薄膜物理与技术》课程教学大纲
发布时间：2010-4-28 点击率：191
一、课程总述
本课程大纲是以2006年电子科学与技术专业人才培养方案为依据编制的。
二、教学时数分配
三、单元教学目的、教学重难点和内容设置
第一章真空技术基础
【教学目的】真空技术是薄膜制作的基础，
【重点难点】真空获得的一些手段及常用的测量方法。
【教学内容】真空的基础知识及真空的获得和测量。
第二章真空蒸发镀膜法
【教学目的】蒸发镀膜是最常用的镀膜技术，设备简单，成膜质量高，成膜速率快，是真空镀膜的基础。
【重点难点】蒸发源与基片的配置。掌握根据不同材质镀膜的需求，选择蒸发源的类别及配置。理解金属、合金及化合物蒸发过程中的特点。
【教学内容】真空蒸发原理，蒸发源的蒸发特性及膜厚分布，蒸发源的类型，合金及化合物的蒸发，膜厚和淀积速率的测量与监控。