新、技术升级的需要。 公司的主营业务为变压器专用设备及组件的设计、开发、制造、销售、服务。公司的主要产品为变压器专用设备及组件。变压器专用设备包括铁芯剪切设备、绕线设备、油箱设备、绝缘件加工设备、工装设备等，共二十多个品种、近百种规格，组件产品为片式散热器。 根据《上市公司行业分类指导》的规定，公司所属的行业为“C7 机械、设备、仪表”大类下的“C76 电器机械及器材制造业”中类下的“C7615 电工器械制造业”小类。根据《国民经济行业分类》（GB/t4754-2002），公司所属行业为“36 专用设备制造业”大类下“366 电子和电工机械专用设备制造”中类下的“3661 电工机械专用设备制造”小类。 二、国际市场环境不容乐观
真空镀膜机的详细结构 高真空镀膜机，镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统. 下面本人详细介绍各部分的组成及工作原理。 一、真空主体——真空腔 根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M 等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统 此排气系统采用“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋p olycold”组成 排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。 排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵（主要介绍罗茨泵）、油扩散泵三大部分组成。 机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。 机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用最广泛，本文主要介绍）四种类型。 机械泵常常被用来抽除干燥的空气，但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体，机械泵一般被用来抽除永久性的气体，但是对水气没有好的效果，所以它不能抽除水气。旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等，转子在定子里面但与定子不同心轴，象两个内切圆，转子槽内装有两片弹片，两弹片中间装有弹簧，保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。 它的两个弹片交替起着两方面的作用，一方面从进气口吸进气体，另一方面压缩已经吸进的气体，将气体排出泵外。转子每旋转一周，泵完成两次吸气和两次排气。当泵连续顺时针转动时，旋片泵不断的通过进气口吸入气体，又从排气口不断的排出泵外，实现对容器抽气的目的。为了提高泵的极限真空度，均将泵的定子浸在油里面这样，在各处的间隙中及有害空间里面经常保持足够的油，把空隙填满，所以油一方面起到了润滑作用，另一方面又起了密封和堵塞缝隙及有害空间的作用，防止气体分子通过各种渠道反流到压强低的空间去。 机械泵是从大气开始工作的，它的主要参数有极限真空，抽气速率，此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从大气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵可以将容器从大气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。 抽气速率，是指旋片泵按额定转数运转时，单位时间内所能排出气体的体积，可以用下公式计算： Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸气结束时空腔截面积，L表示空腔长度，系数表示转子每旋转一周有两次排气过程，Vs表示当转子处于水平位置的时候，吸气结束，此时空腔内的体积最大，转速为n。
真空镀膜技术的现状及发展 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1 真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1．1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1．2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸发。直枪的功率从几百瓦至几百千瓦的都有，有的可用于真空蒸发，有的可用于真空冶炼。直枪的缺点是蒸镀的材料会污染枪体结构，给运行的稳定性带来困难，同时发射灯丝上逸出的钠离子等也会引起膜层的污染，最近由西德公司研究，在电子束的出口处设置偏转磁场，并在灯丝部位制成一套独立的抽气系统而做成直枪的改进形式，不但彻底干便了灯丝对膜的污染，而且还有利于提高枪的寿命。
真空镀膜设备项目合作计划书 规划设计/投资分析/产业运营
摘要说明— 真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式 沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺（PVD）。 因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金 属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。 该真空镀膜设备项目计划总投资18780.30万元，其中：固定资产投资14432.45万元，占项目总投资的76.85%；流动资金4347.85万元，占项目 总投资的23.15%。 达产年营业收入36807.00万元，总成本费用27866.37万元，税金及 附加376.87万元，利润总额8940.63万元，利税总额10550.69万元，税 后净利润6705.47万元，达产年纳税总额3845.22万元；达产年投资利润 率47.61%，投资利税率56.18%，投资回报率35.70%，全部投资回收期 4.30年，提供就业职位706个。 报告内容：项目概况、投资背景及必要性分析、项目调研分析、项目 建设方案、项目建设地方案、土建工程说明、项目工艺技术、项目环境影 响分析、安全保护、项目风险、项目节能概况、实施进度、投资方案说明、项目经济效益分析、总结评价等。 规划设计/投资分析/产业运营
真空镀膜设备项目合作计划书目录 第一章项目概况 第二章投资背景及必要性分析第三章项目建设方案 第四章项目建设地方案 第五章土建工程说明 第六章项目工艺技术 第七章项目环境影响分析 第八章安全保护 第九章项目风险 第十章项目节能概况 第十一章实施进度 第十二章投资方案说明 第十三章项目经济效益分析 第十四章招标方案 第十五章总结评价
PVD真空镀膜简介 1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。 3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。 4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。 6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。 7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，以确定镀出的颜色是否满足要求。
龙源期刊网 https://www.doczj.com/doc/b58657471.html, 真空镀膜设备的研究进展及展望 作者：李超王鹏飞刘中博 来源：《中国科技博览》2013年第33期 [摘要] 近年来，随着人们对表面工程的追求，表面工程这门新兴学科在国内外得到了很 好的运用，实践证明，镀膜的运用使设备、工具的表面性能得到了有效的提高，提高了生产力，节约了能源。本文主要对几类新型工具镀膜技术的基本原理和特点进行了概述，同时针对我国的可持续发展，发展绿色环保型镀膜技术，对进一步开发新型镀膜技术设备提出了几点供人们思考。 [关键词] 多功能；真空；离子镀；多层镀；绿色环保； 中图分类号：O6-335 前言：随着人类文明的进步和人类认识的提高，工具镀膜，作为离子镀膜技术的一项很主要的应用，其重要性已逐渐被人们所认知，随着镀膜设备的应用和发展，镀膜技术收到了非常好的效果，同时也对取代污染严重的传统水电镀技术研究拓宽了新的思路。如何更好地推进工具镀膜各项技术的发展，也对人们提出了新的要求和挑战，同时也对这项应用技术的发展有了更多方面的想象和思考。 一、新型工具镀膜设备技术的发展 1、多层复合真空离子镀膜设备 进入90年代以来，随着多弧—磁控溅射多功能镀膜设备的研制成功，为后来多层复合真空离子镀膜技术的应用和发展打下了良好的基础，随着社会的不断发展以及人们对镀膜要求认识的不断提高，多层复合镀膜技术应用于产品更加被人们所重视，通过利用TiN良好的韧性来作为过度间隔层，将原有的结构由单层变成多层，提高了镀层的耐磨性和耐腐蚀性，同时在符合真空离子镀膜的技术中改进了原有多弧—磁控溅射所存在的问题，在多层复合真空离子镀膜的运用过程中，不仅保持了原有多弧技术离化率高、沉积速率大的特点，同时避免了原有工艺中“液滴”的缺陷。 2、真空蒸发镀膜设备 真空蒸发镀膜，顾名思义，就是在真空状态下将待镀材料加热后，达到一定的温度使其蒸发而以分子或原子的形态进入空间来达到镀膜的目的。真空镀膜均匀、附着力强，工具的机械性能和化学性能得到了提高，同时膜的纯度非常高、密实性好、表面光亮，大大提高了产品的产量。 3、真空磁控溅射设备
目录 CONTENTS 本文所有数据出自于|《2015-2020年中国冶金专用设备制造行业产销需求与投资预测分析报 告》 第一篇：2014年3-12月河北冶金专用设备产量统计 2014年12月河北冶金专用设备产量为吨，同比下降%，11月产量为吨，同比下降%，10月为吨，同比下降%。 2014年3-12月河北冶金专用设备产量统计表: 本文来源前瞻产业研究院，未经前瞻产业研究院书面授权，禁止转载，违者将被追究法律责任！ 第二篇：2014年北京市冶金专用设备产量统计分析 2014年北京市冶金专用设备产量统计,2014年12月北京市共生产冶金专用设备吨，同比增长%。 本文来源前瞻产业研究院，未经前瞻产业研究院书面授权，禁止转载，违者将被追究法律责任！ 第三篇：2014年冶金专用设备行业前景 根据《2015-2020年中国冶金专用设备制造行业产销需求与投资预测分析报告》分析，中国已经成为世界最大的钢铁生产国，同时也是世界最大的冶金专用设备市场。
中国冶金设备制造企业的自主创新能力已经大大增强。中国在大型成套热、冷连轧机的关键技术上与国际先进水平相比仍存在一定的差距。但是，多年来中国通过自主开发、引进消化和合作制造，开发了一系列达到国际先进技术水平的炼焦、炼铁、炼钢、连铸、轧制及钢材后处理等成套冶金设备。 近年来，我国钢铁工业继续保持着较快发展的态势，我国钢铁生产和消费已成为全球中心，对世界钢铁业发展有关重要的影响。2008年，中国钢铁企业明显加快了调整的步伐：河北、山东、广东三大省级钢铁集团在不到半年的时间内前后完成重组。这些重组与合并，必将影响我国冶金专用设备的市场需求，从另外一个角度分析，有利于提高我国冶金专用设备技术水平。与此同时，中国钢铁产业向沿海地区转移成为业内关注的焦点。 前瞻产业研究院冶金专用设备制造行业研究员指出，中国的冶金专用设备市场十分巨大，作为冶金专用设备制造企业要研究中国钢铁业和中国冶金专用设备产业的现状，瞄准中国冶金企业急需的冶金专用设备，进行研发，开拓新的市场。 （最新分析报告查看《2015-2020年中国冶金专用设备制造行业产销需求与投资预测分析报告》） 第四篇：中国冶金专用设备制造行业产销需求与投资预测分析报告 前瞻产业研究院摘要：报告主要分析了冶金专用设备制造行业的市场环境;冶金专用设备制造行业产业链状况;冶金专用设备制造行业发展状况;冶金专用设备制造行业竞争状况;冶金专用设备制造行业主要产品及技术状况;冶金专用设备制造行业重点区域发展状况.. 报告目录请查看《2015-2020年中国冶金专用设备制造行业产销需求与投资预测分析报告》 重型机械制造业是关系到国民经济命脉和国家安全的一个重要产业。在中央振兴装备制造业的战略决策及三年振兴规划的指引下，中国在“十二五”期间仍要坚持走新型工业化道路，以信息化促进工业化，用高新技术和先进实用技术改造传统产业。根据国民经济发展需要，将加强科技创新能力，提升产业升级，加快结构调整，提高综合竞争能力，大力振兴和发展重型机械制造业，以满足国民经济发展和国防安全的需求。随着全球经济的逐渐好转，未来几年中国重型机械行业有望实现较快的增长态势，并在技术能力上实现质的突破，在高端领域上形成国际竞争力。总体上看，中国重型机械行业的中长期发展势头依然看好。 冶金专用设备制造行业属于资金、技术、劳动密集型产业，产品大部分是单件小批量制
2020年集成电路专用设备行业分析报告 2020年10月
目录 一、集成电路专用设备行业概况 (4) 1、全球集成电路专用设备行业 (4) （1）市场需求情况 (4) （2）市场供给情况 (5) 2、我国集成电路专用设备行业 (6) （1）市场需求情况 (6) （2）市场供给情况 (7) 二、行业进入壁垒 (8) 1、技术壁垒 (8) 2、人才壁垒 (8) 3、客户资源壁垒 (9) 4、资金壁垒 (9) 5、产业协同壁垒 (10) 三、影响行业发展的因素 (11) 1、有利因素 (11) （1）全球集成电路重心向我国转移带来产业扩张和升级机遇 (11) （2）国家对集成电路制造的高度重视有助于行业的快速发展 (11) （3）产品更新换代加速，新型应用领域不断涌现 (12) （4）集成电路设备进口替代趋势愈趋明显 (13) 2、不利因素 (14) （1）产业基础薄弱，起点较低 (14) （2）产业配套环境有待进一步改善 (14) （3）高端技术人才相对缺乏 (14) 四、行业竞争情况 (15) 1、美国泰瑞达（Teradyne） (15) 2、日本爱德万（Advantest） (16)
3、美国安捷伦（Agilent） (16) 4、美国科休 (16) 5、美国鲁道夫（Rudolph） (16) 6、日本爱普生（Epson） (17) 7、以色列康特科技公司（Camtek） (17) 8、台湾鸿劲科技（Hon Tech） (18) 9、东京电子（Tokyo Electron） (18) 10、东京精密（TOKYO SEIMITSU） (18) 11、华峰测控 (18)