Nikon光刻机对准系统功能原理
投影光刻机对准系统功能原理
1 对准系统简介
对准系统的主要功能就是将工件台上硅片的标记与掩膜版上的标记对准，其标记的对准精度能达到±0.4μm （正态分布曲线的3σ值）。因为一片硅片在一个工艺流程中的曝光次数可能达到30次，而对准精度直接影响硅片的套刻精度，所以硅片的对准精度非常的关键。
由于对准系统对硅片标记的搜索扫描有一定的范围，它在X方向和Y方向都只能扫描±44μm，所以硅片被传送到工件台上进行对准之前，需要在预对准工件台上先后完成两次对准，即机械预对准和光学预对准，以便满足精细对准的捕捉范围。注意：本文所提到的对准都是所谓的精细对准。
PAS2500/10投影光刻机对准系统主要由三个单位部分构成：照明（对准光源）部分，双折射单元和对准单元。这三个单元与掩膜版、硅片、以及投影透镜的相对位置如图1所示，在图中可以看出，对准系统中用了两个完全相同的光路，这是为了满足对准功能的需要。
1.1 对准系统的光学结构和功能
由于对准系统中的两条完全相同，所以在下面的介绍中只详细地阐述了其中的一条光路。在对准系统中，照明部分的主要部件就是激光发射器，它产生波长为633nm的线性极化光，避免在硅片对准的过程中使硅片被曝光（硅片曝光用的光为紫外光）。然后对准激光将通过一系列的棱镜和透镜进入双折射单元，该激光将从双折射单元底部射出，通过曝光的投影透镜照到硅片的标记上；而经过硅片表面的反射后由原路返回，第二次经过双折射单元，由双折射单元的顶部射出，再经过聚焦后对准到掩膜版的标记上。
在对准单元内，硅片的标记图象和掩膜版标记的图象同时通过一个调制器后，将被聚焦到一个Q-CELL光电检测器上。此调制器是用来交替传送两个极化方向的硅片标记图象，Q-CELL光电检测器将对硅片的标记的每个极化方向图象分别产生一个电信号，由此产生的电信号的振幅取决于该极化方向硅片标记的图象与掩膜版标记图象在Q-CELL的显示比例。
硅片上的对准标记如图2所示，标记分为四个象限，每个象限有8μm或8.8μm的对准条，其中有两个象限的对准条用来对准X向，另外两个象限用来对准Y向。而Q-CELL光电检测器的每一个单元对应标记的一个象限，当在Q-CELL检测器的每一个单元中，两个极化方向的标记图象的能量都相等的时候，就表明硅片与掩膜版的标记完全对准了。从图1中可以看到对准光束在经过对准单元的时候被分成了两束，一束激光将通过调制器到达Q-CELL光电检测器，而另一束激光则以视频的形式反馈到操作台。通过操作台上的视频监视器可以直观的看到标记的移动和对准不同标记时位置的相对变化。虽然是两个不同极化方向的硅片标记与掩膜版标记同时对准，但是由于它们是同步的，彼此之间几乎看不到有何不同，所以只有一个极化图象被显示。
1.2 对准系统的电路部分
对准系统的电路部分主要的功能是：
1、产生一个信号去驱动光学调制器。
2、处理Q-CELL光电检测器产生的信号。
光学调制器的驱动：该调制器信号要求频率为50Hz的正弦信号，其振幅要求能满足对最大的Q-CELL检测信号起调制作用。
Q-CELL检测信号的处理：在对准的时候，工件台将首先沿X轴向缓慢地带动E-CHUCK上的硅片移动，进行X轴向对准，当硅片标记上X向光栅与对应的掩膜版上X向光栅对准时，将产生一个对准电信号，该信号以中断信号的形式输入计算机，X向对准的两个象限光栅都将产生其各自的中断信号。当产生中断信号的同时，计算机将记录下此时工件台的位置。在X向对准的时候，一个标记中两个象限的光栅同时参与，在每个象限中光栅条纹之间的间距是一个恒定的常数，但是这两个象限的光栅条纹间距并不相同，如图2所示。在对准扫描的过程中，每一个象限中的每一条光栅条纹都将会产生各自的一个中断信号，由于两个象限的光栅条纹间距不同，所以在扫描的时候只能有一个点将同时产生两个中断信号，而这个点就是在X
向硅片对掩膜版的位置。实际上，硅片和掩膜版之间一般都存在一个角度，因此同时产生中断信号的概率几乎为零，但是计算机可以通过对这些中断信号的比较筛选，计算机最佳对准点。
一旦X向对准完成后，系统将进行Y向对准，Y向对准与X向对准几乎一样，只是Y向对准的时候工件台带动E-CHUCK上的硅片沿Y向移动，对准系统是利用另外两个象限的光栅。
1.3 对准系统的气动部分
在对准系统中，气动部分主要用来控制对准激光的快门，当对准系统不工作的时候，快门将阻断对准激光，两束激光的快门是同步执行的。
1.4 对准系统的软件部分
对准系统中一般由五个对准程序组成，系统可随时任选其中一个执行。这五个程序分别是：零层对准、整体对准、硅片对准、掩膜对准和辅助对准。在对准的过程中，除了在沿X向和Y向扫描外，还必须完成旋转角度θ的调整。但是对于转角θ的调整根据投影光刻机的版本有一定的区别，比如，大多数PAS2500/10投影光刻机对准转角θ是靠对准程序去旋转掩膜版完成。
而PAS2500/40型和部分PAS2500/10型投影光刻机的掩膜台没有旋转功能，对准系统程序在进行硅片坐标扫描后，将坐标量反馈到主程序，主程序将计算出硅片的坐标与系统机器坐标之间的偏移量，计算出两个坐标之间的偏移量将由工件台自动旋转进行转角θ的修正。
零层对准完全没有作过曝光工艺的硅片需要曝光时，由于在硅片上没有标记，因此系统需要将掩膜版与曝光台上的基准标记（fiducial）进行对准。在工件台上有三套基准标记（fiducial），每套标记中又包含有五个对准标记，实际上，系统一般选择其中的第一套基准标记进行对准，而第二套基准标记是备份，第三套基准标记一般用在聚焦系统中。
整体对准（WGA）换掩膜版和换硅片后，也就是掩膜版和硅片都更换时需要进行的对准。
硅片对准（LSA）只有硅片更换后需要完成的对准。
掩膜对准更换掩膜版后需要的对准。
辅助对准同一片硅片需要在不同型号的投影光刻机上曝光需要的时候。辅助对准标记比主对准标记小，而且它分布于曝光视场的划片道内。如果每一层曝光都在PAS2500/10投影光刻机上完成，这种对准就完全不需要；当硅片的某一层或某些层需要用其它版本类型的光刻机曝光时，辅助对准才需要。
对准程序流程
除辅助对准外，每一个对准程序的执行流程一般是：
A、将设置掩膜台到零位置。
B、执行XYXY对准的扫描，即X向和Y向的两次扫描。
C、计算掩膜版的旋转角度。
D、计算系统的放大倍率（因为硅片可能有膨胀变形）。
E、修正掩膜版的旋转角度。
F、修正掩膜版的高度，调整放大倍率，补偿硅片的膨胀变化。
G、返回到B步，进行X向和Y向的扫描。
H、继续执行C～F步。
2 对准光学
对准光学能从±44μm范围内，将硅片标记与掩膜版标记的对准精度提高到±0.04μm（正态分布曲线的3σ值），对准系统的光学部件分布如图3所示。
2.1 双对准系统
在投影透镜上的所有光学单元都是两套，如照明单元、双折射单元和对准单元。掩膜版上的对准标记也是两个，一个对准光路使用一个掩膜版对准标记。但是硅片上的一个标记将先后分别要对准掩膜版上的两个标记，它将由此来计算投影透镜的放大倍率和掩膜版的旋转角度，同样，靠对准硅片的另一个标记可以
计算出硅片的旋转和膨胀。另外，两条对准光路的各结构部件和其功能完全相同。
2.2 对准标记
掩膜版与硅片的对准是运用在套刻的过程中，将硅片表面的标记发射到掩膜版上，如图4所示。硅片标记由四个象限的光栅条构成，每个象限的光栅明暗条周期分别是16μm或17.6μm。但是在对准的过程中，只选择了硅片标记反射的一阶衍射光，由于硅片表面上的标记光栅条为8μm或8.8μm，而投影透镜的放大倍率为5倍，因此，对准反射光经过投影透镜后，对准标记图形光栅条为40μm或44μm，所以掩膜版上的标记图形光栅条也是40μm或44μm。
标记采用游标原理，可以增加对准时的捕捉范围，即从±4μm到±44μm，而且对准精度不会超过±0.04μm （正态分布的3σ值），如果不采用游标原理，对准的捕捉范围将缩小，并且假如硅片标记漂移超过4μm 以后，对准系统的时候只依靠8μm的图形光栅条就将无法完成对准。在对准游标系统中，X向和Y向分别各有两个图形光栅条，其中一个图形光栅条的宽度为：硅片上的标记图形光栅条为8μm，对应该方向上的掩膜版标记图形光栅条为40μm；另一个图形光栅条比前一个宽10%，即硅片上标记图形光栅条为8.8μm，对应该方向上掩膜版标记图形光栅条为44μm。在游标标记的对准过程中，假如8μm和8.8μm的光栅条与掩膜版的光栅条都完全对准后，系统将认为对准完成。但是，假如硅片标记漂移了8μm的整数倍距离，那么在16μm的光栅条显示零误差时，而17.6μm的光栅条则会出现(8N/10)的偏移误差。因此，只有间隔88μm 的地方，8μm和8.8μm的光栅条在与掩膜版对准的时候才会出现完全对准
《机械原理课程设计》教学大纲 课程名称：机械原理课程设计 课程性质：集中实践教学环节必修课程 学分：2 学时：2周 授课单位：机电工程学院 适用专业：机电一体化专科专业 预修课程：《机械制图》，《高等数学》，《材料与金属工艺学》，《理论力学》，《材料力学》、《机械原理》。 开设学期：第三学期 一、课程设计教学目的与基本要求： 1.教学目的：机械原理课程设计是对机械类专业学生进行的一次设计实践性教学环节。其主要目的是进一步巩固、理解并初步运用所学知识，在接触和了解工程技术实际（如工程设计方法、工程设计资料等）的基础上，对学生进行较为系统的设计方法训练，以达到初步培养学生分析问题、解决实际工程问题的能力。 2.基本要求：机械原理课程设计实质上是进行机构运动简图的设计。因此，它的基本要求是：提出设计方案、选用机构类型及其组合，确定运动学尺寸、进行运动分析和动态静力分析、飞轮转动惯量的计算等等。完成必要的计算机三维绘图或编程、图纸绘制和编写设计计算说明书。机械原理课程设计中，作图求解或解析的方法均可采用。 二、课程设计内容及安排： 1.主要设计内容：课程设计内容可根据专业要求从以下项目中选定： （1）运动方案设计 (a)工作原理和工艺动作分解; (b)机械运动方案的拟定； (c)机械执行机构的选择和评定(连杆机构的设计及分析、凸轮机构设计、齿轮机构或轮系设计、其它基本机构设计)； (d)根据工艺动作和协调要求拟定运动循环图； (e)机械传动系统的设计选择和评定； （2）执行机构尺寸设计
(a)执行机构各部分尺寸设计； (b)机构运动简图； (c)飞轮转动惯量的确定； (d)机械动力性能的分析计算。 （3）编写设计说明书。 （4）答辩。 2.时间安排：在机械原理课程和其它先修课程完成后，安排2周时间进行机械原理课程设计。 三、指导方式：集体辅导与个别辅导相结合 四、课程设计考核方法及成绩评定： 1.考核方式：根据设计图和设计说明书及答辩进行成绩评定，不再考试。 2.成绩评定：由1～2名教师组成答辩小组，对学生完成的设计图和设计计算说明书的内容进行提问，并根据学生回答问题的正确性以及设计内容，按优秀、良好、中等、及格和不及格进行评分。 五、课程设计教材及主要参考资料： [1]牛鸣岐主编.《机械原理课程设计手册》.重庆大学出版社，2001年 [2]郑文纬主编.《机械原理》第7版.高等教育出版社，1997年 [3]孙桓主编.《机械原理》第7版.高等教育出版社，2006年 [4]朱理主编.《机械原理》第1版.高等教育出版社，2004年 大纲撰写人签字：学院章 学院负责人签字：年月日
光 刻 工 艺 一、目的： 按照平面晶体管和集成电路的设计要求，在SiO 2或金属蒸发层上面刻蚀出与掩模板完全相对应的几何图形，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。 二、原理： 光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制在涂有光致抗蚀剂的SiO 2层或金属蒸发层上，在适当波长光的照射下，光致抗证剂发生变化，从而提高了强度，不溶于某些有机溶剂中，未受光照射的部分光致抗蚀剂不发生变化，很容易被某些有机溶剂溶解。然后利用光致抗蚀剂的保护作用，对SiO 2层或金属蒸发层进行选择性化学腐蚀，从而在SiO 2层或金属层上得到与光刻掩模板相对应的图形。 （一）光刻原理图 （一）光刻胶的特性： 1．性能，光致抗蚀剂是一种对光敏感的高分子化合物。当它受适当波长的光照射后就能吸收一定波长的光能量，使其发生交联、聚合或分解等光化学反应。由原来的线状结构变成三维的网状结构，从而提高了抗蚀能力，不再溶于有机溶剂，也不再受一般腐蚀剂的腐蚀． 2．组成：以KPR 光刻胶为例： 感光剂－－聚乙烯醇肉桂酸酯。 溶 剂－－环己酮。 增感剂－－5·硝基苊， 3．配制过程： 将一定重量的感光剂溶解于环己酮里搅拌均匀，然后加入一定量的硝基苊,再继续揖拌均匀，静置于暗室中待用。 感光剂聚乙烯醇肉桂酸酯的感光波长为3800?以内，加入5·硝基苊后感光波长范围发生了变化从2600—4700 ?。 （二）光刻设备及工具： 在SiO 2层上涂复光刻胶膜 将掩模板覆盖 在光刻胶膜上 在紫外灯下曝光 显影后经过腐蚀得到光刻窗口
1．曝光机－－光刻专用设备。 2．操作箱甩胶盘－－涂复光刻胶。 3．烘箱――烤硅片。 4．超级恒温水浴锅－－腐蚀SiO2片恒温用。 5．检查显为镜――检查SiO2片质量。 6．镊子――夹持SiO2片。 7．定时钟――定时。 8．培养皿及铝盒――装Si片用。 9．温度计――测量温度。 图（二）受光照时感光树脂分子结构的变化 三、光刻步骤及操作原理 1．涂胶：利用旋转法在SiO2片和金属蒸发层上，涂上一层粘附性好、厚度适当、均匀的光刻胶。 将清洁的SiO2片或金属蒸发片整齐的排列在甩胶盘的边缘上，然后用滴管滴上数滴光刻胶于片子上，利用转动时产生的离心力，将片子上多余的胶液甩掉，在光刻胶表面粘附能力和离心力的共同作用下形成厚度均匀的胶膜。 涂胶时间约为1分钟。 要求：厚度适当（观看胶膜条纹估计厚薄），胶膜层均匀，粘附良好，表面无颗粒无划痕。 图（三）光刻工艺流程示意图
光刻技术及其应用的状况和未来发展 光刻技术及其应用的状况和未来发展1 引言 光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另一方面，随着光刻技术在应用中技术问题的增多、用户对应用本身需求的提高和光刻技术进步滞后于其他技术的进步凸显等等，寻找解决技术障碍的新方案、寻找COO更加低的技术和找到下一俩代可行的技术路径，去支持产业的进步也显得非常紧迫，备受人们的关注。就像ITRS对未来技术路径的修订一样，上世纪基本上3～5年修正一次，而进入本世纪后，基本上每年都有修正和新的版本出现，这充分说明了光刻技术的重要性和对产业进步的影响。如图1所示，是基于2005年ITRS对未来几种可能光刻技术方案的预测。也正是基于这一点，新一轮技术和市场的竞争正在如火如荼的展开，大量的研发和开发资金投入到了这场竞赛中。因此，正确把握光刻技术发展的主流十分重要，不仅可以节省时间和金钱，同时可以缩短和用户使用之间的周期、缩短开发投入的回报时间，因为光刻技术开发的投入比较庞大。 2 光刻技术的纷争及其应用状况 众说周知，电子产业发展的主流和不可阻挡的趋势是"轻、薄、短、小"，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求；另一方面，光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，这也要求光刻技术在满足技术需求的前提下，具有较低的COO和COC。因此，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。 以Photons为光源的光刻技术 2.1 以Photons为光源的光刻技术 在光刻技术的研究和开发中，以光子为基础的光刻技术种类很多，但产业化前景较好的主要是紫外(UV)光刻技术、深紫外(DUV)光刻技术、极紫外(EUV)光刻技术和X射线(X-ray)光刻技术。不但取得了很大成就，而且是目前产业中使用最多的技术，特别是前两种技术，在半导体工业的进步中，起到了重要作用。 紫外光刻技术是以高压和超高压汞(Hg)或者汞-氙(Hg-Xe)弧灯在近紫外(350～450nm)的3条光强很强的光谱(g、h、i线)线，特别是波长为365nm的i线为光源，配合使用像离轴照明技术(OAI)、移相掩模技术(PSM)、光学接近矫正技术(OPC)等等，可为0.35～0.25μm的大生产提供成熟的技术支持和设备保障，在目前任何一家FAB中，此类设备和技术会占整个光刻技术至少50％的份额；同时，还覆盖了低端和特殊领域对光刻技术的要求。光学系统的结构方面，有全反射式(Catoptrics)投影光学系统、折反射式(Catadioptrics)系统和折射式(Dioptrics)系统等，如图2所示。主要供应商是众所周知的ASML、NIKON、CANON、ULTRATECH 和SUSS MICROTECH等等。系统的类型方面，ASML以提供前工程的l:4步进扫描系统为主，分辨率覆盖0.5～0.25μm：NIKON以提供前工程的1：5步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率覆盖0.8～0.35μm和2～0.8μm；CANON以提供前工程的1：4步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率也覆盖0.8～0.35μm和1～0.8μm；ULTRATECH以提供低端前工程的1：5步进重复系统和特殊用途(先进封装／MEMS／，薄膜磁头等等)的1：1步进重复系统为主；而SUSS MICTOTECH以提供低端前工程的l：1接触／接近式系统和特殊用途(先进封装／MEMS／HDI等等)的1：1接触／接近式系为主。另外，在这个领域的系统供应商还有USHlO、TAMARACK和EV Group等。 深紫外技术
机械原理课程设计 题目：干粉压片机 学校：洛阳理工学院 院系：机电工程系 专业：计算机辅助设计与制造 班级：z080314 设计者：李腾飞（组长）李铁山杜建伟 指导老师：张旦闻 2010年1月1日星期五
课程设计评语 课程名称：干粉压片机的机构分析与设计 设计题目：干粉压片机 设计成员：李腾飞（组长）李铁山杜建伟 指导教师：张旦闻 指导教师评语： 2010年1月1日星期五
前言 干粉压片机装配精度高，材质优良耐磨损，稳定可靠，被公认为全国受欢迎产品。特别是现在的小型干粉压片机，市场前景很好。很多小型企业不可能花高价去买大型的，而且得不尝试，所以小型压片机更少中小型企业青睐。例如蚊香厂、鱼药饲料厂、消毒剂厂、催化剂厂都相继使用。本机还可改为异形冲模压片。由于该机型相对于其他机型压力较大，压片速度适中，因而受到生产奶片、钙片、工业、电子异形片的厂家欢迎。相信本厂品会给您带来良好的企业效应。 编者：洛阳理工学院第二小组 日期：2010年1月1日星期五
目录 一. 设计题目 (5) 1.工作原理以及工艺过程 (5) 2.原始数据以及设计要求 (5) 二. 设计题目的分析 (5) 1. 总功能分析 (5) 2. 总功能分解 (5) 3. 功能元求解 (6) 4. 运动方案确定 (7) 5. 方案的评价 (9) 6. 运动循环图 (10) 7. 尺度计算 (11) 8.下冲头对心直动滚子推杆盘形凸轮机 (13) 9.下冲头对心直动滚子推杆盘形凸轮机的位移曲线 (13) 三. 干粉压片机各部件名称以及动作说明 (14) 四. 参考书目 (14) 五. 新得体会 (14)
喷砂系统工作原理 全自动机械回收式喷砂房是根据产品加工工艺流程及产品本身特性而设计的，适用于大型铸件锻件、焊接钢结构、工程机械、工业锅炉、化工机械、船舶修造等表面去氧化皮、除锈、强化，提高涂料的附着力等。其结构及配套设备主要由喷砂室、喷砂系统、磨料回收系统、通风和除尘系统、照明和电气控制系统六大部分组成 一、喷砂室 喷砂室是喷砂工人面对工件进行喷砂清理的地方。 喷砂室采用砖墙结构，防水性能好，且具有很好的防震效果。 室内采用耐磨橡胶皮保护，能有效保护室内设施。喷砂室地面铺设钢格栅，防止磨料在操作平台上积聚，对喷喷砂工人的安全造成威胁。磨料回收斗铺设钢板网,防止杂物进入喷丸系统。 为了喷砂工人的安全，喷砂室的两侧均设计有安全门，这是喷砂工人在遭遇危险时能及时逃生的需要。喷砂室两侧布置有观察窗，方便随时了解喷砂工人的作业情况。 该喷砂室建在室外，因此一定要注意做好防风挡雨的工作，防止雨水进入喷砂室，防止被雨淋湿的工件进入喷砂室。 二、喷砂系统 喷砂系统由喷砂机和喷砂工人的专用防护用具组成。 喷砂作业的工作效率和作业安全都与喷砂 作业机具有着密不可分的关系。该喷砂系统采用双腔连续工作型喷砂机为喷砂清理机具。 1、设备结构： (1)桶体 由二级料仓组成，上仓与下仓，以保证连续加砂。 (2)自动加砂： 由上仓料位感应器、下仓料位感应器及加料阀等组成。 (3喷砂部分 由进气阀、磨料阀、喷砂管、喷嘴等组成。 (4)控制部分 由电控箱及电缆线、气动遥控开关等组成。 2、设备工作原理； 该机为自动添料可供两人连续工作的喷砂机。 连续工作型喷砂机在上下两仓分别配有满仓料位仪和空仓料位仪。当下仓内的磨料料位下降到空仓料位仪的感应杆以下时，料位仪发出空仓信号，使上仓升压，控制上仓内的磨料流入下腔。在设定时间内，上仓进气阀自动关闭，上仓排气阀自动打开，上仓排气卸压，上仓加料阀打开（气缸控制），上仓添料备用。 连续工作型喷砂机与磨料储砂箱配套使用，当上仓料位升高到满仓料位仪感应杆的高度时，料位仪发出满仓信号，将加料阀关闭，停止加料。 3、设备性能特点 (1)该设备采用双仓结构，因此，可达到连续作业的要求，喷砂工作可连续作业，不需一般喷砂机的停机加砂，大大提高了喷砂效率。 (2)该设备配置了下仓空仓料位仪和上仓满仓料位仪，并与储砂箱加料阀、进气电气控制联动，以保证当下仓无料时，始终能得到补充；上仓料满时，加料阀会自动关闭。控制系统中设置了延时继电器，按照实际工作情况，延时继电器可调，以满足各种工况条件下使用。(3)该系统的气动遥控阀件都采用了汤姆森磨料阀，动作灵活、反应灵敏、耐磨性强，特别是气动遥控磨料阀采用超耐磨复合材料，寿命长、流量调节方便，磨料阀采用斜体45°结
螺旋榨油机的榨油原理 螺旋榨油机主要用于个体家加工用的榨油机。该产品属于液压全自动榨油机的一种，产量不大，但是简单方便。现在主要的产品是螺旋榨油机。冷榨的也有螺旋榨油机，价格比较低廉，但是出油率不高。正如日中天的是全自动螺旋榨油机，它是十多年前国内在韩国引进的技术，用真空过滤，自动温控功能。出来的产品油质量好。味道香，出油率还高。现在主要是农村地区做加工用的。或者是在城市市区做现场加工用的，这样看起来生产更透明化，让客户更放心。对生意的开展有很大的好处。好多地区现在都照这个模式经营，利润相当的丰厚。 几乎所有的油料作物都能通过螺旋榨油机来压榨。包括花生，大豆，油葵，菜籽，核桃，棉籽，等等。尤其是花生油和香油，这个因为价格比较贵。市场上经常有造假和浸出油，对健康不利，所以现场加工的方式经营比较满足重视货真价实的用户的需要。是现在城市地区的主要使用方式。 榨油机运转时，经过处理好的油料从料斗进入榨膛。由榨螺旋转使料胚不断向里推进，进行压榨。由于料胚在榨油机的榨膛内是在运动状态下进行的，在榨膛高压的条件下，料胚和榨螺、料胚和榨膛之间产生了很大的摩擦阻力，这样就能使料胚微料之间产生摩擦，造成相对运动。另一方面，由于榨螺的根园直径是逐渐增粗，螺距是逐渐减少的，因而当榨螺转动时，螺纹使劲料胚即能向前推进，又能向外翻转，同时靠近榨螺螺纹表面的料层还随着榨轴转动。这样在榨膛内的每个料胚微粒都不是等速度，同方向运动，而是在微粒之间也存在着相对运动。由摩擦产生的热量又满足了榨油工艺操作上所必须的热量，有助于促使料胚中蛋白质热变性，破坏了胶体，增加了塑性，同时也降低了有的粘性容易析出油来，因而提高了螺旋榨油机的出油率，使有料中的油压榨出来，并从园排缝隙和条排缝隙流出。 使用螺旋榨油机应注意的事项 螺旋榨油机主要用于个体商户加工食用油的，如花生，大豆，油葵，菜籽，核桃，棉籽等等，几乎所有的油料作物都能通过榨油机来压榨，同时它也是农村一些经营加工食用油商户的首选设备。而且榨油机不受气候的制约，南北四季皆宜，因油盘装置采用了加热温控系统，可根据环境温度，自动调节毛油温度，以达到快速精滤的效果，所以不受季节、气候的影响，一年四季均可压榨经营。螺旋榨油机有出油率高、节能、省工、用途广、油质纯、占地小、出油率高、四季皆宜，不受限制、高效精滤、快速方便、广泛压榨，一机多用等优势。它是商户经营食用油加工设备的首先之一。 而我们在使用螺旋榨油机时应注意以下几点： 一、使用液压榨油机之前，首先应准备好全部辅助器具和容器，检查并调整传动带松紧程度，然后开动电动机，使机器空运转15min左右，检查榨螺轴的转速。一般转速应在33dmin左右。空转时要注意齿轮箱内齿轮的啮合情况及声音是否正常，各轴承部位和电机是否正常，榨油机空转时，电动机电流应为3A 左右，如电流过高，应立即停车检查，调整后再开机。 二、空载正常后，备好原料，准备投入进料斗。注意开始压榨时进料不能太快，否则榨膛内压力突然增加，榨螺轴转不动，造成榨膛堵塞，甚至使榨笼破裂，发生重大事故。因此开始压缩时,进料应均匀缓慢地投入进料斗,使榨油机进行跑合。如此反复多次，持续3～4h以上，使榨油机温度逐渐升高，甚至冒青烟(这是正常现象)。开始压榨时榨膛温度低，可缓慢拧动，凋节螺柱上的手柄，加大出饼厚度，同时提高入榨胚料的水分，待榨膛温度。升至90℃左右，榨油机正常运转后，可将出饼厚度调至1.5～2.5mm，并将紧
一、轧胚机的主要结构 1、喂料机构：沿轴长均匀给料。喂料的多少是用挡料门上的连接螺栓和左、右旋螺母来确定的。当放料需增大时，先松开连接螺栓，再把左、右旋螺母距离缩短，反之，增大左右旋螺母距离。 2、磁选机构：去除物料中的金属硬物。 3、轧辊机构：当喂料电机停止时，轧辊靠电气连锁动作自动分开，当喂料斗内达到上料位时，料位计发出信号，开始合辊，并用延时继电器来控制挡料门和喂料电机开启。 4、液压紧辊机构：液压系统通过手动换向阀和液压电磁换向阀来实现松、合辊动作。 5、定位机构：轧辊合拢时的限位，在保证胚片厚度的前提下，有效地防止轧辊碰撞。 6、刮刀装置：去除粘在辊间的胚片，使胚片的质量得到保证。 二、轧胚机的工作原理 1、经过筛选、去石后的蓖麻籽，均匀地进入具有一定压力和间隙且相对旋转的两辊间，经过对辊的挤压使蓖麻籽外皮破碎。 2、如有异硬物混入料中，则异硬物将使两辊受到一个正常反作用力，有时将强行撑开轧辊，使紧辊油缸活塞外移，油缸工作腔容积减小，而压力增高，增高的压力通过蓄能器来平衡，以保持系统压力不变。当异硬物过后，蓄能器将释放储存的能量，使轧胚机重新正常工作。液压轧胚机的特点
１液压轧胚机的特点液压轧胚机与弹簧轧胚机相比较，具有很多优点：产量高、操作简单省力，产品质量稳定。液压轧胚机从根本上改变了弹簧轧胚机生产的落后面貌，可以全部取代目前国产的轧胚机，使我国制油工艺进入了新的发展阶段，推动了我国制油工业的发展。与弹簧轧胚机相比较，液压轧胚机具有以下的特点：１．１轧胚机的进给与退出、轧辊间的压力调整、异物掉入辊间时轧辊瞬间脱开以及轧辊的装卸等动作都是由操作液压泵站来实现的，可以大大地减轻工人的劳动强度，同时也提高了该机的调整精度和自动化程度。１．２整个操作过程均由液压控制，各部件的动作灵敏，轴间压力高，压力均衡、平稳，轧制出的物料破碎率高。 蒸炒锅 蒸炒锅有卧式蒸炒锅、立式蒸炒锅、环式蒸胚机等，我们所使用的是立式蒸炒锅。下面我们详细介绍立式蒸炒锅。 立式蒸炒锅是由几个单体蒸炒锅重叠装置而成的层式蒸炒设备。重叠方式是呈圆柱形重叠排列。由于这种争吵设备操作方便易于密闭，所以通常都采用比较普遍。 生胚从进料口进入到锅体1后，由于每层锅体的边层和低层均为蒸汽夹层，一次首先受到间接蒸汽的加热。同时，通过第一层锅体搅拌刮刀的搅拌，在下料口之前有直接蒸汽管，将直接蒸汽均匀地喷入生胚内。在搅拌刮刀的作用下，料胚经自动料门3落入下一层。经蒸炒后的料胚最后从底层锅体的处理澳门4排出锅外。 下面我们分述一下蒸炒锅的结构 1、锅体 锅体是立式蒸炒锅最主要的部件之一。根据生产能力的大小，它的内径有1000、1200、1500、1700和2100mm等几种规格，而其层数又有三、四、五、六层之分、每层锅体的结构基本相同，主要由边层、底层、落料孔、排气口和检修门等部分所组成。对于底层锅体则无落料孔，而装有可调节的出料门。我们的蒸炒锅夹层为外夹层，这种结构虽然不够美观，保温敷设也比较麻烦，但是这种结构锅体有效容积相对较大，而且不容易有物料的堆积，焦化结块等现象相对较少。 底夹层
投影光刻机对准系统功能原理 投影光刻机对准系统功能原理 1 对准系统简介 对准系统的主要功能就是将工件台上硅片的标记与掩膜版上的标记对准，其标记的对准精度能达到±0.4μm（正态分布曲线的3σ值）。因为一片硅片在一个工艺流程中的曝光次数可能达到30次，而对准精度直接影响硅片的套刻精度，所以硅片的对准精度非常的关键。 由于对准系统对硅片标记的搜索扫描有一定的范围，它在X方向和Y方向都只能扫描 ±44μm，所以硅片被传送到工件台上进行对准之前，需要在预对准工件台上先后完成两次对准，即机械预对准和光学预对准，以便满足精细对准的捕捉范围。注意：本文所提到的对准都是所谓的精细对准。 PAS2500/10投影光刻机对准系统主要由三个单位部分构成：照明（对准光源）部分，双折射单元和对准单元。这三个单元与掩膜版、硅片、以及投影透镜的相对位置如图1所示，在图中可以看出，对准系统中用了两个完全相同的光路，这是为了满足对准功能的需要。 1.1 对准系统的光学结构和功能 由于对准系统中的两条完全相同，所以在下面的介绍中只详细地阐述了其中的一条光路。在对准系统中，照明部分的主要部件就是激光发射器，它产生波长为633nm的线性极化光，避免在硅片对准的过程中使硅片被曝光（硅片曝光用的光为紫外光）。然后对准激光将通过一系列的棱镜和透镜进入双折射单元，该激光将从双折射单元底部射出，通过曝光的投影透镜照到硅片的标记上；而经过硅片表面的反射后由原路返回，第二次经过双折射单元，由双折射单元的顶部射出，再经过聚焦后对准到掩膜版的标记上。 在对准单元内，硅片的标记图象和掩膜版标记的图象同时通过一个调制器后，将被聚焦到一个Q-CELL光电检测器上。此调制器是用来交替传送两个极化方向的硅片标记图象，Q-CELL 光电检测器将对硅片的标记的每个极化方向图象分别产生一个电信号，由此产生的电信号的振幅取决于该极化方向硅片标记的图象与掩膜版标记图象在Q-CELL的显示比例。 硅片上的对准标记如图2所示，标记分为四个象限，每个象限有8μm或8.8μm的对准条，其中有两个象限的对准条用来对准X向，另外两个象限用来对准Y向。而Q-CELL光电检测器的每一个单元对应标记的一个象限，当在Q-CELL检测器的每一个单元中，两个极化方向的标记图象的能量都相等的时候，就表明硅片与掩膜版的标记完全对准了。从图1中可以看到对准光束在经过对准单元的时候被分成了两束，一束激光将通过调制器到达Q-CELL 光电检测器，而另一束激光则以视频的形式反馈到操作台。通过操作台上的视频监视器可以直观的看到标记的移动和对准不同标记时位置的相对变化。虽然是两个不同极化方向的硅片标记与掩膜版标记同时对准，但是由于它们是同步的，彼此之间几乎看不到有何不同，所以只有一个极化图象被显示。 1.2 对准系统的电路部分 对准系统的电路部分主要的功能是： 1、产生一个信号去驱动光学调制器。 2、处理Q-CELL光电检测器产生的信号。 光学调制器的驱动：该调制器信号要求频率为50Hz的正弦信号，其振幅要求能满足对最大的Q-CELL检测信号起调制作用。 Q-CELL检测信号的处理：在对准的时候，工件台将首先沿X轴向缓慢地带动E-CHUCK上的硅片移动，进行X轴向对准，当硅片标记上X向光栅与对应的掩膜版上X向光栅对准时，
12届机械原理课程设计 步进送料机 设计说明书 学生姓名付振强 学号8011208217 所属学院机械电气化工程学院 专业机械设计制造及其自动化 班级机械12-2 指导教师张涵 日期2010-06-30 前言 1
进入21世纪以来，随着科学技术、工业生产水平的不断发展和人们生活条件的不断改善市场愈加需要各种各样性能优良、质量可靠、价格低廉、效率高、能耗低的机械产品，而决定产品性能、质量、水平、市场竞争能力和经济效益的重要环节是产品设计。机械产品设计中，首要任务是进行机械运动方案的设计和构思、各种传动机构和执行机构的选用和创新设计。这要求设计者综合应用各类典型机构的结构组成、运动原理、工作特点、设计方法及其在系统中的作用等知识，根据使用要求和功能分析，选择合理的工艺动作过程，选用或创新机构型式并巧妙地组合成新的机械运动方案，从而设计出结构简单、制造方便、性能优良、工作可靠、实用性强的机械产品。 企业为了赢得市场，必须不断开发符合市场需求的产品。新产品的设计与制造，其中设计是产品开发的第一步，是决定产品的性能、质量、水平、市场竞争力和经济效益的最主要因素.机械原理课程设计结合一种简单机器进行机器功能分析、工艺动作过程确定、执行机构选择、机械运动方案评定、机构尺度综合、机构运动方案设计等，使学生进一步巩固、掌握并初步运用机械原理的知识和理论，对分析、运算、绘图、文字表达及技术资料查询等诸方面的独立工作能力进行初步的训练，培养理论与实际结合的能力，更为重要的是培养开发和创新能力。因此，机械原理课程设计在机械类专业学生的知识体系训练中，具有不可替代的重要作用。 本次我设计的是步进送料机，以小见大，设计并不是门简单的课程，它需要我们理性的思维和丰富的空间想象能力。我们可以通过对步进送料机的设计进一步了解机械原理课程设计的流程，为我们今后的设计课程奠定了基础。 目录 前言 (1)
很多投资榨油设备的客户会问榨油机全套设备多少钱，在选购榨油机设备时，型号、类型很多，榨油机分螺旋榨油机和液压榨油机，其榨油机全套设备具体价格多少主要根据您选择的榨油机型号以及所需求的配置来决定。根据榨油工艺不同，榨油设备配置不同，价格也不同。 （详情点击进入官网或来电咨询） 榨油机全套设备多少钱？这是根据客户选择的配置来决定的，基本的榨油生产流程为：原料—脱壳—炒制—压榨—过滤—精滤—成品，榨油机设备在面对各种可压榨的油料时，在其配置上需要作出不同的选择。 压榨花生油，就需要配置花生剥壳机去除花生的外壳再进行压榨，出油率会更高。像菜籽、芝麻压榨，都无须配置脱壳设备，需配置炒锅、热榨螺旋榨油机、真空过滤、离心式滤油机即可。榨油机全套设备压榨的油料需冷榨，需要的配置
有冷榨螺旋榨油机、真空过滤、离心式滤油机。榨油机全套设备可根据榨油工艺分为热榨和冷榨，这两种不同的工艺所配置的设备也是不同的。热榨一般由油料先进行炒制，然后进行压榨，最后经过过滤后灌装，在进行榨油的过程还可以配置上料和输送设备。冷榨由输送设备将油料送入榨油机内，经压榨后通过滤油机进行过滤出成品油并进行灌装。 （详情点击进入官网或来电咨询） 榨油机全套设备主要包括剥壳机、炒锅、提升机、榨油机、滤油机等设备，通过榨油机全套设备的加工，可以实现油料作物向食用油的转变过程。 全自动榨油机根据它的性能不同，产量不同，效率不同价位也不尽相同，一般
价位都在2万元左右及以上。配置低的一套榨油机包括炒锅、全自动榨油机等设备，按照螺旋榨油机时加工产量100kg来计算，这样一套榨油机一般来说需要大约3万元，配置高的一套榨油机包括油料清理设备、蒸炒锅、全自动榨油机、油冷却机等设备。这样一套配置的同产量榨油机则需要4万元 以上就是关于榨油机设备全套价格厂家直销多少钱的相关回答，更多问题欢迎来电咨询，联系客服领取各型号榨油机图片资料、价格、补贴额度、利润回报等信息。 益加益专注榨油机20年，凭借精良的生产技术、优质的售后服务，市场占有率稳步上升；连续12年获得部级推广鉴定，产品得到官方认证，质量可靠；获得多项国家专利，技术不断更新，产品始终领先；全国拥有20多个直销部、150多个售后服务站点，确保服务方便快捷！免费安装调试，现场培训操作，终身提供技术支持。汇聚上万家成功用户的榨油经验和经营模式，可为您量身定制经营指导方案，帮助您获得更大利润空间。售后无忧，设备保修一年，终身维修，并赠送“益加益”油品《注册商标》使用权，免费提供城市店面油坊所需要的门头横幅和工作服等。
十三章 光刻II 光刻机和光掩膜版 前几章讲述了光刻胶材料的性质和工艺技术。在这一章里，我们介绍如何将图形转移到硅片表面上，包括以下内容：a)将图形投影到硅片表面的装置（即光刻对准仪或光刻翻版机），由此使得所需图形区域的光刻胶曝光。 b)将图形转移到涂有光刻胶的硅片上的工具（即光掩模版和中间掩模版）。在介绍光刻机或掩模版之前，把用以设计和描述操作光刻机的光学原理简要地说明一下。它们是讲明光掩模板和中间掩模版的基础。 在讨论光学原理之前，有必要介绍一下微光刻硬件的关键。那就是把图形投影到硅表面的机器和掩模版的最重要的特征：a)分辨率、b)图形套准精度、c)尺寸控制、d)产出率。 通常，分辨律是指一个光学系统精确区分目标的能力。特别的，我们所说的微图形加工的最小分辨率是指最小线宽尺寸或机器能充分打印出的区域。然而，和光刻机的分辨率一样，最小尺寸也依赖于光刻胶和刻蚀的技术。关于分辨率的问题将在微光刻光学一章中更彻底的讲解，但要重点强调的是高分辨率通常是光刻机最重要的特性。 图形套准精度是衡量被印刷的图形能“匹配”前面印刷图形的一种尺度。由于微光刻应用的特征尺寸非常小，且各层都需正确匹配，所以需要配合紧密。
微光刻尺寸控制的要求是以高准度和高精度在完整硅片表面产生器件特征尺寸。为此，首先要在图形转移工具〔光刻掩模版〕上正确地再造出特征图形，然后再准确地在硅片表面印刷出〔翻印或刻蚀〕。 加工产率是重要但 不是最重要加工特征。例 如，如果一个器件只能在 低生产率但高分辨率的 光刻机制版，这样也许仍 然是经济的。不过，在大 部分生产应用中，加工和 机器的产率是很重要的， 也许是选择机器的重要因素之一。 1.微光刻光学 在大规模集成电路的制造中。光刻系统的分辨率是相当重要的，因为它是微器件尺寸的主要限制。在现代化投影光刻机中光学配件的质量是相当高的，所以图形的特征尺寸因衍射的影响而受限制，而不会是因为镜头的原因(它们被叫做衍射限制系统)。因为分辨率是由衍射限度而决定的，那就必须弄明白围绕衍射限度光学的几个概念，包括一致性、衍射、数值孔径、调频和许多重要调节转换性能。下几节的目的就是要简要和基本地介绍这些内容。参考资料1·2讲得更详细。 衍射·一致性·数值孔径和分辨率 图（1）：一束空间连续光线经过直的边缘时的光强 a)依据几何光学b)散射
机械原理课程设计说明书设计题目：压床机构设计 自动化院（系）机械制造专业 班级机制0901 学号20092811022 设计者罗昭硕 指导老师赵燕 完成日期2011 年1 月4日
一、压床机构设计要求 1 ．压床机构简介及设计数据 1.1压床机构简介 图9—6所示为压床机构简图。其中，六杆机构ABCDEF为其主体机构，电动机经联轴器带动减速器的三对齿轮z1-z2、z3-z4、z5-z6将转速降低，然后带动曲柄1转动，六杆机构使滑块5克服阻力Fr而运动。为了减小主轴的速度波动，在曲轴A上装有飞轮，在曲柄轴的另一端装有供润滑连杆机构各运动副用的油泵凸轮。 1.2设计数据
1.1机构的设计及运动分折 已知：中心距x1、x2、y, 构件3的上下极限角，滑块的冲程H，比值CE ／CD、EF／DE，各构件质心S的位置，曲柄转速n1。 要求：设计连杆机构, 作机构运动简图、机构1～2个位置的速度多边形和加速度多边形、滑块的运动线图。以上内容与后面的动态静力分析一起画在l号图纸上。 1.2机构的动态静力分析 已知：各构件的重量G及其对质心轴的转动惯量Js(曲柄1和连杆4的重力和转动惯量（略去不计)，阻力线图(图9—7)以及连杆机构设计和运动分析中所得的结果。 要求：确定机构一个位置的各运动副中的反作用力及加于曲柄上的平衡力矩。作图部分亦画在运动分析的图样上。 1.3飞轮设计 已知：机器运转的速度不均匀系数δ．由两态静力分析中所得的平衡力矩Mb;驱动力矩Ma为常数，飞轮安装在曲柄轴A上。 要求：确定飞轮转动惯量J。以上内容作在2号图纸上。 1.4凸轮机构构设计 已知：从动件冲 程H，许用压力角 [α ]．推程角δ。，远 休止角δ?，回程角δ'， 从动件的运动规律见 表9-5，凸轮与曲柄共 轴。 要求：按[α]确定 凸轮机构的基本尺 寸．求出理论廓 线外凸曲线的最小曲 率半径ρ。选取滚子 半径r，绘制凸轮实际 廓线。以上内容作在 2号图纸上 压床机构设计 二、连杆机构的设计及运动分析
结构及工作原理 1. 本机主要由下列部件组成 抛丸室与室体防护板、抛丸器、弹丸循环系统、托辊机构、转刷、吹刮丸机构、气动系统、电气控制系统等。 2. 机器的工作原理 被清理的工件由用户提供的动力压辊机构拉紧送至抛丸室，由两台清理机组成，第一台粗抛、第二台精抛，抛丸机每台设4台抛丸器分别对着带钢的上表面或下表面），将清理工件的弹丸加速，击打带钢的外表面。使带钢在运行过程中将带钢表面上的氧化皮或锈斑清除掉，清理后的混合弹丸由两套纵、横向螺旋输送器送至提升机下部，经提升机由螺旋输送器将弹丸送入分离器内，分离器将锈氧化皮等混合物分开，合格弹丸经闸门进入抛丸器继续使用；中间弹丸（未完全分离干净）回室体内再循环；破碎弹丸及灰尘排出并进入废料箱（用户自备）。 3. 各部件主要结构 3.1抛丸器由钢板焊接而成，采用无型钢骨架结构，室体内衬有金属防护板，用耐磨的包铸螺母固定在室体上。 室体上共设八扇维修工作门，门体上侧设有触点开关，无论那扇门开启时，抛丸器都不启动。结构及工作原理 1. 本机主要由下列部件组成 抛丸室与室体防护板、抛丸器、弹丸循环系统、托辊机构、转刷、吹刮丸机构、气动系统、电气控制系统等。 2. 机器的工作原理
被清理的工件由用户提供的动力压辊机构拉紧送至抛丸室，由两台清理机组成，第一台粗抛、第二台精抛，抛丸机每台设4台抛丸器分别对着带钢的上表面或下表面），将清理工件的弹丸加速，击打带钢的外表面。使带钢在运行过程中将带钢表面上的氧化皮或锈斑清除掉，清理后的混合弹丸由两套纵、横向螺旋输送器送至提升机下部，经提升机由螺旋输送器将弹丸送入分离器内，分离器将锈氧化皮等混合物分开，合格弹丸经闸门进入抛丸器继续使用；中间弹丸（未完全分离干净）回室体内再循环；破碎弹丸及灰尘排出并进入废料箱（用户自备）。 3. 各部件主要结构 3.1抛丸器由钢板焊接而成，采用无型钢骨架结构，室体内衬有金属防护板，用耐磨的包铸螺母固定在室体上。 室体上共设八扇维修工作门，门体上侧设有触点开关，无论那扇门开启时，抛丸器都不启动。 结构及工作原理 1. 本机主要由下列部件组成 抛丸室与室体防护板、抛丸器、弹丸循环系统、托辊机构、转刷、吹刮丸机构、气动系统、电气控制系统等。 2. 机器的工作原理 被清理的工件由用户提供的动力压辊机构拉紧送至抛丸室，由两台清理机组成，第一台粗抛、第二台精抛，抛丸机每台设4台抛丸器分别对着带钢的上表面或下表面），将清理工件的弹丸加速，击打带钢的外表面。使带钢在运行过程中将带
Nikon光刻机对准系统功能原理 投影光刻机对准系统功能原理 1 对准系统简介 对准系统的主要功能就是将工件台上硅片的标记与掩膜版上的标记对准，其标记的对准精度能达到±0.4μm （正态分布曲线的3σ值）。因为一片硅片在一个工艺流程中的曝光次数可能达到30次，而对准精度直接影响硅片的套刻精度，所以硅片的对准精度非常的关键。 由于对准系统对硅片标记的搜索扫描有一定的范围，它在X方向和Y方向都只能扫描±44μm，所以硅片被传送到工件台上进行对准之前，需要在预对准工件台上先后完成两次对准，即机械预对准和光学预对准，以便满足精细对准的捕捉范围。注意：本文所提到的对准都是所谓的精细对准。 PAS2500/10投影光刻机对准系统主要由三个单位部分构成：照明（对准光源）部分，双折射单元和对准单元。这三个单元与掩膜版、硅片、以及投影透镜的相对位置如图1所示，在图中可以看出，对准系统中用了两个完全相同的光路，这是为了满足对准功能的需要。 1.1 对准系统的光学结构和功能 由于对准系统中的两条完全相同，所以在下面的介绍中只详细地阐述了其中的一条光路。在对准系统中，照明部分的主要部件就是激光发射器，它产生波长为633nm的线性极化光，避免在硅片对准的过程中使硅片被曝光（硅片曝光用的光为紫外光）。然后对准激光将通过一系列的棱镜和透镜进入双折射单元，该激光将从双折射单元底部射出，通过曝光的投影透镜照到硅片的标记上；而经过硅片表面的反射后由原路返回，第二次经过双折射单元，由双折射单元的顶部射出，再经过聚焦后对准到掩膜版的标记上。 在对准单元内，硅片的标记图象和掩膜版标记的图象同时通过一个调制器后，将被聚焦到一个Q-CELL光电检测器上。此调制器是用来交替传送两个极化方向的硅片标记图象，Q-CELL光电检测器将对硅片的标记的每个极化方向图象分别产生一个电信号，由此产生的电信号的振幅取决于该极化方向硅片标记的图象与掩膜版标记图象在Q-CELL的显示比例。 硅片上的对准标记如图2所示，标记分为四个象限，每个象限有8μm或8.8μm的对准条，其中有两个象限的对准条用来对准X向，另外两个象限用来对准Y向。而Q-CELL光电检测器的每一个单元对应标记的一个象限，当在Q-CELL检测器的每一个单元中，两个极化方向的标记图象的能量都相等的时候，就表明硅片与掩膜版的标记完全对准了。从图1中可以看到对准光束在经过对准单元的时候被分成了两束，一束激光将通过调制器到达Q-CELL光电检测器，而另一束激光则以视频的形式反馈到操作台。通过操作台上的视频监视器可以直观的看到标记的移动和对准不同标记时位置的相对变化。虽然是两个不同极化方向的硅片标记与掩膜版标记同时对准，但是由于它们是同步的，彼此之间几乎看不到有何不同，所以只有一个极化图象被显示。 1.2 对准系统的电路部分 对准系统的电路部分主要的功能是： 1、产生一个信号去驱动光学调制器。 2、处理Q-CELL光电检测器产生的信号。 光学调制器的驱动：该调制器信号要求频率为50Hz的正弦信号，其振幅要求能满足对最大的Q-CELL检测信号起调制作用。 Q-CELL检测信号的处理：在对准的时候，工件台将首先沿X轴向缓慢地带动E-CHUCK上的硅片移动，进行X轴向对准，当硅片标记上X向光栅与对应的掩膜版上X向光栅对准时，将产生一个对准电信号，该信号以中断信号的形式输入计算机，X向对准的两个象限光栅都将产生其各自的中断信号。当产生中断信号的同时，计算机将记录下此时工件台的位置。在X向对准的时候，一个标记中两个象限的光栅同时参与，在每个象限中光栅条纹之间的间距是一个恒定的常数，但是这两个象限的光栅条纹间距并不相同，如图2所示。在对准扫描的过程中，每一个象限中的每一条光栅条纹都将会产生各自的一个中断信号，由于两个象限的光栅条纹间距不同，所以在扫描的时候只能有一个点将同时产生两个中断信号，而这个点就是在X
光刻机的技术原理和发展趋势 王平0930******* 摘要： 本文首先简要介绍了光刻技术的基本原理。现代科技瞬息万变，传统的光刻技术已经无法满足集成电路生产的要求。本文又介绍了提高光刻机性能的关键技术和下一代光刻技术的研究进展情况。 关键字：光刻；原理；提高性能；浸没式光刻；下一代光刻 引言： 光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸，是大规模集成电路制造的关键工艺。作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。因此，了解光刻技术的基本原理，了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。本文就以上几点进行了简要的介绍。 光刻技术的基本原理： 光刻工艺通过曝光的方法将掩模上的图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上，然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到硅片上。 1、涂胶 要制备光刻图形，首先就得在芯片表面制备一层均匀的光刻胶。截止至2000年5月23日，已经申请的涂胶方面的美国专利就达118项。在涂胶之前，对芯片表面进行清洗和干燥是必不可少的。目前涂胶的主要方法有：甩胶、喷胶和气相沉积，但应用最广泛的还是甩胶。甩胶是利用芯片的高速旋转，将多余的胶甩出去，而在芯片上留下一层均匀的胶层，通常这种方法可以获得优于+2%的均匀性（边缘除外）。胶层的厚度由下式决定： 式中：F T为胶层厚度，ω为角速度，η为平衡时的粘度，ρ为胶的密度，t为时间。由该式可见，胶层厚度和转速、时间、胶的特性都有关系，此外旋转时产生的气流也会有一定的影响。甩胶的主要缺陷有：气泡、彗星（胶层上存在的一些颗粒）、条纹、边缘效应等，其中边缘效应对于小片和不规则片尤为明显。
一、机构简介 设计垫圈内径检测装置，检测钢制垫圈内径是否在公差允许范围内。被检测的工件由推料机构送入后沿一条倾斜的进给滑道连续进给，直到最前边的工件被止动机构控制的止动销挡住而停止。然后，升降机构使装有微动机关的压杆探头下落，检测探头进入工件的内孔。此时，止动销离开进给滑道，以便让工件浮动。设计数据选择方案B，设计要求见表1。 表1 二、执行机构的选择与比较 方案一： 如图1-1，止动销与曲柄滑块机构的滑块固联在一起，曲柄做一定速度的匀速转动，带动滑块做往复的上下直线运动，止动销上升过程中止动被测垫圈，下降到一定高度时滑块可继续滑动进入下一个工作环节。 如图1-2，升降机构与曲柄滑块机构的滑块固连在一起，曲柄做一定方向一定速度的匀速转动时，滑块做往复的上下移动，升降机构下降过程中，可以对垫圈的内径进行检测，检测完后，升降机构上升，垫圈进入下一个工作环节，下一个垫圈滑向该位置。 该方案的优点：止动销和升降机构的上下移动达到了预定的工作要求，运动过程容易控制。 该方案的缺点：止动销和升降机构在运动过程中的时间匹配的不严格，容易引起工作空闲。而且四杆机构的惯性力较大，运动不稳定，铰链处摩擦较大，易磨损。
图1 -1 图1-2 方案二： 如图2-1，滑块处于垫圈的右侧，曲柄做一定速度的匀速转动，带动滑块做往复的左右直线运动，滑块移动到左极限位置时，止动垫圈，升降机构开始检测，滑块离开。 如图2-2，升降机构与推杆固联在一起，推杆的上顶点在槽型凸轮的槽内移动，凸轮以一定的角速度转动时，推杆上下往复移动，带动升降机构上下往复移动，升降机构下降过程中，可以对垫圈的内径进行检测，检测完后，升降机构上升，垫圈进入下一个工作环节，下一个垫圈滑向该位置。 该方案的优点：止动销和升降机构的上下移动达到了预定的工作要求，运动过程容易控制。 该方案的缺点：止动销和升降机构在运动过程中的时间匹配的不严格，容易引起工作空闲。而且四杆机构的惯性力较大，运动不稳定，铰链处摩擦较大，易磨损。凸轮与推杆的移动摩擦较大，易磨损。 图2-1 图2-2
令狐文艳 手动喷砂机的设计与工作原理 一、手动喷砂机用途： 上海良时专业设计制造的手动喷砂机，专用于小批量产品(重量小于20kg)工件外表面湿喷砂处理，达到表面光饰、清除毛刺、氧化皮等要求，亦可用于电镀前处理,如有其它的特别要求,需要重新设计手动湿喷砂机。 二、工作原理： 本机采用吸入式喷砂，即利用压缩空气负压将机内磨液贮箱里的砂水混合料通过输砂管吸入喷枪内，然后随压缩空气流由喷嘴高速射到工件表面，达到湿喷砂加工目的。 三、喷砂特点： 1．砂液循环使用，耗砂低，喷嘴磨耗小，成本低。
2．密闭性佳，不会产生粉尘污染。 3．操作简单，故障少、密闭式空间，噪音低。 4．具窗口清洗功能，使用时视线佳。 5．不锈钢制之机身，经久耐用。 6．配备清水清洗枪，可手动清洗工件。 7．工作区域内设置有过滤网，目的是为了防止工人在上班工作时不小心或者由于机器故障的原因，较大杂物掉入高压砂泵槽内，损坏高压砂泵的叶片，造成不应有的损失而影响正常的生产。 四、加工范围： 适用于小批量产品(每次加料约15～20kg)表面湿喷砂。 五、喷砂介质：
46#～120#白刚玉、棕刚玉、玻璃珠等多种砂料。 六、加工效率： 使用φ8mm喷嘴时，理论喷砂效率约2～3m2/分钟，实际喷砂效率以产品喷砂效果定。 七、喷砂加工流程： 本机喷砂加工时，工人只进行开关机的操作和装入工件的工作，其余完全由机器完成,其工作程序如下： 1．喷砂前，工人应检查机舱底部的磨液是否全部将砂泵的叶轮淹没，水和砂料的比例是否符合喷砂的工艺要求，然后打开总电源开关，启动照明开关，启动排雾风扇。 2．喷砂前工人将一定量的工件放入机舱内(工件放入量由加工工件的大小而定，最重≤20kg)后关闭舱门。 3．启动主机电源，操作者用手握牢喷枪，然后用脚踩住气囊开关启动喷枪，用喷枪按所需角度方位对工件进行喷砂。