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TFT—LCD显示的原理与生产现状研究
作者：金杨林王雷
来源：《科学与信息化》2018年第05期
摘要 TFT-LCD是液晶显示技术中的一种，是将薄膜晶体管与液晶显示相结合的产物，这一技术在发展中经历了多次技术升级与突破形成了现有的生产技术模式，本文主要阐述了
TFT-LCD显示的机理，并对TFT-LCD的生产现状与发展趋势进行了分析。
关键词 TFT-LCD显示；原理；生产现状
1 TFT-LCD显示原理
在TN-LCD显示技术与STN-LCD显示技术之后发展起来TFT-LCD显示技术克服了这两种技术的缺点和不足，薄膜晶体管能够及时有效的将显示像素与扫描电极相分离，在某一行接收到了固定的扫描的信号以后，将此行的TFT单元全部打开，同时传递数据线与液晶像素间
的信息，可以使得显示像素中有相关电荷被存储，同时关闭其他行的TFT，使其连接数据线；在取消扫描信号的同时，TFT关闭而该行的整个像素上存储的电荷被保留，当接收到下一个信号的时候，像素上存储的电荷才会被释放，当处于显示状态，会选中某一指定行，而其他行仍然处于非选定状态，正是这种作用可以将交叉效应减弱甚至消失；此外，TFT具有泄漏电量小的特点，使得写入的显示电荷量在一定时间内基本不随时间发生变化，以此来实现占空比能够达到百分之百的显示效果[1]。
2 TFT-LCD生产发展现状及趋势分析
2.1 生产不断向着低成本化发展
一般而言，降低成本已成为企业赖以生存的重要法则。纵观TFT-LCD的发展历程，不难发现，增大玻璃基板尺寸、减少掩模版数量、提升基台产能和产品良率以及就近采购原材料等方式，是众多TFT-LCD生产企业不断努力的方向。目前，4掩模版光刻工艺已成为业界主
流，比如日本、韩国企业以及中国大陆的京东方等，均先后采用了4掩模版光刻工艺。为了不断降低生产成本，人们一直在努力探索如何进一步减少光刻工艺流程中掩模版的使用数量。近年来，三星以及LGD等韩国企业在3掩模版光刻工艺的开发上取得了突破性进展，并已宣告实现量产，目前也在进一步的发展和完善中。从长远的发展来看，如果Inkjet（喷墨）打印技术取得突破，实现无掩模制造才是人们追求的终极目标。
2.2 生产向着高解析度发展
为实现大面积高解析度的液晶显示，通常需要采用低阻抗金属材料、高性能开关元件以及高精细加工技术等手段。在低阻抗金属制作TFT总线上，目前研究和使用较多的材料是铝。
通过围绕解决铝易形成小丘、化学腐蚀以及氧化等问题，先后报道了合金法（如Al-Cu、Al-