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几种器件的抗干扰能力

几种器件的抗干扰能力
几种器件的抗干扰能力

几种电源的抗干扰实验

-------厦门超力电子有限公司总工程师林宗璠

许多书本推荐采用“滤波器”、“开关电源”、“隔离变压器”、“UPS电源”等消除电磁干扰。其效果如何,不得而知。抗干扰实验需要电磁干扰发生器,价格昂贵。我们获得留学回国人员科研资助,进行了实验研究,现公布于众,大家共享。

1、滤波器

滤波器由L、C组成,都是无耗元件,自身不吸收、不消耗电磁干扰能量。厦门超力电子公司设计的实验电路如下图所示。

图1 滤波器抗干扰性能实验配置

受试设备EUI是滤波器保护的智能走马灯。智能走马灯都由“普通开关电源+单片机AT89C51控制”,电灯用于调节滤波器的负载功率。走马灯电路不含干扰源,也不含抗干扰软、硬件,是“纯裸机”。智能走马灯统一制作的,可以代表普通的大多数智能设备。

电磁干扰发生器输出较低的干扰电压时,智能走马灯工作正常;干扰电压较高时,走马灯工作不正常,发生复位、死机、显示错乱等故障。智能走马灯能承受的最高干扰电压值便可测得,根据国际标准IEC 61000,或者国家标准GB/T 17626,或者厦门超力电子有限公司制定的“电磁抗干扰器”标准Q/XMCL 001-2011,可以确定对应的抗扰度,并将之作为滤波器抗干扰性能的指标。

我们采用10种不同滤波器产品逐一代替图1中的滤波器,并测试智能走马灯的抗扰度。10种滤波器是:瑞士SCHAFFNER,德国VAC,日本TDK、日本三基,韩国BIT;中国航天706所、北京爱科创业电子、上海埃德电子(前身为中国航空无线电电子所电磁兼容研究所)、上海安州电子、常州坚力电子制造的,并按要求接地。实验结果是,10种滤波器保护的智能走马灯的电磁兼容性相当一致。

(1)“射频场感应的传导骚扰”抗扰度3级(国际标准最高等级),都能承受干扰试验电压10V。这表明滤波器是消除无线电干扰的好器件。

(2)“脉冲群”抗扰度2级左右,能承受干扰试验电压相接近,约900~1200V,频率100K Hz。其中中国航天706所的滤波器抗扰度最高,达到1200V;可惜远未达到2000V(抗扰度3级)的要求,都不适应典型的工业环境。

如果没有滤波器保护,智能走马灯自身可承受脉冲群干扰700~800V。可见“滤波器+接地”的贡献为200~400V。如果滤波器不接地,单独贡献约几十伏。实验表明,滤波器消除脉冲群干扰的能力很弱。

(3)“浪涌”抗扰度0级,都不能承受浪涌500V,表明滤波器没有抗浪涌干扰功能。

将2个滤波器串联使用,观察效果的提高,都在测量误差范围内,观察不到。

结论:一般智能设备由开关电源或者隔离变压器稳压供电,再采用滤波器保护,接地或者不接地,都不能适应工业环境,即滤波器,接地或者不接地,都不能消除工业干扰。

按照GB/T 7343-1987标准,滤波器的全称是“无源无线电干扰滤波器”,用于消除几伏电压的无线电干扰。它用于消除工业干扰没有标准依据。

2、抗电磁干扰器

我们测试了厦门超力电子公司的PEVIO“抗干扰器”,型号EMC3的实验结果如下。

(1)“射频场感应的传导骚扰”抗扰度3级,达到国际标准最高等级,能承受干扰试验电压15V以上。这表明抗干扰器是消除无线电干扰的好器件。

(2)“浪涌”抗扰度4级,能承受浪涌干扰电压:线-线2KV,线-地免试(不接地)。

(3)“脉冲群”抗扰度3级,能承受干扰试验电压2KV,频率100K Hz。

结论:一般智能设备采用EMC3抗干扰器保护,可适应典型的工业环境。

型号EMC4抗干扰器的实验结果如下。

(1)“射频场感应的传导骚扰”抗扰度3级,达到国际标准最高等级,能承受干扰试验电压20V以上。这表明抗干扰器是消除无线电干扰的好器件。

(2)“浪涌”抗扰度4级,国际标准最高等级,承受浪涌干扰电压:线-线2KV,线-地免试(不接地)。

(3)“脉冲群”抗扰度4级,能承受干扰试验电压4KV,频率100K Hz。

结论:一般智能设备采用EMC4抗干扰器保护,可适应严酷的工业环境。

3、开关电源

测量电源抗干扰能力的实验电路如图2所示。它是图1简化而得。

图2 电源抗干扰能力实验电路

普通“开关电源”保护的智能走马灯可承受的脉冲群电压700~800V,频率100K Hz。实验表明,“开关电源”具有较低的抗脉冲群干扰能力。

4、隔离变压器稳压电源

普通“隔离变压器+整流+7805稳压电源”保护的智能走马灯可承受的脉冲群电压700~800V,频率100K Hz。实验表明,“开关电源”具有较低的抗脉冲群干扰能力。

5、UPS电源

在钢铁公司转炉厂,我们将“现场电磁干扰检测仪”连接在西门子智能控制系统中的UPS电源输出端,历时半小时,就捕捉到5次电磁干扰,最高电压达到1430V。实验表明,在UPS供电条件下,仍然属于“典型的工业环境”,应该采用EMC3、4的抗干扰器保护智能设备。

前馈反馈控制系统

前馈—反馈复合控制系统 摘要 流量是工业生产过程中重要的被控量之一,因而流量控制的研究具有很大的现实意义。锅炉的流量控制对石油、冶金、化工等行业来说必不可少。本论文的目的是锅炉进水流量定值控制,在设计中充分利用自动化仪表技术,计算机技术,自动控制技术,以实现对水箱液位的过程控制。首先对被控对象的模型进行分析,并采用实验建模法求取模型的传递函数。然后,根据被控对象模型和被控过程特性并加入PID调节器设计流量控制系统,采用动态仿真技术对控制系统的性能进行分析。同时,通过对实际控制的结果进行比较,验证了过程控制对提高系统性能的作用。随着计算机控制技术的迅速发展,组态技术开始得到重视与运用,它能够很好地解决传统工业控制软件存在的种种问题,使用户能根据控制对象和控制目的任意组态,完成最终的自动化控制工程。 关键词:流量定值;过程控制;PID调节器;前馈控制;系统仿真

目录 一.前馈控制 1.前馈控制的定义 2.换热器前馈控制 二.前馈控制的特点及局限性 1.前馈控制的特点 2.前馈控制的局限性 三.反馈控制 1.定义

2.反馈控制的特点 四.复合控制系统特性 1.前馈-反馈复合控制原理 2.复合控制系统特点 五.小结 六.参考文献 一、前馈控制 1.前馈控制的定义 前馈控制(英文名称为Feedforward Control),是按干扰进行调节的开环调节系统,在干扰发生后,被控变量未发生变化时,前馈控制器根据干扰幅值,变化趋势,对操纵变量进行调节,来补偿干扰对被控变量的影响,使被控变量保持不变的方法。

2.换热器前馈控制 在热工控制系统中,由于控对象通常存在一定的纯滞后和容积滞后,因而从干扰产生到被调量发生变化需要一定的时间。从偏差产生到调节器产生控制作用以及操纵量改变到被控量发生变化又要经过一定的时间,可见,这种反馈控制方案的本身决定了无法将干扰对被控量的影响克服在被控量偏离设定植之前,从而限制了这类控制系统控制质量的进一步提高。考虑到偏差产生的直接原因是干扰作用的结果,如果直接按扰动而不是按偏差进行控制,也就是说,当干扰一出现调节器就直接根据检测到的干扰大小和方法按一定规律去控制。由于干扰发生后被控量还未显示出变化之前,调节器就产生了控制作用,这在理论上就可以把偏差彻底消除。按照这种理论构成的控制系统称为前馈控制系统,显然,前馈控制对于干扰的克服要比反馈控制系统及时的多。 前馈控制系统的工作原理可结合下面图1所示的换热器前馈控制进一步说明,图中虚线部分表示反馈控制系统。 图1换热器物料出口温度前馈控制流程图 t一定。当被加换热器是用蒸汽的热量加热排管中的料液,工艺上要求料液出口温度 1 热水流量发生变化时,若蒸汽量不发生变化,而要使出口温度保持不变,就必须在被加热水量发生变化的同时改变蒸汽量。这就是一个前馈控制系统。 图中虚线所示是反馈控制的方法,这种方法没有前馈控制及时。图1前馈控制系统的原理框图于图2所示。

微电子器件_刘刚前三章课后答案

课后习题答案 1.1 为什么经典物理无法准确描述电子的状态?在量子力学 中又是用什么方法来描述的? 解:在经典物理中,粒子和波是被区分的。然而,电子和光子是微观粒子,具有波粒二象性。因此,经典物理无法准确描述电子的状态。 在量子力学中,粒子具有波粒二象性,其能量和动量是通过这样一个常数来与物质波的频率ω和波矢建立联系的,即 c h p h E ====υω υ 上述等式的左边描述的是粒子的能量和动量,右边描述的则是粒子波动性的频率ω和波矢。 1.2 量子力学中用什么来描述波函数的时空变化规律? 解:波函数ψ是空间和时间的复函数。与经典物理不同的是,它描述的不是实在的物理量的波动,而是粒子在空间的概率分布,是一种几率波。如果用()t r ,ψ表示粒子的德布洛意波的振幅,以()()()t r t r t r ,,,2 ψψψ*=表示波的强度,那么,t 时刻在r 附近的小体积元z y x ???中检测到粒子的概率正比于()z y x t r ???2,ψ。

1.3 试从能带的角度说明导体、半导体和绝缘体在导电性能上的差异。 解:如图1.3所示,从能带的观点 来看,半导体和绝缘体都存在着禁 带,绝缘体因其禁带宽度较大 (6~7eV),室温下本征激发的载流子 近乎为零,所以绝缘体室温下不能 导电。半导体禁带宽度较小,只有1~2eV ,室温下已经有一定数量的电子从价带激发到导带。所以半导体在室温下就有一定的导电能力。而导体没有禁带,导带与价带重迭在一起,或者存在半满带,因此室温下导体就具有良好的导电能力。 1.4 为什么说本征载流子浓度与温度有关? 解:本征半导体中所有载流子都来源于价带电子的本征激发。由此产生的载流子称为本征载流子。本征激发过程中电子和空穴是同时出现的,数量相等,i n p n ==00。对于某一确定的半导体材料,其本征载流子浓度为kT E V C i g e N N p n n ==002 式中,N C ,N V 以及Eg 都是随着温度变化的,所以,本征载流子浓度也是随着温度变化的。 1.5 什么是施主杂质能级?什么是受主杂质能级?它们有何异同?

单片机抗干扰能力

单片机抗干扰能力 单片机的抗干扰性能历来为大家所重视,现在市面上的单片机就我所接触过的,就有 十家左右了,韩国的三星和现代;日本的三菱,日立,东芝,富士通,NEC;台湾的 EMC,松汉,麦肯特,合泰;美国的摩托罗拉,国半的cop8系列,microchip系列,TI 的msp430系列,AVR系列,51系列,欧洲意法半导体的ST系列。。。。。。 这些单片机的抗干扰性能大多数鄙人亲自测试过,所用机器是上海三基出的两种 高频脉冲干扰仪,一种是欧洲采用的标准,一种是日本采用的标准;

日本的标准是高 频脉冲连续发出,脉冲宽度从50ns到250ns可调,欧洲采用的标准是脉冲间歇(间歇 时间和发出时间可调)发出,脉宽也是从50ns到250ns可调;我们国家采用的是欧洲 标准。 一般情况下,脉冲干扰这一项能够耐受2000V以上就算不错了(好像我国家电标准 是1200V),有些可以达到3000V,于是很多人为此很得意。 单片机在高频脉冲干扰下程序运行是否正常,或者说抗干扰是否通过,有些人以

程序不飞掉,或者说“死机”为标准,有些人以不复位并且程序正常运行为标准。 很多情况下,芯片复位程序是可以继续运行的,表面上看的不是很清楚。我一般就看 单片机在干扰下是否复位,复位了我就认为不行了。不复位并且程序正常运行当然比 复位来说要好了。 好多人看到自己做的电路抗干扰达到2000V或者3000V就很高兴,实际上芯片的抗 干扰并不一定就很好。这里我不能不说一下日本的标准,高频脉冲连续发出的形式。 别小看一个连续和一个间歇的区别,实际上,大家如果有机会,用日本的标准测试一

下你的芯片和电路,你就会发现,几乎和欧洲标准差别很大很大,采用日本标准你会 很伤心,因为大多数单片机过不了! 日本的标准是1600V。上面我提到的十几家单片机: 意法的也就是ST的≥1800 三菱的≥1800 富士通和日立的≥1600V nec的≥1500 东芝的≥1300V 摩托罗拉的≥1300

前馈控制和反馈控制

前馈控制、反馈控制及前馈-反馈控制的对比 1、前馈控制属于开环控制,反馈控制属于负反馈的闭环控制 一般定值控制系统是按照测量值与给定值比较得到的偏差进行调节,属于闭环负反馈调节。其特点是在被控变量出现偏差后才进行调节;如果干扰已经发生而没有产生偏差,调节器不会进行工作。因此反馈控制方式的调节作用落后于干扰作用。 前馈调节是按照干扰作用来进行调节的。前馈控制将干扰测量出来并直接引入调节装置,对于干扰的克服比反馈控制及时。 现在以换热器控制方案举例,直观阐述前馈控制和反馈控制: 前馈控制方案 反馈控制方案 2、前馈控制系统中测量干扰量,反馈控制系统中测量被控变量 在单纯的前馈控制系统中,不测量被控变量,而单纯的反馈控制系统中不测量干扰量。 3、前馈控制需要专用调节器,反馈控制一般采用通用PID调节器 反馈调节符合PID调节规律,常用通用PID调节器、DCS等或PLC控制系统实现。 前馈调节使用的调节器是是根据被控对象的特点来确定调节规律的前馈调节器。 4、前馈控制只能克服所测量的干扰,反馈控制则可克服所有干扰 前馈控制系统中若干扰量不可测量,前馈就不可能加以克服。而反馈控制系统中,任何干扰,只要它影响到被控变量,都能在一定程度上加以

克服。 5、前馈控制理论上可以无差,反馈控制必定有差 反馈调节使系统达到动态稳定,让被调参数稳定在给定值附近动态变化,却不能使被调参数稳定在给定值上不动。 前馈调节在理论上可以实现无差调节。 6、前馈控制的局限性 A、在生产应用中各种环节的特性是随负荷变化的,对象动态特性形式多样性难以精确测量,容易造成过补偿或欠补偿。为了补偿前馈调节的不准确,通常将前馈和反馈控制系统结合起来组成前馈反馈控制系统。 B、工业对象存在多个扰动,若均设置前馈控制器,那设备投资高,工作量大。 C、很多前馈补偿结果在现有技术条件下没有检测手段。 D、前馈控制受到前馈控制模型精度限制。 E、前馈控制算法,往往做近似处理。

如何提高视频的抗干扰能力

视频监控系统中的各种干扰解决方法大全监控系统在各领域中的应用越来越多,在不同环境、不同安装条件和不同施工人员下,由于线路、电气环境的不同,或是在施工中疏忽,容易引发各种不同的干扰。这些干扰就会通过传输线缆进入闭路电视监控系统,造成视频图像质量下降、系统控制失灵、运行不稳定等现像,直接影响到整个系统的质量。因此了解视频监控系统有哪些干扰,有助于根据不同的情况采取相应的措施,对提高监控系统工程质量,确保系统的稳定运行非常有益。 1视频监控中的各种干扰 1.1木纹状的干扰 这种干扰的出现,轻微时不会淹没正常图像,而严重时图像就无法观看了(甚至破坏同步)。这种故障现象产生的原因较多也较复杂。大致有如下几种原因: (1)视频传输线的质量不好,特别是屏蔽性能差(屏蔽网不是质量很好的铜线网,或屏蔽网过稀而起不到屏蔽作用)。与此同时,这类视频线的线电阻过大,因而造成信号产生较大衰减也是加重故障的原因。此外,这类视频线的特性阻抗不是75Ω以及参数超出规定也是产生故障的原因之一。由于产生上述的干扰现象不一定就是视频线不良而产生的故障,因此这种故障原因在判断时要准确和慎重。只有当排除了其它可能后,才能从视频线不良的角度去考虑。若真是电缆质量问题,最好的办法当然是把所有的这种电缆全部换掉,换成符合要求的电缆,这是彻底解决问题的最好办法。 (2)由于供电系统的电源不“洁净”而引起的。这里所指的电源不“洁净”,是指在正常的电源(50周的正弦波)上叠加有干扰信号。而这种电源上的干扰信号,多来自本电网中使用可控硅的设备。特别是大电流、高电压的可控硅设备,对电网的污染非常严重,这就导致了同一电网中的电源不“洁净”。比如本电网中有大功率可控硅调频调速装置、可控硅整流装置、可控硅交直流变换装置等等,都会对电源产生污染。这种情况的解决方法比较简单,只要对整个系统采用净化电源或在线UPS供电就基本上可以得到解决。

单片机的抗干扰能力

单片机的抗干扰能力 在我一次产品中有AVR 和PIC 两种芯片同时存在,当用AVR 推动继电器-- 再推动接触器。用PIC 来显示。发现PIC 居然有点小小的干扰,不得不在外围电路上加措施才解决问题。都说PIC 的抗干扰一流的,我怀疑之下对两种单片机做一个小小的测试。首先说明,我只是比较单个芯片的最小系统,比较单片机的自身抗干扰能力。 1。电源用变压器变压12V ,7805 稳压,输入输出均接电解电容和104 电容。 2。单片机最小系统,用3 个I/O ,按钮,指示灯,驱动三极管(继电器-- 再推动接触器)不用的管脚不管。 3。干扰源,由于没有仪器,只好用接触器的线圈来做干扰源,为了加强干扰,接触器线圈两端没有加104 电容。 4。软件,最小最简单,不加任何处理只推动作用。 5。元件选择,PIC 的用PIC16C54 ,PIC16F54 ,PIC16F877A , PIC16F716。AVR 的选用M8。AT28 , AT13。 接下来做测试了: PIC16C54 :先是接触器放在芯片旁边。无论怎么按动按钮,接触器的干扰对它一点反映也没有,真是稳如泰山。再用接触器线圈引线缠绕芯片。在6 圈以下还是稳如泰山。上了7 圈就有干扰 了。看来PIC16C54 真是强悍啊。佩服。接下去就试PIC16F54

了。 PIC16F54 :先是接触器放在芯片旁边。不得了!程序简直没有办法运行,和PIC16C54 简直一个在天上,一个在地下。万思不得其解。查阅PIC 资料都说PIC 的F 系列比C 系列差,就是F 系列的不同产品抗干扰也不一样。于是又测试 PIC16F716 。PIC16F716 : 先是接触器放在芯片旁边。果然好多了,10 次也就1 次复位。PIC16F877A : 先是接触器放在芯片旁边。无论怎么按动按钮,接触器的干扰对它一点反映也没有,再用接触器线圈引线缠绕芯片。在 1 圈就有干扰复位了。 以上就是对我有的几种PIC 片子的测试结果。接下来对AVR 的M8 做测试。 M8:先是接触器放在芯片旁边。先是接触器放在芯片旁边。无论怎么按动按钮,接触器的干扰对它一点反映也没有,再用接触器线圈引线缠绕芯片。在1 圈就有干扰复位了。 AT28 :结果和PIC16F54 一样。 AT13 :先是接触器放在芯片旁边。先是接触器放在芯片旁边。无论 怎么按动按钮,接触器的干扰对它一点反映也没有,再用接触器线圈引线缠绕芯片。在1-2 圈就有干扰复位了。从我自己测试的效果看,PIC 的C 系列很好。F 系列的早期产品如PIC16F54 很

前馈控制系统的基本原理

前馈控制系统的基 本原理

前馈控制系统 前馈控制系统的基本原理 前馈控制的基本概念是测取进入过程的干扰(包括外界干扰和设定值变化),并按其信号产生合适的控制作用去改变操纵变量,使受控变量维持在设定值上。图2.4-1物料出口温度θ需要维持恒定,选用反馈控制系统。若考虑干扰仅是物料流量Q ,则可组成图 2.4-2前馈控制方案。方案中选择加热蒸汽量s G 为操纵变 量。 图2.4-1 反馈控制 图2.4-2 前馈控制 前馈控制的方块图,如图 2.4- 3。 系统的传递函数可表示为: )()()()()(1S G S G S G S Q S Q PC ff PD += (2.4-1) 式中)(s G PD 、)(s G PC 分别表示对象干扰 道和控制通道的传递函数;)(s G ff 为前馈控 图2.4-3 前馈控制方块图

制器的传递函数。 系统对扰动Q实现全补偿的条件是: ) (≠ s Q时,要求0 ) (= s θ(2.4-2) 将(1-2)式代入(1-1)式,可得 ) (s G ff = ) ( ) ( S G S G PC PD -(2.4-3) 满足(1-3)式的前馈补偿装置使受控变量 θ不受扰动量Q变化的影响。图2-4-4表示 了这种全补偿过程。 在Q阶跃干扰下,调节作用 c θ和干扰作用dθ的响应曲线方向相反,幅值相同。因此它们的合成结果,可使θ达到图2.4-4 前馈控制全补偿示意图 理想的控制连续地维持在恒定的设定值上。显然,这种理想的控制性能,反馈控制系统是做不到的。这是因为反馈控制是按被控变量的偏差动作的。在干扰作用下,受控变量总要经历一个偏离设定值的过渡过程。前馈控制的另一突出优点是,本身不形成闭合反馈回路,不存在闭环稳定性问题,因而也就不存在控制精度与稳定性矛盾。 1.前馈控制与反馈控制的比较

微电子工艺习题总结(DOC)

1. What is a wafer? What is a substrate? What is a die? 什么是硅片,什么是衬底,什么是芯片 答:硅片是指由单晶硅切成的薄片;芯片也称为管芯(单数和复数芯片或集成电路);硅圆片通常称为衬底。 2. List the three major trends associated with improvement in microchip fabrication technology, and give a short description of each trend. 列出提高微芯片制造技术相关的三个重要趋势,简要描述每个趋势 答:提高芯片性能:器件做得越小,在芯片上放置得越紧密,芯片的速度就会提高。 提高芯片可靠性:芯片可靠性致力于趋于芯片寿命的功能的能力。为提高器件的可靠性,不间断地分析制造工艺。 降低芯片成本:半导体微芯片的价格一直持续下降。 3. What is the chip critical dimension (CD)? Why is this dimension important? 什么是芯片的关键尺寸,这种尺寸为何重要 答:芯片的关键尺寸(CD)是指硅片上的最小特征尺寸; 因为我们将CD作为定义制造复杂性水平的标准,也就是如果你拥有在硅片某种CD的能力,那你就能加工其他所有特征尺寸,由于这些尺寸更大,因此更容易产生。 4. Describe scaling and its importance in chip design. 描述按比例缩小以及在芯片设计中的重要性 答:按比例缩小:芯片上的器件尺寸相应缩小是按比例进行的 重要性:为了优电学性能,多有尺寸必须同时减小或按比例缩小。 5. What is Moore's law and what does it predict? 什么是摩尔定律,它预测了什么 答:摩尔定律:当价格不变时,集成电路上可容纳的晶体管数,月每隔18个月便会增加1倍,性能也将提升1倍。 预言在一块芯片上的晶体管数大约每隔一年翻一番。 第二章 6. What is the advantage of gallium arsenide over silicon? 砷化镓相对于硅的优点是什么 答:优点:具有比硅更高的电子迁移率;减小寄生电容和信号损耗的特性;集成电路的速度比硅电路更快;材料的电阻率更大。 7. What is the primary disadvantage of gallium arsenide over silicon? 砷化镓相对于硅的主要缺点是什么 答:主要缺点:缺乏天然氧化物;材料的脆性;成本比硅高10倍;有剧毒性在设备,工艺和废物清除设施中特别控制。

过零比较器的性质及其抗干扰能力的提高

过零比较器的性质及其抗干扰能力的提高 1114211班郝建响01 能够实现对两个或多个进行比较,以确定它们是否相等,或确定它们之间的大小关系及排列顺序的比较功能的或装置称为比较器。其基本功能是对两个输入电压进行比较,并根据比较结果输出高电平或低电平电压,据此来判断输入信号的大小和极性。电压比较器常用于自动控制、波形产生与变换,模数转换以及越限报警等许多场合。比较器是将一个模拟电压与一个基准电压相比较的。比较器的两路输入为,输出则为信号,当输入电压的差值增大或减小时,其输出保持恒定。 过零比较器被用于检测一个输入值是否是零。原理是利用比较器对两个输入电压进行比较。两个输入电压一个是参考电压Vr,一个是待测Vu。一般Vr从正相输入端接入,Vu从反相输入端接入。根据比较输入电压的结果输出正向或反向饱和电压。当参考电压已知时就可以得出待测电压的测量结果,参考电压为零时即为过零比较器。 用比较器构造的过零比较器存在一定的测量误差。当两个输入端的电压差与开环放大倍数之积小于输出阈值时探测器都会给出零值。例如,开环放大倍数为106,输出阈值为6v时若两输入级电压差小于6微伏探测器输出零。这也可以被认为是测量的不确定度。 零电平比较器(过零比较器) 电压比较器是将一个模拟输入信号ui与一个固定的参考电压UR进行比较和鉴别的电路。 参考电压为零的比较器称为零电平比较器。按输入方式的不同可分为反相输入和同相输入两种零电位比较器,如图1(a)、(b)所示 (a)反相输入;(b)同相输入

通常用阈值电压和传特性来描述比较器的工作特性。 阈值电压(又称门槛电平)是使比较器输出电压发生跳变时的输入电压值,简称为阈值,用符号UTH表示。 估算阈值主要应抓住输入信号使输出电压发生跳变时的临界条件。这个临界条件是集成运放两个输入端的电位相等(两个输入端的电流也视为零),即U+=U–。对于图1(a)U–=Ui, U+=0, UTH=0。 传输特性是比较器的输出电压uo与输入电压ui在平面直角坐标上的关系。 画传输特性的一般步骤是:先求阈值,再根据电压比较器的具体电路,分析在输入电压由最低变到最高(正向过程)和输入电压由最高到最低(负向过程)两种 情况下,输出电压的变化规律,然后画出传输特性。 分析如下电路: 1)R11作为上拉电阻,作用不大,取值范围很宽,当运放使用LM358的时候,不用也可以。不过,有些比较器是集电极开路的,当使用集电极开路的比较器的时候,这个上拉电阻是必须的。 2)运算放大器组成一个施密特触发器(也叫做滞回触发器),使触发信号有一个滞回,从而使触发后能够可靠翻转,避免小的干扰信号造成触发器误动作。R10叫做滞回电阻,也可以称作正反馈电阻。 由于有了R10,电路才有了滞回特性。调节R10的大小,可以调节滞回的深浅。当R10 无穷大(开路)的时候,电路就失去了滞回特性,从而变成了一个单纯的比较器。 为了更好地说明R10 的作用,我们假定VCC是10伏。那么,当没有R10的时候(R10 开路),输入到2脚的电压低于5负的时候,1脚输出为高电平。2脚高于5伏的时候,1脚输出低电平。这里没有滞回特性。运放就是作为一个比较器。如果在5伏左右,有一个零点几伏的干扰信号叠加进来,就会使比较器产生误动作,频繁地来回翻转。

单片机抗干扰方法

如何提高抗干扰性能 搞过产品的朋友都有体会,一个设计看似简单,硬件设计和代码编写很快就搞定,但在调试过程中却或多或少的意外,这些都是抗干扰能力不够的体现。 下面讨论一下如何让你的设计避免走弯路: 抗干扰体现在2个方面,一是硬件设计上,二是软件编写上。 这里重点提醒:在MCU设计中主要抗干扰设计是在硬件上,软件为辅。因为MCU的计算能力有限,所以要在硬件上花大工夫。 看看干扰的途径: 1:干扰信号干扰MCU的主要路径是通过I/O口,一是影响了MCU的数据采集,二是影响内部其它寄存器。 解决方法:后面讨论。 2:电源干扰:MCU虽然适应电压较宽(3-5。5V),但对于电源的波动却很敏感,比如说MCU可以在3V电压下稳定工作,但却不能在电压在3V-5。5V波动的情况下稳定工作。 解决方法:用电源稳压块,做好电源的滤波等工作,提示:一定要在电源旁路并上0。1UF 的瓷片电容来滤除高频干扰,因为电解电容对超过几十KHZ的高频干扰不起作用。 3:上下电干扰:但每个MCU系统在上电时候都要经过这样一个过程,所以要尤其注意。MCU虽然可以在3V电压下稳定工作,但并不是说它不能在3V以下的电压下工作,当然在如此低的电压下MCU是超不稳定状态的。在系统加电时候,系统电源电压是从0V上升到额定电压的,比如当电压到2V时候,MCU开始工作了,但这时是超不稳定的工作,极容易跑飞。 解决方法:1让MCU在电源稳定后才开始工作。PIC在片内集成了POR(内部上电延时复位),这功能一定要在配置位中打开。 外部上电延时复位电路。有多种形式,低成本的就是在复位脚接个阻容电路。高成本的是用专用芯片。这方面的资料特多,到处都可以查找。 最难排除的就是上面第一种干扰,并且干扰信号随时可以发生,干扰信号的强度也不尽相同。但它们也有相同点:干扰信号也遵循欧姆定律,干扰信号偶合路径无非是电磁干扰,一是电火花,二是磁场。 其中干扰最厉害的是电火花干扰,其次是磁场干扰。电火花干扰表现场合主要是附近有大功率开关、继电器、接触器、有刷电机等。磁场干扰表现场合主要是附近有大功率的交流电机、变压器等。 解决方法: 第一点:也是最经典的,就是在PCB步线和元件位置安排上下工夫,这中间学问很多,说几天都说不完^^。 二:综合考虑各I/O口的输入阻抗,采集速率等因素设计I/O口的外围电路。 一般决定一个I/O口的输入阻抗有3种情况: A:I/O口有上拉电阻,上拉电阻值就是I/O口的输入阻抗。 一般大家都用4K-20K电阻做上拉,(PIC的B口内部上拉电阻约20K)。 由于干扰信号也遵循欧姆定律,所以在越存在干扰的场合,选择上拉电阻就要越小,因为干扰信号在电阻上产生的电压就越小。 由于上拉电阻越小就越耗电,所以在家用设计上,上拉电阻一般都是10-20K,而在强干扰场合上拉电阻甚至可以低到1K。 (如果在强干扰场合要抛弃B口上拉功能,一定要用外部上拉。)

前馈反馈水箱控制系统设计

课程设计 名称:前馈反馈水箱控制系统系别: 专业: 姓名: 学号: 指导教师:

·成绩评定· 指导教师评语: 课程设计成绩评定 班级姓名学号 综合成绩: 指导教师签字年月日

目录 一设计方案的介绍 (4) 二、工艺流程 (5) 三、前馈反馈控制的理论 (5) 四、设仪器仪表的选型 (5) 1、控制装置的选择 (5) 2、监测仪表 (6) 3、控制阀的选型 (6) 五、测量与控制端连接表 (7) 六、参数的整定 (7) 1、静态放大系数K F的整定 (7) 2、控制器参数的选择 (8) 七、总结 (9) 八、参考文献 (10)

九、附录 一设计方案的介绍 设计采用前馈反馈控制来实现水箱的液位控制。其中前馈控制可以补偿干扰对被控变量的扰动,前馈控制之后产生的余差则可以通过反馈控制进行修正,达到要求的控制精度。被控变量为水箱的液位,控制变量为水的流量。 采用两个支路,其中第一个支路为主回路,包括一个水泵(采用变频器变频控制电机模拟流量扰动),涡轮流量计;第二个支路为控制补偿回路,包括一个水泵(输出流量恒定),电动控制阀。除此之外在反馈回路中还需要一个液位测量仪表和PID控制仪表一台。前馈控制在不考虑控制通道与对象通道延迟,而且支路一流量可以准确的测量,需要一个PID控制仪表。前馈控制信号和反馈控制信号通过一个加法器连接,实现对控制阀的控制。 前馈反馈系统结构框图 1

前馈反馈控制系统原理图 2 二工艺流程 水箱液位的控制主要是控制水箱中的液位在要求的精度范围内。 一号水泵作为动力源给水的输送提供动力,进入水箱。并用变频器控制一号水泵用来模拟流量上产生的扰动。 二号水泵为补偿回路提供动力,为水箱提供水补偿。当扰动产生后,通过前馈控制调节阀对扰动产生补偿。补偿后产生的余差再通过反馈控制控制调节阀进行调节。 三前馈反馈控制的原理 前馈控制又称扰动补偿,它与反馈调节原理完全不同,是按照引起被调参数变化的干扰大小进行调节的。在这种调节系统中要直接测量负载干扰量的变化,当干扰刚刚出现并能被测出时,调节器就能发出调节信号使调节量作相应的变化,使两者在被调量发生偏差之前抵消。因此,前馈调节对干扰的客服比反馈调节及时。但是前馈控制是开环控制,其控制效果需要通过反馈加以检验。前馈控制器在测出扰动之后,按过程的某种物质或能量平衡条件计算出校正值。如果前馈支路出现扰动,经过流量计测量之后,测量得到干扰的大小,然后在反馈支路通过调整调节阀开度,直接进行补偿。而不需要经过调节器。 四仪器仪表的选型 1、控制装置的选择 由于不是大型生产过程,对自动化水平要求不高,所以选择采用常规仪表控制。考虑到价格、实用性等因素,选择数字化、智能化的国产电动控制仪表。如果考虑控制仪

微电子器件刘刚前三章课后答案

课后习题答案 1.1 为什么经典物理无法准确描述电子的状态?在量子力学 中又是用什么方法来描述的? 解:在经典物理中,粒子和波是被区分的。然而,电子和光子是微观粒子,具有波粒二象性。因此,经典物理无法准确描述电子的状态。 在量子力学中,粒子具有波粒二象性,其能量和动量是通过这样一个常数来与物质波的频率ω和波矢建立联系的,即 c h p h E ηη====υ ω υ 上述等式的左边描述的是粒子的能量和动量,右边描述的则是粒子波动性的频率ω和波矢。 1.2 量子力学中用什么来描述波函数的时空变化规律? 解:波函数ψ是空间和时间的复函数。与经典物理不同的是,它描述的不是实在的物理量的波动,而是粒子在空间的概率分布,是一种几率波。如果用()t r ,ψ表示粒子的德布洛意波的振幅,以 ()()()t r t r t r ,,,2 ψψψ*=表示波的强度,那么,t 时刻在r 附近的小体 积元z y x ???中检测到粒子的概率正比于()z y x t r ???2,ψ。

1.3 试从能带的角度说明导体、半导体和绝缘体在导电性能上的差异。 解:如图1.3所示,从能带的观点来看,半导体和绝缘体都存在着禁带,绝缘体因其禁带宽度较大(6~7eV),室温下本征激发的载流子近乎为零,所以绝缘体室温下不能 导电。半导体禁带宽度较小,只有1~2eV ,室温下已经有一定数量的电子从价带激发到导带。所以半导体在室温下就有一定的导电能力。而导体没有禁带,导带与价带重迭在一起,或者存在半满带,因此室温下导体就具有良好的导电能力。 1.4 为什么说本征载流子浓度与温度有关? 解:本征半导体中所有载流子都来源于价带电子的本征激发。由此产生的载流子称为本征载流子。本征激发过程中电子和空穴是同时出现的,数量相等,i n p n ==00。对于某一确定的半导体材料,其本征载流子浓度为kT E V C i g e N N p n n ==002 式中,N C ,N V 以及Eg 都是随着温度变化的,所以,本征载流子浓度也是随着温度变化的。 1.5 什么是施主杂质能级?什么是受主杂质能级?它们有何异同?

如何提高工控设备的抗干扰能力-

如何提高工控设备的抗干扰能力? 工控设备的核心问题,就是抗干扰能力,如果抗干扰能力不够高,那么,这个设备就是没有多大用处。 要提高工控设备的抗干扰能力,首先就是要学会正确的使用plc。 1.PLC的内核电源和输入输出接口电源应该独立。 绝大多数的用户,在设计系统电源时,只有一个电源,PLC的内核和接口都用这个电源。懂得光耦原理的人就会发现,这种接法,会把光耦旁路掉,也就是说,光耦完全没有起到隔离的作用,整个PLC完全是在“裸奔”,没有任何的保护能力,非常危险的!正确的做法是多加一个电源,专门只给PLC内核供电。输入输出接口可以共用一个电源。 2.PLC的输出口如果接到感性负载,例如电磁阀,继电器等有线圈的负载,需要在负载两端反向加一个吸收二极管。具体的方法,可以到我们的网站查看产品的接线图。 如果没有这个反向二极管,在电磁阀或继电器断开的瞬间,会产生一个反向电动势。这个反向电动势,和输出口的电源叠加在一起,会大大超过输出三极管(或场效应管)的电压承受极限,导致三极管击穿。对于反向二极管的参数,只要是电流不小于继电器电流,耐压不低于接口电源电压就

行了,像1N4004,1N4007都没有任何问题。另外,市场上的电磁阀,接线如果标有正负极的,就表示里面已经有了吸收电路,不用外接二极管了。 3.电源的选择。 干扰信号都是高频信号。比较典型的干扰信号源有变频器,可控硅调压电路。现在市面上的电源大多是开关电源,体积小,效率也很高,但是,最大的缺点就是,高频干扰信号可以长驱直入。而过去的老式电源,里面有个很大体积的变压器那种,体积大,效率低,但是对于高频干扰信号却可以很有效的抑制。所以,在选择内核电源时,应该选择老式变压器电源。 如果找不到老式变压器电源,可以在开关电源前接一个1:1的隔离变压器,或在内核电源的输入端接共模线圈,用来阻隔高频干扰。 4.布局。 干扰有2个途径,一是导线传导,二是空间辐射传导。以上的1和3就可以解决导线传导的干扰。对付空间干扰,最有效的办法就是加屏蔽罩(千万不要以为加屏蔽罩是可有可无的)。配电柜就是个很好的屏蔽罩。但是,屏蔽罩对于来自内部的干扰却束手无策。由于继电器甚至接触器一般也装配在在配电柜里面,继电器在断开的瞬间会产生一个高频干扰,这个干扰就会通过空间辐射,干扰PLC的工作。这时

上拉电阻&单片机硬件抗干扰

上拉电阻的作用 上下拉电阻: 1、当TTL电路驱动COMS电路时,如果TTL电路输出的高电平低于COMS电路的最低高电平(一般为3.5V),这时就需要在TTL的输出端接上拉电阻,以提高输出高电平的值。 2、OC门电路必须加上拉电阻,以提高输出的高电平值。 3、为加大输出引脚的驱动能力,有的单片机管脚上也常使用上拉电阻。 4、在CMOS芯片上,为了防止静电造成损坏,不用的管脚不能悬空,一般接上拉电阻产生降低输入阻抗,提供泄荷通路。 5、芯片的管脚加上拉电阻来提高输出电平,从而提高芯片输入信号的噪声容限增强抗干扰能力。 6、提高总线的抗电磁干扰能力。管脚悬空就比较容易接受外界的电磁干扰。 7、长线传输中电阻不匹配容易引起反射波干扰,加上下拉电阻是电阻匹配,有效的抑制反射波干扰。 上拉电阻阻值的选择原则包括: 1、从节约功耗及芯片的灌电流能力考虑应当足够大;电阻大,电流小。 2、从确保足够的驱动电流考虑应当足够小;电阻小,电流大。 3、对于高速电路,过大的上拉电阻可能边沿变平缓。综合考虑以上三点,通常在1k到10k之间选取。对下拉电阻也有类似道理. 如果有10V的电源 串联了两个两欧的的电阻那么这两个电阻中间的电位就是10除以4再乘以2 ,那么就是5V了,如过我要提高中间的电位,我在在中间电位点和另一个2欧电阻串联一个1欧的电阻  那么这个中间电位点就是 10除以5在乘以3,那么就是6v了所以相对与5v就提高了1v,只是电流降了0.5A 关于单片机硬件抗干扰 在研制带处理器的电子产品时,如何提高抗干扰能力和电磁兼容性? 一、下面的一些系统要特别注意抗电磁干扰: 1、微控制器时钟频率特别高,总线周期特别快的系统。 2、系统含有大功率,大电流驱动电路,如产生火花的继电器,大电流开关等。 3、含微弱模拟信号电路以及高精度A/D变换电路的系统。 二、为增加系统的抗电磁干扰能力采取如下措施: 1、选用频率低的微控制器: 选用外时钟频率低的微控制器可以有效降低噪声和提高系统的抗干扰能力。同样频率的方波和正弦波,方波中的高频成份比正弦波多得多。虽然方波的高频成份的波的幅度,比基波小,但频率越高越容易发射出成为噪声源,微控制器产生的最有影响的高频噪声大约是时钟频率的3倍。 2、减小信号传输中的畸变 微控制器主要采用高速CMOS技术制造。信号输入端静态输入电流在1mA左右,输入电容10PF左右,输入阻抗相当高,高速CMOS电路的输出端都有相当的带载能力,即相当大的输出值,将一个门的输出端通过一段很长线引到输入阻抗相当高的输入端,反射问题就很严重,它会引起信号畸变,增加系统噪声。当Tpd>Tr时,就成了一个传输线问题,必须考虑信号反射,阻抗匹配等问题。

电子产品的抗干扰能力和电磁兼容性要点

如何提升电子产品的抗干扰能力和电磁兼容性 在研制带处理器的电子产品时,如何提升抗干扰能力和电磁兼容性? 1、下面的一些系统要特别注意抗电磁干扰? (1) 微控制单元时钟频率特别高,总线周期特别快的系统。 (2) 系统含有大功率,大电流驱动电路,如产生火花的继电器,大电流开关等。 (3) 含微弱模拟信号电路以及高精度A/D 变换电路的系统。 2、为增加系统的抗电磁干扰能力采取如下措施? (1) 选用频率低的微控制单元? 选用外时钟频率低的微控制单元可以有效降低噪声和提升系统的抗干扰能力。同样频率的方波和正弦波,方波中的高频成份比正弦波多得多。虽然方波的高频成份的波的幅度,比基波小,但频率越高越容易发射出成为噪声源,微控制单元产生的最有影响的高频噪声大约是时钟频率的3 倍。 (2) 减小信号传输中的畸变 微控制单元主要采用高速CMOS 技术制造。信号输入端静态输入电流在1mA 左右,输入电容10PF 左右,输入阻抗相当高,高速CMOS 电路的输出端都有相当的带载能力,即相当大的输出值,将一个门的输出端透过一段很长线引到输入阻抗相当高的输入端,反射问题就很严重,它会引起信号畸变,增加系统噪声。当Tpd〉Tr 时,就成了一个传输线问题,必须考虑信号反射,阻抗匹配等问题。 信号在印制板上的延迟时间与引线的特性阻抗有关,即与印制线路板材料的介电常数有关。可以粗略地认为,信号在印制板引线的传输速度,约为光速的1/3 到1/2 之间。微控制单元构成的系统中常用逻辑电话组件的Tr(标准延迟时间)为3 到18ns 之间。 在印制线路板上,信号透过一个7W 的电阻和一段25cm 长的引线,在线延迟时间大致在4~20ns 之间。也就是说,信号在印刷线路上的引线越短越好,最长不宜超过25cm。而且过孔数目也应尽量少,最好不多于2 个。 当信号的上升时间快于信号延迟时间,就要按照快电子学处理。此时要考虑传输线的阻抗匹配,对于一块印刷线路板上的集成块之间的信号传输,要避免出现Td〉Trd 的情况,印刷线路板越大系统的速度就越不能太快。 用以下结论归纳印刷线路板设计的一个规则? 信号在印刷板上传输,其延迟时间不应大于所用器件的标称延迟时间。 (3) 减小信号线间的交叉干扰? A 点一个上升时间为Tr 的阶跃信号透过引线A B 传向B 端。信号在AB 在线的延迟时间是Td。在D 点,由于A 点信号的向前传输,到达B 点后的信号反射和AB 线的延迟,Td 时间以后会感应出一个宽度为Tr 的页脉波信号。在 C 点,由于AB 上信号的传输与反射,会感应出一个宽度为信号在AB 在线的延迟时间的两倍,即2Td 的正脉波信号。这就是信号间的交叉干扰。干扰信号的强度与C 点信号的di/at 有关,与线间距离有关。当两信号线不是很长时,AB 上看到的实际是两个脉波的迭加。 CMOS 工艺制造的微控制由输入阻抗高,噪声高,噪声容限也很高,数字电路是迭加100~200mv 噪声并不影响其工作。若图中AB 线是一模拟信号,这种干扰就变为不能容忍。如印刷线路板为四层板,其中有一层是大面积的地,或双面板,信号线的反面是大面积的地时,这种信号间的交叉干扰就会变小。原因是,大面积的地减小了信号线的特性阻抗,信号

如何解决单片机的抗干扰问题

如何解决单片机的抗干扰问题 随着单片机的发展,单片机在家用电器、工业自动化、生产过程控制、智能仪器仪表等领域的应用越来越广泛。然而处于同一电力系统中的各种电气设备通过电或磁的联系彼此紧密相连,相互影响,由于运行方式的改变,故障,开关操作等引起的电磁振荡会波及很多电气设备。这对我们单片机系统的可靠性与安全性构成了极大的威胁。单片机测控系统必须长期稳定、可靠运行,否则将导致控制误差加大,严重时会使系统失灵,甚至造成巨大损失。因此单片机的抗干扰问题已经成为不容忽视的问题。 1 干扰对单片机应用系统的影响 1.1测量数据误差加大 干扰侵入单片机系统测量单元模拟信号的输入通道,叠加在测量信号上,会使数据采集误差加大。特别是检测一些微弱信号,干扰信号甚至淹没测量信号。 1.2 控制系统失灵 单片机输出的控制信号通常依赖于某些条件的状态输入信号和对这些信号的逻辑处理结果。若这些输入的状态信号受到干扰,引入虚假状态信息,将导致输出控制误差加大,甚至控制失灵。 1.3 影响单片机RAM存储器和E2PROM等 在单片机系统中,程序及表格、数据存在程序存储器EPROM或FLASH中,避免了这些数据受干扰破坏。但是,对于片内RAM、外扩RAM、E2PROM 中的数据都有可能受到外界干扰而变化。 1.4 程序运行失常 外界的干扰有时导致机器频繁复位而影响程序的正常运行。若外界干扰导致单片机程序计数器PC值的改变,则破坏了程序的正常运行。由于受干扰后的PC 值是随机的,程序将执行一系列毫无意义的指令,最后进入“死循环”,这将使输出严重混乱或死机。 2 如何提高我们设备的抗干扰能力 2.1 解决来自电源端的干扰

前馈—反馈复合控制系统

目录 课程设计任务书 一、前馈—反馈复合控制系统 1.1、前馈—反馈复合控制系统的基本概念 (3) 1.2、概念的理解 (3) 1.3、前馈—反馈系统的组成.........................................3—4 1.4、前馈—反馈复合控制系统的特点.. (4) 1.5、前馈—反馈复合控制系统中前馈前馈控制器的设计 (4) 二、控制系统的硬件设计 2.1、S7—300系统组成 (4) 2.2、CPU315—2DP (4) 2.3、模式选择开关…………………………………..…….4—5 2.4、状态及故障显示 (5) 三、控制系统的软件设计 3.1、硬件组态 (5) 3.2、工程管理器的使用 (6) 3.3、新建工程....................................................6—9 3.4、组态监控画面. (9) 3.5、组态变量……………………………………………9—10 3.6、软件编程…………………………………………..10—15 3.7、实验结果分析……………………………………….15—17 四、控制系统的调试 五、实验总结

一、前馈—反馈复合控制系统 1.1、前馈—反馈复合控制系统的基本概念 前馈—反馈复合控制系统:系统中既有针对主要扰动信号进行补偿的前馈控制,又存在对被调量采用反馈控制以克服其他的干扰信号,这样的系统就是前馈—反馈复合控制系统。 1.2、概念的理解: (1)复合控制系统是指系统中存在两种不同的控制方式,即前馈、反馈(2)前馈控制系统的作用是对主要的干扰信号进行补偿,可以针对主要干扰信号,设置相应的前馈控制器 (3)引入反馈控制,是为了是系统能够克服所有的干扰信号对被调量产生的影响,除了已知的干扰信号以外,系统中还存在其他的干扰信号,这些扰动信号对系统的影响比较小,有的是我们能够考虑到的,有的我们肯本就考虑不到或是无法测量,都通过反馈控制来克服。 (4)系统中需要测量的信号既有被调量又有扰动信号。 1.3、前馈—反馈系统的组成 前馈—反馈复合控制系统主要由一下几个环节构成 (1)扰动信号测量变送器:对扰动信号测量并转化统一的电信号 (2)被调量测量变送器:对被调量测量并转化统一的电信号 (3)前馈控制器:对干扰信号完全补偿 (4)调节器:反馈控制调节器,对被调量进行调节 (5)执行器和调节机构 (6)扰动通道对象:扰动信号通过该通道对被调量产生影响 (7)控制通道对象:调节量通过该通道对被调量进行调节 前馈—反馈复合系统的原理方框图如图所示 前馈—反馈复合控制系统的原理图(1) 为了方便分析,通常将前馈—反馈复合系统的原理图简化为下图

√增强载流子迁移率是新一代微电子器件和电路发展的重要方向

增强载流子迁移率是新一代微电子器件和电路发展的重要方向 (作者:Xie Meng-xian,电子科技大学微固学院) (1)集成电路发展状况: 作为微电子技术的主体——集成电路,它的发展已经经历了若干个重要阶段,从小规模、中规模,到大规模、乃至超大规模、特大规模等。微电子技术的这种长足的进步,在很大程度上就是在不断努力地缩短场效应器件的沟道长度,这主要是通过改善微电子工艺技术、提高加工水平来实现的。尽管现在沟道长度已经可以缩短到深亚微米、乃至于纳米尺寸了,但是要想再继续不断缩短沟道长度的话,将会受到若干因素的限制,这一方面是由于加工工艺能力的问题,另一方面是由于器件物理效应(例如短沟道效应、DIBL效应、热电子等)的问题。因此,在进一步发展微电子技术过程中,再单只依靠缩短沟道长度就很不现实、甚至也可能了,则必须采用新的材料、开发新的工艺和构建新的器件结构,才能突破因缩短沟道所带来的这些限制。 实际上,从集成电路的发展趋势来看,大体上可以划分为三大阶段: ①K时代(Kbit,KHz):微细加工的时代(不断缩短有效尺寸)~“微米时代”; ②M时代(Mbit,MHz):结构革命的时代(不断改进器件和电路结构)~“亚微米时代”; ③G时代(Gbit,GHz):材料革命的时代(不断开发新材料、新技术)~“10纳米时代”。 现在已经开始进入G时代,因此,在不断开发新技术的同时,特别值得注意的是新材料的开发;不仅要开发新型的半导体材料(例如宽禁带半导体、窄禁带半导体、大极性半导体等),而且也要开发各种新型的辅助材料(例如高K、低K介质材料,Cu电极材料,新型表面钝化材料等)。器件和电路研究者应该多加注意新材料的开发应用;而新材料研究者应该多加注意往器件和电路的应用上下功夫。 在新的材料和工艺技术方面现在比较受到重视的是高介电常数(高K)材料和Cu互连技术。当沟道长度缩短到一定水平时,为了保持栅极的控制能力,就必须减小栅极氧化层厚度(一般,选取栅氧化层厚度约为沟道长度的1/50),而这在工艺实施上会遇到很大的困难(例如过薄的氧化层会出现针孔等缺陷);因此就采用了高介电常数的介质材料(高K材料)来代替栅极氧化物,以减轻制作极薄氧化层技术上的难度。另外,沟道长度缩短带来芯片面积的减小,这相应限制了金属连线的尺寸,将产生一定的引线电阻,这就会影响到器件和电路的频率、速度;因此就采用了电导率较高一些的Cu来代替Al作为连线材料,以进一步改善器件和电路的信号延迟性能。可见,实际上所有这些高K材料和Cu互连等新技术的采用都是不得已而为之的,并不是从半导体材料和器件结构本身来考虑的。 显然,为了适应器件和电路性能的提高,最好的办法是另辟途径,应该考虑如何进一步发挥半导体材料和器件结构的潜力,并从而采用其他更有效的技术措施来推动集成电路的发展。现在已经充分认识到的一种有效的技术措施就是着眼于半导体载流子迁移率的提高(迁移率增强技术)。 (2)迁移率增强技术: 迁移率(μ)是标志载流子在电场作用下运动快慢的一个重要物理量,它的大小直接影响到半导体器件和电路的工作频率与速度。 对于双极型晶体管而言,高的载流子迁移率可以缩短载流子渡越基区的时间,使特征频率(f T)提高,能够很好的改善器件的频率、速度和噪音等性能。 对于场效应晶体管而言,提高载流子迁移率则具有更加重要的意义。因为MOSFET的最大输出电流——饱和漏极电流I DS可表示为:

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