2015年光刻胶专用化学品行业分析报告

2015年光刻胶专用化学品行业分析报告

2015年3月

目录

一、行业分析：光刻胶专用化学品市场空间广阔 (3)

1、光刻胶专用化学品介绍 (3)

2、光刻胶专用化学品市场前景良好 (5)

（1）受益于PCB 产业转移，中国PCB 光刻胶专用化学品迎发展良机 (5)

（2）LCD 光刻胶专用化学品市场机遇佳 (7)

（3）国内半导体光刻胶专用化学品蓄势待发 (8)

3、行业集中度高，公司乘风破浪前行 (9)

二、标杆分析：强力新材 (11)

1、公司介绍：光刻胶专用化学品龙头 (11)

（1）专注于光刻胶专用化学品业务 (11)

（2）股权结构：自然人控股 (12)

（3）财务分析：业绩快速增长 (13)

2、公司竞争优势分析 (14)

（1）技术优势 (14)

（2）客户资源及服务优势 (15)

（3）行业地位突出 (16)

一、行业分析：光刻胶专用化学品市场空间广阔

1、光刻胶专用化学品介绍

光刻胶为电子工业的重要材料。光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版（mask）转移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X 射线、离子束等曝光源的照射或辐射，从而使光刻胶的溶解度发生变化。光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，是微制造领域最为关键性的材料。光刻胶1959 年被发明以来，就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为PCB 生产的重要材料。

二十世纪九十年代，光刻胶又被运用到LCD 器件的加工制作，对LCD 面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。